「process temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(87ページ目) - Weblio英語例文検索

The mixture is heated at a temperature and for a time enough to vulcanize the elastomer material, while mechanical energy is applied to blend the mixture during the heating process.例文帳に追加

組成物は、キュアリング剤、未硬化フルオロカーボンエラストマー、官能性充填剤および熱可塑性材料を結合することにより製造され、混合物はエラストマー材料を加硫するのに十分な温度および時間加熱され、その間機械的エネルギーが加熱工程の間混合物を混合するために適用される。 - 特許庁

To produce a thermally adhesive conjugate fiber which has excellent thermal adhesivity to polyester fibers including polyethylene terephthalate fibers at low temperature, and can give a nonwoven fabric having a soft touch without generating a trouble caused by the thermally adhesive component on the production process.例文帳に追加

ポリエチレンテレフタレートをはじめとするポリエステル繊維に対する低温での熱接着性に優れ、かつ熱接着性成分に起因する、製造工程でのトラブルが発生することなく、且つ柔らかい風合いを有する不織布を提供することのできる熱接着性複合繊維を提供すること。 - 特許庁

Process temperature for the atmosphere is controlled in accordance with the pressure in the atmosphere, and partial pressures of the hydrogen gas and that of the water vapor in the atmosphere are controlled and the separation performance of the hydrogen isotope from the hydrogen gas through the hydrogen-water chemical exchange reaction is controlled.例文帳に追加

次いで、前記雰囲気内の圧力に応じて前記雰囲気に対するプロセス温度を制御し、前記雰囲気内における前記水素ガスの分圧及び前記水蒸気の分圧を制御し、水素−水化学交換反応を通じた前記水素ガスからの前記水素同位体の分離性能を制御する。 - 特許庁

This manufacturing method of a semiconductor device comprises a forming process of forming a separation permissible film for adjusting the quantity of impurity separated from a gate electrode on the surface of the gate electrode, at a temperature where the separation of the impurity from the source electrode and the drain electrode can be blocked.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、ソース電極及びドレイン電極からの不純物の離脱を阻止可能な温度で、ゲート電極の表面に、当該ゲート電極から離脱する不純物の量を調整するための離脱許容膜を形成する形成工程を含む。 - 特許庁

To realize an image forming process in which a toner layer which does not incorporate reversed toner or the like is formed on a developing roller and that is cleanerless by realizing low stress coating capable of coping with toner for low temperature fixing by remarkably reducing a load applied to nonmagnetic toner at a developing time.例文帳に追加

現像時に非磁性トナーにかかる負荷を著しく低減して、低温定着用トナーにも対応可能な低ストレスコートを実現し、現像ローラ上に反転トナー等を含まないトナー層を形成でき、クリーナレスな画像形成工程を実現できる等の画像形成装置である。 - 特許庁

The environmentally harmful substance is treated by dechlorination and reduction reaction using electrons 9 emitted from a carbon nanotube (CNT) electron source 7 and the acceleration thereof, and can consequently be decomposed and rendered harmless without the need of a high temperature in a treatment process and without producing harmful substances.例文帳に追加

カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）電子源７から放出される電子９およびその加速を用いて、上述した環境有害物質を脱塩素化および還元反応によって処理すれば、処理過程で高温を必要とせず、有害物質を出すことなく分解無害化処理が可能である。 - 特許庁

The method comprises a film formation process for carrying out film formation treatment by exhausting a vacuum tank while supplying reaction gas into the vacuum tank by a turbo-molecular pump and setting a cryocooling panel connected to the turbo-molecular pump at a temperature wherein reaction gas hardly liquifies.例文帳に追加

本発明では、ターボ分子ポンプによって、前記真空槽内に反応ガスを供給しつつ真空槽内を排気し、前記ターボ分子ポンプに接続されるクライオ冷却パネルを反応ガスが液化しにくい温度に設定することで成膜処理を行う成膜工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for producing an aromatic hydroxycarboxylic acid by an environmentally compatible process at room temperature and ordinary pressure using a newly found aerobic microorganism which catalyzes a reaction of carbon dioxide fixation to the benzene ring of an aromatic hydroxy compound such as phenol or a polyphenol.例文帳に追加

フェノールおよびポリフェノールなどの芳香族ヒドロキシ化合物のベンゼン環への二酸化炭素固定反応を触媒する好気性の微生物を見出し、これを利用した常温、常圧の環境調和型プロセスによって芳香族ヒドロキシカルボン酸を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer circuit wiring board which can assure the reliability even under a temperature variation of electrical joining in a solder reflowing process which is carried out to electrically join a semiconductor element with the multi-layer circuit wiring board and a mounting substrate using the multilayer circuit wiring board.例文帳に追加

半導体素子を多層回路配線板に電気的接合するために行うハンダリフロー過程の電気的接合の温度変化に対しても、信頼性を保証することができる多層回路配線板及びこの多層回路配線板を用いた実装基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

Gas generated from a sample in a process for raising a furnace temperature at an optional time ratio is sucked by a vacuum pump together with the air inside this thermal desorption gas analyzer and sent into an analysis chamber, and then, a gas concentration inside the analysis chamber is detected by a high-precision gas sensor, and recorded in a controller.例文帳に追加

加熱炉温度を任意の時間割合で上昇させる過程で試料から発生したガスを昇温脱離ガス分析器内部の空気と共に真空ポンプで吸引し分析室に送った後分析室内部のガス濃度を高精度ガスセンサーで検出しコントローラーに記録する。 - 特許庁

To block minute holes in a diaphragm generated in a manufacturing process of calcining a natural diaphragm material containing various organic matters at a high temperature in manufacturing an acoustic diaphragm having a high carbonization rate, and to prevent the deterioration of a tone when the diaphragm is used as a speaker.例文帳に追加

高炭化率音響振動板を製造するにあたって、様々な有機物を含んでなる自然振動板材料を高温で焼成する製造工程中で発生する振動板中の微細な孔をふさぐとともに、該振動板をスピーカとして使用した場合の音色の劣化を防止する。 - 特許庁

To provide a fixing device surely controlling energizing to a heating roller with a hardware architecture even when control by a software process such as a CPU is disabled when surface temperature of a heating roller becomes abnormal.例文帳に追加

加熱ローラの表面温度が異常になった場合に、ＣＰＵなどのソフトウエア処理による制御が不能になったときでも、ハードウエア的な構成で加熱ローラへの通電を確実に制御することができる定着装置及び該定着装置を備える画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide the forming method of semiconductor element, which is capable of preventing the change of threshold voltage of a gate due to TED by effecting the forming process of the semiconductor element while utilizing the optimal temperature and an oxidized film substance which are capable of preventing the diffusion of channel ion.例文帳に追加

チャンネルイオンの拡散を防止することができる最適の温度及び酸化膜物質を利用して半導体素子の形成工程を行うことにより、ＴＥＤによるゲートのしきい値電圧の変化を防止することができる半導体素子の形成方法を提供する。 - 特許庁

A process for decomposing the carbon fluorides is constituted such that gaseous perfluorocarbon or hydrofluorocarbon is brought into contact with a reaction agent consisting of a carbonaceous solid material and an alkali earth metal compound in the presence of oxygen gas of 20 vol.% or less (not containing 0%) at a temperature 300°C or more.例文帳に追加

パーフルオロカーボンまたはハイドロフルオロカーボンの気体を、炭素質固体材料とアルカリ土類金属化合物とからなる反応剤に、３００℃以上の温度で且つ２０vol.％以下（０％を含まず）の気体酸素の存在下で接触させることからなる弗化炭素類の分解法。 - 特許庁

To provide a method for producing vinyl chloride by which vinyl chloride can be produced with a high conversion rate and high selectivity by catalytic cracking of 1,2-dichloroethane that is practicable in a lower temperature region than a conventionally known thermal decomposition method, and miniaturization of an apparatus or simplification of a process can be achieved.例文帳に追加

従来公知の熱分解法に比して低温領域での実施が可能な１，２−ジクロロエタンの接触分解により、高転化率、高選択率で塩化ビニルを製造でき、装置の小型化或いはプロセスの簡素化を実現し得る塩化ビニルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image fixing unit and an image forming apparatus with a heat source, which can heat a body to be heated at a desired heat distribution and high temperature with high efficiency, start speedily and reduce energy consumption in a fixing process.例文帳に追加

本発明は、定着処理において被加熱体を所望の配熱分布で、高温度で効率高く加熱することができるとともに、立ち上がりが早く、エネルギー消費を低減することができる熱源を有する画像定着装置及び画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide toner which reconciles low-temperature fixability with anti-hot-offset properties and can form a fog-free good image with good hot storage stability and productivity, and to provide a process cartridge using the toner and excellent in image quality, and an image forming apparatus with a contact charging device.例文帳に追加

低温定着性と耐ホットオフセット性を両立させ、さらに熱保存性、生産性、かぶりのない良好な画像を形成することができるトナー、該トナーを用いた画質の優れたプロセスカートリッジ及び接触帯電装置を有する画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide image forming material and an image forming device capable of attaining the stable image quality of a fixed image by solving various problems such as energy consumption, thermal stress on a recording/holding body, the installation of a cooling process without causing various failures as for a low-temperature fixation.例文帳に追加

低温定着に関する各不具合を発生させずに、エネルギー消費、記録保持体への熱ストレス、冷却工程設置の問題を解決して定着画像の安定した画像品質を達成することができる像形成物質及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having high sensitivity and excellent optical response, free of lowering of those properties even when used in a low temperature environment or in a high-speed electrophotographic process or even when exposed to light, and ensuring little deterioration due to fatigue after repeated use.例文帳に追加

高感度で、光応答性に優れ、低温環境下や高速の電子写真プロセスで用いられた場合または光に曝された場合でもそれらの特性が低下せず、かつ繰返し使用された際の疲労劣化の少ない信頼性の高い電子写真用感光体の提供。 - 特許庁

To provide a toner with which peeling and embedding of an external additive over time hardly occur, the fluidity of the toner is stable despite environmental change of temperature and humidity, and a high quality image can be formed, and a developer, a toner-filled container, a process cartridge, a image forming method, and an image forming apparatus.例文帳に追加

経時での外添剤の剥れ、埋没が起こりにくく、かつ温湿度環境の変化に対してトナーの流動性が安定であり、高画質画像を形成できるトナー、並びに現像剤、トナー入り容器、プロセスカートリッジ、画像形成方法、及び画像形成装置の提供。 - 特許庁

To provide an aqueous adhesive composition allowing ease of work, developing sufficient waterproof adhesiveness in cold pressing and exhibiting stable viscosity over temperature change, thereby having stable coating characteristics or adhesive strength and causing no adhesion to an iron press in pressing during a bonding process.例文帳に追加

冷圧で十分な耐水接着性を発現し、また温度変化による安定した粘度を示すことにより、安定した塗工性又は接着強度を有し、更には接着工程の圧締時における鉄製プレスへの付着のない作業性に優れた水性接着剤組成物を提供する。 - 特許庁

In the multistage bleaching process including ≥2 chlorine dioxide bleaching stages, bleaching efficiency of the final chlorine oxide bleaching stage is enhanced by treating pulp with an acid, subsequently carrying out the first stage of the chlorine dioxide bleaching stages at 80-110°C high reaction temperature and in acidic pH after finishing the reaction.例文帳に追加

二酸化塩素漂白段を２つ以上含む多段漂白工程において、パルプを酸処理した後、二酸化塩素漂白の初段を反応温度80〜110℃の高温で、且つ、反応終了後のpHが酸性で行うことにより、後段の二酸化塩素段の漂白効率を高めることができる。 - 特許庁

To provide a molded item for optical applications that exhibits excellent adhesion to other resins, coating agents or the like, is suitable for adhesion particularly under a temperature condition for drying in a practical process and exhibits excellent optical properties, and an imide resin used for manufacturing the film.例文帳に追加

他樹脂やコーティング剤等との接着性に優れ、特に実際の工程において乾燥が施される温度条件における接着性に好適な、且つ光学特性に優れる光学用成形体、及びフィルムを製造する為に使用するイミド樹脂を提供する事を目的とする。 - 特許庁

In a process for producing a hydroxyalkyl ester by reacting a carboxylic acid with an alkylene oxide in a reaction vessel 1 in the presence of a catalyst, the reaction is stopped by introducing a reaction-stopping solution 21 containing ≥50 wt.% of water and having -5-45°C low temperature into the reaction vessel 1.例文帳に追加

反応器１中、触媒の存在下でカルボン酸とアルキレンオキシドとを反応させてヒドロキシアルキルエステルを製造するプロセスにおいて、水を５０重量％以上含有する、−５〜４５℃の低温の反応停止液２１を反応器１に導入することにより、反応を停止させる。 - 特許庁

To provide a conducting sheet laminate which exhibits a sufficient anchor effect by mitigating or eliminating an adverse effect of a significant residual stress attributed to the formation of a brittle alloy layer in a joint interface resulting from a high temperature process and a high rolling ratio joint and a part using the conducting sheet laminate.例文帳に追加

高温プロセスに伴う接合界面での脆弱合金層の形成や、高圧延率接合に伴う大きな残留応力などの悪影響を軽減もしくは排除し、充分なアンカー効果を発現可能な導電板積層体および導電板積層体を用いた部品の提供。 - 特許庁

This manufacturing method for the tire includes a heating process comprising inner heating for heating a green tire from an inner cavity side by filling a high-temperature heating medium into the inner cavity of the green tire charge-held in a molding die, and outer heating for heating the green tire from an outer face side by heating a molding die.例文帳に追加

金型内に装填した生タイヤのタイヤ内腔内に、高温の加熱媒体を充填して前記生タイヤをタイヤ内腔側から加熱する内側加熱と、前記金型を加熱して前記生タイヤをタイヤ外面側から加熱する外側加熱とからなる加熱工程を含む。 - 特許庁

Consequently, even when the inserting part 10 receives the thermal load in the high temperature/high pressure sterilizing process so as to soften a skin layer, the outer diameter dimension of the flexible tube 15 is prevented from being increased since the force for reducing the diameter dimension normally works in the spiral tube 15a.例文帳に追加

このことにより、挿入部１０が高温高圧蒸気滅菌工程における熱負荷を受けた際、外皮層が軟化した場合でも、この螺旋管１５ａには常に径寸法を縮める方向の力が作用しているので、可撓管１５の外径寸法が増加することが防止される。 - 特許庁

Further, regarding this method, an iridium oxide film is formed by a reactive sputtering process where, using a target comprising iridium, sputtering is performed while introducing an oxygen-containing gas under the conditions where film deposition temperature is 275 to 400°C and sputtering pressure is 0.69 Pa (5.2 mTorr) to 1.09 Pa (8.2 mTorr).例文帳に追加

また、イリジウムを含むターゲットを用い、酸素を含むガスを導入しながらスパッタリングする反応性スパッタリング法により、成膜温度が２７５℃以上４００℃以下の条件およびスパッタ圧力が０．６９Ｐａ（５．２ｍＴｏｒｒ）以上１．０９Ｐａ（８．２ｍＴｏｒｒ）以下の条件下で、イリジウム酸化膜を形成する方法である。 - 特許庁

To provide a substrate-processing apparatus with a plurality of process gases alternately supplied to the processing chamber for processing substrates, wherein the evacuation pipe clogging by reaction by-products is suppressed, even if the exhaust pipe is prolonged, by preventing the occurrence of a low-temperature region in the evacuation pipe, on the secondary side of a vacuum pump.例文帳に追加

処理室に複数の処理ガスを交互に供給して基板を処理する基板処理装置において、真空ポンプの２次側の排気管から低温部を無くすことによって、排気管の配管長が長くなっても、反応副生成物による排気管の詰まりを抑制できるようにする。 - 特許庁

To provide a producing method and a producing device of optical information recording medium which enables to make the initialization process unnecessary or performing the same in a short time by precisely controlling a temperature of the substrate just before being charged into a recording layer forming chamber with a low-cost method, and a low-cost optical information recording medium thereby.例文帳に追加

記録層成膜室に投入される直前の基板温度を、安価な方法で精度良く制御し、初期化プロセスが不要かあるいは短時間で行うことが可能な光情報記録媒体の製造方法、製造装置及びこれによる安価な光情報記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a convenient washing and drying machine with which the figures of display can be easily read by preventing bedewing on a display part by preventing the air of high temperature and high humidity from being stagnant under a top cover even when such air rises from a spinning tub or outer tub to there during a drying process.例文帳に追加

乾燥行程中に高温多湿の空気が洗濯兼脱水槽や外槽からトップカバーの下方に上昇してきても、ここに滞留することを防止して表示部が結露することを防ぎ、表示の数字を読み取りやすくして使い勝手のよい洗濯乾燥機を得る。 - 特許庁

To provide an apparatus for removing foreign materials, enabling a polymer to be produced efficiently for a long period of time without sticking volatile substances such as a stabilizer and a lubricant on the inner surface of a low temperature part of a high vacuum line in the process of desolvation of a polymer manufacturing plant.例文帳に追加

重合体製造プラントの脱溶剤を行う工程であって、高真空ラインの低温部の内面に、安定剤や滑剤といった揮発性の物質を固着させずに、長時間効率的に重合体の製造を可能にする異物除去装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a copper alloy film which can attain resistance reduction in a process temperature region of a wiring film of a flat panel display apparatus or the like, can suppress a hillock and a void produced in a copper-based film and has heat resistance and to provide a sputtering target material for forming the copper alloy film.例文帳に追加

平面表示装置等の配線膜のプロセス温度域での低抵抗化が可能であるとともに、Ｃｕ系膜で発生するヒロックおよびボイドを抑制可能な耐熱性を有するＣｕ合金膜とそのＣｕ合金膜を形成するためのスパッタリングターゲット材を提供する。 - 特許庁

To provide a heat-resistant self-fusion-bonding enameled wire that exhibits good thermal fusion bondability in a fusion bonding process and has thermal fusion bondability with practically no problem when used under a high temperature atmosphere and to provide a heat-resistant self-fusion-bonding coating material that is used in the enameled wire.例文帳に追加

融着工程において良好な熱融着力を発現すると共に、高温雰囲気下での使用においても実用上問題のない熱融着力を有する耐熱自己融着性エナメル線およびそれに用いられる耐熱自己融着性塗料を提供する。 - 特許庁

Thereby, tissue surfaces of microorganisms are broken in a process for circulating a part of the raw material heated up by the pressurizing and kneading in the forward direction in the treatment tank while pressurizing and kneading the raw material in the retreating direction and the resultant microorganisms in the raw material are made to stay at ≥70°C temperature for ≥1 min and killed.例文帳に追加

これにより、前進方向の加圧・混練で昇温された原料の一部を後退方向へ加圧・混練しながら処理槽内を循環させる過程で、組織表面を破壊させた微生物を７０℃以上の温度下に１分以上滞留させて原料中の微生物を殺死させる。 - 特許庁

To provide a method for forming a conductive film which is excellent in adhesion with a base, and when light is used for energy, can improve the adhesion in high sensitivity and is excellent in adaptability to a low-temperature process and to provide a method for manufacturing a printed wiring board, which includes the conductive film forming method in steps thereof.例文帳に追加

基材との密着性に優れ、エネルギーに光を使用する場合、高感度で密着性向上を達成しうる低温プロセス適性に優れた導電膜の形成方法、及び、該導電膜の形成方法を工程中に含むプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A drying process is progressed by putting the drying object in a sealed container, decompressing the container to reduce the temperature of saturated vapor pressure, thereby evaporating the moisture of the drying object, intermittently supplying outside air thereto, and then discharging the vapor and air.例文帳に追加

密閉した容器内に被乾燥物を入れて、容器内を減圧し飽和蒸気圧の温度を下げて被乾燥物の水分を蒸発させ、間歇的に外部より空気を送入して後に蒸気と空気を排出することによって乾燥工程を進行せしめて課題を解決する。 - 特許庁

To provide a fluid circulation drying housing capable of improving heat insulating effect by combining an air layer and a fluid circulating/flowing layer as a heat insulating wall surface and controlling a temperature, in the fluid circulation drying housing capable of being provided with a nozzle injection process of a nozzle device.例文帳に追加

ノズル装置のノズル噴射工程を設置できる流体循環乾燥箱体であって、断熱壁面として空気層と流体循環流通層を組み合わせて断熱効果を高め、温度制御ができる流体循環乾燥箱体の提供を目的とする。 - 特許庁

As a result of this, it becomes clear that growth process of tangle and fucoidan content are not in proportion to each other, and that it is not true that the minuter a crushing particle diameter becomes, the better, and that even if a crushing particle diameter is the same, for instance, a crushing temperature makes difference in a remaining fucoidan amount.例文帳に追加

その結果、コンブ類の成長過程とフコイダンの含有量は比例していないことを解明し、また、粉砕粒径も微細であればある程良いわけでもないし、例えば、粉砕粒径が同じであっても、粉砕温度によって残存するフコイダンの量に差が生じる事が判明した。 - 特許庁

To provide a lamp system with a ballast which supplies a stable standard voltage without being affected by the temperature or the dispersion at a resistor manufacturing process, preventing a sharp alteration of the standard voltage when controlling the light, and enabled to perform the light control and on/off control by one terminal.例文帳に追加

抵抗製造工程におけるバラツキや温度に影響を受けずに安定した基準電圧を提供し、調光制御時の急激な基準電圧の変化を防止し、調光制御とオン／オフ制御を一個の端子で行える安定器を備えたランプシステムを提供する。 - 特許庁

A forming process of a resist film on a semiconductor wafer includes first step of coating a resist solution on the wafer, a second step of spreading the resist solution over the entire wafer and adjusting the film thickness to a prescribed level, and a third step of treating the wafer with the resist film by heat at a prescribed temperature.例文帳に追加

半導体ウエハへのレジスト膜の形成工程は、レジスト液をウエハに塗布する第１工程と、レジスト液をウエハ全体に拡げて所定の膜厚に調整する第２工程と、レジスト膜が形成されたウエハを所定の温度で熱処理する第３工程とを有する。 - 特許庁

In a third process, the substrate 1 is heated at a specified temperature in such environment as a group V material is supplied in vacuum, and the group III atom is released by priority from the exposed part of the substrate surface for hopping on the reformed mask part 3, thereby forming a dimple 4 in the exposed part.例文帳に追加

第３工程では、真空にＶ族原料を供給した環境下で前記基板１を所定温度で加熱することで、前記基板表面の露出部分からIII族原子を優先的に剥離させて前記改質マスク部３上をホッピングさせ、当該露出部分に窪み４を形成する。 - 特許庁

This method for producing the polyoxymethylene copolymer comprises the following process: A crude polyoxymethylene copolymer after polymerization is subjected to catalyst deactivation followed by degassing at reduced pressures for 20 min or longer at a temperature higher than the melting point of the crude copolymer using a horizontal self-cleaning type twin-screw kneader and then further degassing at reduced pressures using a twin-screw extruder.例文帳に追加

重合粗ポリオキシメチレン共重合体を、触媒失活させた後、横型セルフクリーニング型２軸混練機を用い、粗ポリマーの融点以上で２０分以上減圧脱揮した後に、更に２軸押出機を用い減圧脱揮を行うポリオキシメチレン共重合体の製造方法。 - 特許庁

Light used in a crystal separation process is, e.g. light emitted from a Q-switched Nd:YAG laser apparatus or the like, and its irradiation conditions are, e.g. an emission wave length of 355 nm, irradiation intensity of 400-600 mJ/cm^2, and a temperature of the substrate of 1,150-600°C.例文帳に追加

結晶分離工程で用いる光は、例えばＱスイッチドＮｄ：ＹＡＧレーザ装置からの出力光等が有用で、照射条件は、例えば、発光波長：３５５ｎｍ、照射強度：４００〜６００ｍＪ／ｃｍ^２ 、下地基板の温度：１１５０℃〜６００℃で行う。 - 特許庁

After a prescribed treatment comprising a heat treatment process for forming an integrated circuit at a temperature of 450°C or higher is performed to the substrate pieces 1, a layer 3 deposited on the rear of the holder 2 is removed by etching or a treatment similar to the etching and the individual substrate pieces 1 are separated from the holes formed in the spacers 9.例文帳に追加

これにより、従来の半導体ウエハより小さいが、それから形成される、又はより大きな直径の半導体ウエハから形成される、又はその上に半導体層が形成された材料から形成される、個々の基板のピース１上で行われる。 - 特許庁