「projection system」に関連した英語例文の一覧と使い方(101ページ目) - Weblio英語例文検索

The bathroom TV system 1 is provided with, as main components, a dedicated TV tuner 11, a projector 6 installed in a dressing room 3, a transmission type screen 8 for back projection and super-hydrophilic coating materials 9 provided on the both surfaces of a bathroom glass door 7, and bathroom remote controller 5 having a function for supplying a video image and a sound.例文帳に追加

浴室ＴＶシステム１は、専用のＴＶチューナ１１と、脱衣室３内に設置されたプロジェクタ６と、浴室ガラスドア７の両面に設けられた背面投射用の透過型スクリーン８及び超親水コーティング材９と、映像音声を供給する機能を有する浴室リモコン５と、を主要構成として備えている。 - 特許庁

The apparatus further includes a polarization filter in the radiation beam path between at least part of the projection system and the substrate, such that only radiation corresponding to either the partial portions or the rest of the discrete areas is incident on the target portion of the substrate, where the polarization filter is configured to selectively transmit parts of the radiation beam having a polarization of only one of the first and second polarizations.例文帳に追加

この装置は、投影系の少なくとも一部と基板との間の放射ビームの経路に、分離した領域の一部分または残り部分のいずれか一方に対応する放射のみが基板のターゲット部分に入射するように、第１および第２偏光状態のうち一方のみの偏光状態を有する放射ビームの部分を選択的に通過させる偏光フィルタをさらに備える。 - 特許庁

An image processing means 121 changes a method of processing an image (such as changing the mask pattern used in the edge emphasizing process as the image processing) for a read image obtained by a microfilm scanner 110 based on the information on the optical system (such as about the type or the zoom magnification of a projection lens, etc.), of the microfilm scanner 110.例文帳に追加

画像処理手段１２１は、マイクロフィルムスキャナ１１０が有する光学系に関する情報（投影レンズのタイプ又はズーム倍率等）に基づいて、マイクロフィルムスキャナ１１０で得られた読取画像に対する画像処理方法を変更（画像処理としてのエッジ強調処理で使用するマスクパターンの変更等）する。 - 特許庁

A projector includes: an irradiation device that includes a plurality of emitters and a plurality of optical integrators disposed corresponding to the plurality of emitters and projects light; an optical modulator in which image data is line-sequentially written and on which the light from the irradiation device is projected; and a projection optical system that projects the light modulated by the optical modulator.例文帳に追加

プロジェクターは、複数の発光器、及び複数の発光器に対応して配置される複数のオプティカルインテグレータを含み、光を射出する照射装置と、画像データが線順次に書き込まれ、照射装置からの光が照射される光変調素子と、光変調素子で変調された光を投射する投射光学系と、を備える。 - 特許庁

Disclosed are the light source unit for annular light irradiation, which guides pieces of luminous flux emitted by a plurality of laser light sources arranged at equal intervals on a circumference concentric with the optical axis of a multi-mode optical fiber and projects annular luminous flux from the projection port of the multi-mode optical fiber, and an optical system using the same.例文帳に追加

本発明は、マルチモード光ファイバーの光軸に対して同心円周上に等間隔で配置された複数のレーザー光源から出射される各光束をマルチモード光ファイバーに導き、このマルチモード光ファイバーの出射口から輪帯光束として出射する輪帯光照射用光源ユニットおよびこれを用いた光システムに関する。 - 特許庁

The second projection optical system 3 includes a polarization controlling element array 19 configured from a plurality of polarization controlling elements for controlling polarization of the plurality of luminous fluxes passing through the plurality of slits of the slit member 18, and an intensity controlling element 21 for controlling the intensity of the plurality of luminous fluxes passing through the polarization controlling element array 19.例文帳に追加

第２の投射光学系３に、スリット部材１８の複数のスリットを通る複数の光束の偏光をそれぞれ制御する複数の偏光制御素子からなる偏光制御素子アレイ１９と、偏光制御素子アレイ１９を透過した複数の光束の強度を調整する強度調整素子２１とを設ける。 - 特許庁

Furthermore, it has structure where third and fourth sirocco fans 56 and 57, having symmetrical shape and arranged on both right and left sides while holding the projection lens 49 in between, are provided, and air is sent to the optical system unit 30 via ducts 58 and 59 along the bottom part of an external cabinet from the third and the fourth sirocco fans 56 and 57.例文帳に追加

さらに、投射レンズ４９を挟んで左右両側に配置される対称形状の第３及び第４のシロッコファン５６，５７を設け、この第３及び第４シロッコファン５６，５７から外装キャビネットの底部に沿ったダクト５８，５９を介して光学系ユニット３０に送風する構造とする。 - 特許庁

An image compositing means 13 determines, according to the location coordinate data of each orthographic road image measured by the vehicle location measuring means, the world coordinate and direction of the orthographic road image, and arranges each orthographic road image on a horizontal plane of projection in the determined world coordinate system respectively to composite a linked road image.例文帳に追加

画像合成手段１３は、各正射道路画像に対して前記車両位置計測手段により計測された位置座標データに基づき、正射道路画像の世界座標及び向きを決定し、各正射道路画像をそれぞれ決定された世界座標系の水平投射面上に配置し連結道路画像を合成する。 - 特許庁

The immersion lithography device including an oil immersion supply device 230 that creates a flow of liquid in an exposure zone, a showerhead that includes an oil immersion discharge device, and a cleaning device that cleans the portion of a projection optical system contacting an immersion liquid with a cleaning gas is provided.例文帳に追加

露光ゾーン内に液体の流れを生成する液浸液供給デバイス２３０および液浸液放出デバイスを含むシャワーヘッドと、液浸液に接触した投影光学システムの部分をクリーニングガスによってクリーニングするクリーニングデバイスとを含む液浸リソグラフィ装置が提供される。 - 特許庁

The projection system comprises decreasing the etendue of a light source by providing a portion of the light source with a reflection mirror and subjecting a partial surface of a valve of the light source to reflection coating and branching the beam emitted from the light source by a wavelength, then scrolling the branched beams by a spiral cylinder lens array.例文帳に追加

光源の一部に反射鏡を設けたり、光源のバルブの一部面に反射コーティングを行うことによって光源のエテンデューを減らし、光源から照射されたビームを波長によって分岐させ、分岐されたビームをスパイラルシリンダーレンズアレイによりスクロールさせることを特徴とするプロジェクションシステム。 - 特許庁

An optical system includes: a light source section 11; a color wheel 12 for separating the color of light from the light source; a rod integrator 13; an illuminating lens group 14; a lens type mirror 15 by which illuminating light is reflected and condensed; a field lens 16; a DMD 17 that is a space light modulating element; and a projection lens 18.例文帳に追加

光学系は、光源部１１、光源光を色分解するカラーホイール１２、ロッドインテグレータ１３、照明レンズ群１４、照明光を反射させるとともに集光させるレンズ型ミラー１５、フィールドレンズ１６、空間光変調素子であるＤＭＤ１７、投影レンズ１８によって構成されている。 - 特許庁

In an exposure method in which a wafer 14 is exposed to light through the intermediary of a reticle 11 and a projection optical system 13 by the use of a pulse illuminating light IL as an exposure beam, a correlation between the volume of illuminating light detected through a beam splitter 7 located on an optical path to a reticle 11 and the volume of illuminating light on the wafer 14 are previously obtained.例文帳に追加

露光ビームとしてのパルス照明光ＩＬでレチクル１１、及び投影光学系１３を介してウエハ１４を露光する露光方法において、予めそのレチクル１１までの光路上のビームスプリッタ７を介して検出されるその照明光の光量とそのウエハ１４上での光量との相関関係を求めておく。 - 特許庁

The drive assist system has a rudder angle sensor for detecting a rudder angle controlled by a steering gear of the vehicle, a calculation unit for calculating an predicted trajectory in the moving direction of the vehicle corresponding to the rudder angle detected by the rudder angle sensor, and projection units 25L and 25R installed in the vehicle for projecting an image of the predicted trajectory on a road.例文帳に追加

車両の操舵装置によって操作される舵角を検出する舵角センサと、この舵角センサによって検出された舵角に対応した車両進行方向の予測軌跡を求める演算手段と、車両に設置され前記予測軌跡の画像を道路面上に投影する投影手段２５Ｌ、２５Ｒとを備える。 - 特許庁

In a controller 22 of a projector 2 which constitutes the projection system 1, a sound information processing part 224 has a sound information modulation part 2242 which modulates sound information to output modulated sound information and a light source drive control part 2243 which performs power variation control for varying power to be supplied to a solid-state light emitting element constituting a light source device 211 based on the modulated sound information.例文帳に追加

プロジェクションシステム１を構成するプロジェクタ２の制御装置２２において、音声情報処理部２２４は、音声情報を変調して変調音声情報を出力する音声情報変調部２２４２と、変調音声情報に基づいて、光源装置２１１を構成する固体発光素子に供給される電力を変動させる電力変動制御を実施する光源駆動制御部２２４３とを備える。 - 特許庁

In the electron beam lithography method, aperture identification data for cell transfer are included in the data processed, in a process of adding an OPC pattern to a designed pattern or converting a designed pattern with an OPC pattern into the lithography data characteristic of the electron beam lithography system, by incorporating aperture data information for cell transfer in the process by applying a cell projection type electron beam lithography method.例文帳に追加

一括露光方式の電子ビーム描画方式を適用し、設計パタンにＯＰＣパタン付加する処理過程あるいはＯＰＣ付きの設計パタンを描画装置固有の描画データに変換する過程に、一括転写用アパーチャデータ情報を組み込み、上記過程で処理されたデータ内に一括転写用アパーチャ識別データを含ませる。 - 特許庁

The wafer stage 11 of the projection aligner does not move and, accordingly, the aligner can shorten processing time, because the position of a wafer stage 11 when a wafer 1 is loaded and unloaded on and from the stage 11 is the same as that of the stage 11 when the base line measurement is made by means of an off-axis alignment optical system.例文帳に追加

本発明の投影露光装置は、ウェハ１をロード・アンロードする際のウェハステージ１１の位置と、オフアクシス方式のアライメント光学系によってベースライン計測する際のウェハステージ１１の位置とが同じ位置であるので、ウェハステージ１１が移動することがなく、処理時間を短縮することができる。 - 特許庁

The projector 1 comprises a lighting device 5 for lighting a light source device 411, by supplying a current by prescribed electric power to the light source device 411; an imaging device 6 for outputting imaging information by imaging image light enlarged and projected by a projection optical system 45; and a control device 7 for driving and controlling the lighting device 5 and the imaging device 6.例文帳に追加

プロジェクタ１は、光源装置４１１に所定電力で電流を供給して光源装置４１１を点灯させる点灯装置５と、投射光学系４５にて拡大投射された画像光を撮像して撮像情報を出力する撮像装置６と、点灯装置５および撮像装置６を駆動制御する制御装置７とを備える。 - 特許庁

To provide a presentation system, that can avoid problems such as non-compatibility of presentation software programs and data files and a damage of a memory medium during its transportation by operating a PC in an office from a conference room and allowing a projection processing section (projector) in the conference room to project an image displayed on a monitor of the PC with magnification through the operation.例文帳に追加

会議室から事務所のＰＣを操作し、その操作によりＰＣに表示される画像を会議室の投影処理部（プロジェクタ）にて拡大投影することでプレゼンテーションソフトやデータファイルの非互換性やメモリ媒体の運搬中における破損等の問題の回避を可能にするプレゼンテーションシステム。 - 特許庁

To provide a dynamic aperture driving apparatus and its controlling method, in which reliable dynamic aperture position control can be performed by detecting and compensating changes in the magnetization intensity of a sensor magnet following peripheral temperature changes in the case of controlling the position of an aperture formed in a projecting optical system of a projection TV or a projector by using the sensor magnet and a hole sensor.例文帳に追加

本発明はセンサマグネットとホールセンサを利用してプロジェクションＴＶ及びプロジェクターの投射光学系に具備されたアパーチャーの位置制御において、周辺の温度変化に伴うセンサマグネットの着磁強度の変化を検出し、それを補償することにより信頼性のあるアパーチャー位置制御が可能なダイナミックアパーチャー駆動装置及びその制御方法に関するものである。 - 特許庁

The projection optical system PL normally has its imaging performance adjusted, so that hardly an aberration is generated with respect to the wavelength of the exposure beam, so that the position of at least one of the mask and sensitive substrate or the relative positions of the both can be detected in scan exposure with high accuray almost without aberrations by using the exposure beam.例文帳に追加

通常、投影光学系ＰＬは露光光の波長に対して収差が殆どないように結像性能が調整されていることから、走査露光中に露光光を用いて殆ど無収差でマスク及び感応基板の少なくとも一方の位置又は両者の相対位置を高精度に検出することができる。 - 特許庁

To achieve high resolution, compact size and a low manufacturing cost of an image display element without installing a mechanical vibrating mechanism, performing complex operation such as deflection of an optical path and reduction of picture elements, changing an optical system of image display equipment of a present projection type, and changing resolution of the image display element.例文帳に追加

機械的な振動機構を設けることなく、光路偏向や画素の縮小等の複雑な操作を行うことなく、また、現行のプロジェクションタイプの画像表示装置の光学系をそれほど変更することなく、画像表示素子の解像度を変えずに、画像表示装置の高解像度、小型化、低製造コストを実現する。 - 特許庁

To provide a reflection element to be used in a projection system having a polarization screen, the element capable of converting a polarization state of image light projected from a projector into a desired state without inducing loss in brightness of the image light, and enabling an image with high contrast to be displayed even in a bright environment.例文帳に追加

偏光スクリーンを備えた投影システムで用いられる反射素子であって、映像光の明るさの損失を生じさせることなく、投影機から出射された映像光の偏光状態を所望のものに変換することができ、かつ、明るい環境光の下でも映像をコントラストよく表示することができる反射素子を提供する。 - 特許庁

The polarized light conversion optical system is equipped with polarized light separating elements 16 and 26 composed of prism composite bodies and reflecting elements 17 and 27, which project four pieces of projection luminous flux in a state corresponding to a lighted area A; while polarized light converting elements 18 and 28 equalize the polarizing directions, the lighted area A is lighted.例文帳に追加

偏光変換光学系は、プリズム合成体からなる偏光分離素子１６、２６と反射素子１７、２７とを備え、これらによって、照明領域Ａに対応する状態で４つの出射光束が射出され、偏光変換素子１８、２８によって、偏光方向が揃えられた状態で、照明領域Ａを照射する。 - 特許庁

The method comprises steps of evaluating (S4) image formation performances of an assembled projection optical system, and carrying out optical adjustment (S6) of at least one of the plurality of crystalline permeable members by having it turned about an optical axis based on the evaluation of the image formation evaluation step.例文帳に追加

組み立てられた投影光学系の結像性能を評価する結像性能評価工程（Ｓ４）と、結像性能評価工程の評価結果に基づいて、複数の結晶透過部材のうちの少なくとも１つの結晶透過部材を光軸廻りに回転させて光学調整を行う光学調整工程（Ｓ６）とを含む。 - 特許庁

This display system has an elastic screen 1 which is made of a flexible material so that the screen surface can be bent, and actuators 3 which support the elastic screen 1 from the back by pushing to deform it, and stores a plurality of projection surface patterns of the elastic screen 1 in a memory.例文帳に追加

伸縮性スクリーン１は、投影面が変形するように伸縮材料で形成され、伸縮性スクリーン１の投影面の反対側から伸縮性スクリーン１を押圧支持し、伸縮性スクリーン１の形状を変形させる複数のアクチュエータ３とを備え、伸縮性スクリーン１の投影面形状パターンを複数記憶しておく。 - 特許庁

The image projection system comprises a liquid crystal projector 10, a personal computer 40 for controlling the liquid crystal projector to display the position mark on the projected image based on an operation signal from a main operating section 52 and a predetermined control program, and a remote controller 20 for the liquid crystal projector.例文帳に追加

液晶プロジェクタ１０と、主操作部５２からの操作信号及び所定の制御プログラムに基づき、液晶プロジェクタを制御し、かつ投射画像上に位置マークを表示させるパーソナルコンピュータ４０と、前記液晶プロジェクタのリモートコントローラ２０と、を含む映像投射システムである。 - 特許庁

To provide a method for creating writing data for electron beam exposure and electron beam writing, and a method for manufacturing a photo mask, an X-ray mask, and a mask for charged beam projection aligning for creating a mask pattern exactly same as a designed value with an existing low accelerating voltage electron beam writing system by a variable shaped method.例文帳に追加

既存の低加速電圧の可変成形法の電子線描画装置を用いて、設計値通りのマスクパターンを作成するための、電子線露光用描画データの作成方法、電子線描画方法及びフォトマスク、X線マスク及び荷電ビーム投影露光用マスク作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The image projection apparatus includes: a light valve holding member to hold the light valve; a prism side holding member attached to a prism constituting a color synthesizing optical system; and a transparent spacer member made to adhere to the light valve holding member and the prism side holding member by using ultraviolet curing resin.例文帳に追加

本発明の画像投射装置は、ライトバルブを保持するライトバルブ保持部材と、色合成光学系を構成するプリズムに取り付けられるプリズム側保持部材と、ライトバルブ保持部材およびプリズム側保持部材に対して紫外線硬化樹脂を用いて接着される透明スペーサ部材とを備えている。 - 特許庁

In this electron microscope with a magnetic image forming energy filter, the energy filter is provided with direction change systems 11-14 arranged symmetrically with one center plane M and a hexapol provided between the direction change systems 11-14 and a projection system succeeding the energy filter in the beam direction.例文帳に追加

磁気形結像エネルギフィルタを有する電子顕微鏡において、前記エネルギフィルタは、１つの中心平面（Ｍ）に対して対称的に配置された方向変換系（１１−１４）を有し、方向変換系と、ビーム方向でエネルギフィルタに後続する投影系との間に設けられたヘクサポール（Hexapol） を有すること。 - 特許庁

In an aligner that lights up a mask by lighting luminous flux having coherent anisotropy, and projects and exposes the pattern of a mask surface onto the light-sensitive substrate by a projection optical system, time for lighting up the light-sensitive substrate is adjusted, thus eliminating the illuminance disturbance that is periodically generated on the light-sensitive substrate.例文帳に追加

コヒーレンスの異方性を有する照明光束でマスクを照明し、該マスク面のパターンを投影光学系によって感光基板上に投影露光する露光装置において、前記感光基板に照明する時間を調整することにより、前記感光基板上に周期的に発生する照度外乱をなくすように構成する。 - 特許庁

The projection optical system PL comprises a plurality of optical systems, disposed on an optical path of an exposure light EL directed from a reticle R toward a wafer W.例文帳に追加

投影光学系ＰＬは、レチクルＲからウエハＷへ向かう露光光ＥＬの光路上に配置される複数の光学素子を含み、これら複数の光学素子のうちの露光光ＥＬの結像位置近傍に配置される光学素子の面形状の形状誤差のうち、０．２ ＜ ＰＤ／ＷＬ ＜ １０．０の範囲内の波長成分に関して、形状誤差のＲＭＳ値で２ｎｍ以下である条件を満足している。 - 特許庁

To provide a slave unit for PLC unit (programmable controller), whereby the problem of mutual interference in a sensing system, having a plurality of translucent photoelectric sensors, can be solved by the control of light projection/reception timing, while moreover eliminating the need for incorporating a program for prevention of mutual interference in the user programs of the PLC.例文帳に追加

透過型光電センサを複数有するセンシングシステムにおける相互干渉の問題を投受光タイミング制御により解決することができ、しかもＰＬＣのユーザプログラム中においては、相互干渉防止のためのプログラムを一切組むことが不要となるようにしたＰＬＣのスレーブを提供すること。 - 特許庁

The method comprises: establishing a power spectral density (PSD) indicative of the spatial frequency of the stray radiation produced by the projection system; and determining, from the PSD, a modulation transfer function (MTF) relating the PSD to the pattern applied by the patterning device in such a way that the effect of flare on the pattern image is taken into account.例文帳に追加

投影システムが生成する迷光放射線の空間周波数を示す電力スペクトル密度（ＰＳＤ）を確立し、フレアがパターン像に及ぼす効果を考慮に入れる方法で、パターニングデバイスが適用するパターンにＰＳＤを関連づける変調伝達関数（ＭＴＦ）を、ＰＳＤから決定する。 - 特許庁

The projection aligner comprises a light source, an optical system, a reticle stage for retaining reticle, a first position adjustment mechanism for adjusting the position of the reticle, a wafer stage for placing a wafer, a plate for correcting aberration provided between the reticle and the wafer, and an angle adjustment mechanism for adjusting the tilt angle of the plate for correcting aberration.例文帳に追加

光源と、光学系と、レティクルを保持可能としたレティクルステージと、前記レティクルの位置を調節可能とした第１の位置調節機構と、ウェーハを載置可能としたウェーハステージと、前記レティクルと前記ウェーハとの間に設けられた収差補正用プレートと、前記収差補正用プレートの傾斜角度を調節可能とした角度調節機構と、を備えたことを特徴とする投影露光装置が提供される。 - 特許庁

In the exposure method where a mask formed with a desired pattern and an auxiliary pattern having dimensions smaller than those of the desired pattern is illuminated and light passed through the masks are projected to a body exposed through a projection optical system, the body is exposed at a position shifted from a best image focusing position when the auxiliary pattern is resolved.例文帳に追加

所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法が小さな補助パターンとを有するマスクを照明して当該マスクを経た光を投影光学系を介して被露光体に投影し露光する露光方法において、前記補助パターンが解像されてしまう場合に、最良結像フォーカス位置からずれた位置で前記被露光体を露光することを特徴とする露光方法を提供する。 - 特許庁

The aligner comprises a projection optical system having a plurality of reflectors (M1-M6) performing exposure and transfer of a pattern formed on a mask onto a photosensitive substrate using extreme ultravoilet light wherein at least one of the plurality of reflectors is held in a state insulated from the outside.例文帳に追加

極端紫外光を用いて、マスクに形成されたパターンを感応基板上に露光転写するための複数の反射鏡（Ｍ１−Ｍ６）を有する投影光学系を備えた露光装置であって、前記複数の反射鏡のうち、少なくとも１つの反射鏡を外部と絶縁した状態で保持することを特徴とする露光装置である。 - 特許庁

To provide a rear projection display capable of smoothly performing a lamp exchange work while recognizing the work with eyes by enabling a user to sufficiently recognize a lamp installation place when exchanging a lamp unit by the user even in an optical system in which an optical component including a lamp is arranged just rearward of a screen.例文帳に追加

たとえ、ランプを含む光学部品がスクリーンの真後ろに配置されている光学系においても、ユーザーがランプユニットを交換する際には、ユーザーがランプ設置個所を充分確認できる様にし、目で確認しながらランプ交換の作業をスムーズに行うことができるリアプロジェクションディスプレイを提供することである。 - 特許庁

In this liquid crystal panel 100, since convex lenses 98, 99 are stuck to outer surfaces 302, 402 of an active matrix substrate 10 and a counter substrate 20 by adhesive 88, 89, an incident beam is led efficiently to a picture display area 95, and an emission beam is led efficiently to an enlargement projection optical system 2050.例文帳に追加

液晶パネル１００では、アクティブマトリクス基板１０および対向基板２０の外面３０２、４０２には接着剤８８、８９によって凸レンズ９８、９９が接着されているので、入射光を画面表示領域９５に光を効率よく導くことができ、かつ、出射光を拡大投射光学系２０５０に効率よく導くことができる。 - 特許庁

In the exposure device equipped with a projection optical system having a plurality of reflectors for exposure transferring a pattern formed on a mask to a photosensitive substrate by using extreme UV-light, at least one of the plurality of reflectors is provided with an apparatus 111 for monitoring the reflectivity of exposure light.例文帳に追加

極端紫外光を用いて、マスクに形成されたパターンを感応基板上に露光転写するための複数の反射鏡を有する投影光学系を備えた露光装置であって、前記複数の反射鏡のうち、少なくとも１つに露光光の反射率を監視する機器１１１を備えたことを特徴とする露光装置である。 - 特許庁

The illuminator includes an objective lens 112 used commonly with a viewing optical system, a light source 123 for generating illumination light (excitation light), a collective lens 122, a reflection mirror 121, an illumination section 120 for lighting the specimen 111 with the illumination light from the light source 123, a field stop projection lens 119, an excitation filter 118, and a dichroic mirror 113.例文帳に追加

照明装置は、観察光学系と共有される対物レンズ１１２と、照明光（励起光）を発するためのもの光源１２３と、コレクターレンズ１２２と、反射ミラー１２１と、光源１２３からの照明光で標本１１１を照明するための照明部１２０と、視野絞り投影レンズ１１９と、励起フィルター１１８と、ダイクロイックミラー１１３とを含んでいる。 - 特許庁

To provide a slave for a PLC (Programmable Logic Controller), reducing a load on a user program on the PLC side, and allowing real-time abnormality detection of a photoelectric sensor, when executing a sensor abnormality diagnostic method using a projection light intensity changeover, in a sensing system wherein a plurality of transmission type photoelectric sensors are connected to the PLC through the slave.例文帳に追加

複数台の透過型光電センサをスレーブを介してＰＬＣに接続してなるセンシングシステムにおいて、投光光量切替を利用したセンサ異常診断方法を実施するについて、ＰＬＣ側のユーザプロクラムの負担を軽減すると共に、リアルタイムな光電センサの異常検知を可能とするＰＬＣのスレーブを提供すること。 - 特許庁

A color separation/mixing optical system of a projection unit is equipped with a dichroic mirror 26 which separates B light from the illumination light emitted by a light source 22, a polarizing rotary element 31 and a 2nd PBS 32 which separate G light and R light reflected by the dichroic mirror 26, and a mixing prism 29 which puts those lights of three colors together.例文帳に追加

投影ユニット１４の色分離合成光学系は、光源２２が発する照明光からＢ光を分離するダイクロイックミラー２６，このダイクロイックミラー２６で反射したＧ光及びＲ光を分離する偏光回転素子３１及び第２ＰＢＳ３２，及びこれら三色の光を合成する合成プリズム２９を備えている。 - 特許庁

When slight focus adjustment is made to the photoirradiation part 4, the pattern-drawing device minutely moves the mask part 42, by means of the mask part-minutely moving mechanism 43, vertically along the optical axis formed by the mask part 42 and the projection optical system 44, to fit the mask pattern of the mask part 42 to an optically conjugate position to the objective surface of the substrate.例文帳に追加

パターン描画装置では、光照射部４のフォーカス微調整が行われる際に、マスク部４２をマスク部微動機構４３によりマスク部４２と投影光学系４４とを結ぶ光軸に沿う上下方向に微小に移動することにより、基板の対象面に対して光学的に共役な位置にマスク部４２のマスクパターンを一致させる。 - 特許庁

This device is equipped with illumination optical systems 100R, 100G and 100B emitting illuminating light, photoelectric devices 300R, 300G and 300B generating the modulated flux of rays by modulating the illuminating light in accordance with image information, and a projection optical system 340 projecting the modulated flux of rays obtained by the devices 300R, 300G and 300B.例文帳に追加

投写型表示装置は、照明光を射出する照明光学系１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂと、照明光を画像情報に応じて変調して変調光線束を生成する電気光学装置３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｂと、電気光学装置で得られる変調光線束を投写する投写光学系３４０とを備えている。 - 特許庁

An image pickup device 10 includes an imaging optical system 31 for condensing light from a subject 1 to form a subject image and an imaging device 3 for imaging an image corresponding to the subject image, and a specific range projection part 20 which projects at least an outline corresponding to a specific range of the image imaged by the imaging device 32 is provided on a screen 2 outside the image pickup device.例文帳に追加

本発明にかかる撮像装置１０は、被写体１からの光を集光して被写体像を結像する撮像光学系３１と、被写体像に対応する画像を撮像する撮像素子３２とを備えた撮像装置において、撮像装置１０の外部のスクリーン２に、撮像素子３２によって撮像される画像の特定範囲に対応する輪郭を少なくとも投影する特定範囲投影部２０を備える。 - 特許庁