「solution set」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

This method for reducing exdotoxin activity comprises a process of treating the subject to be treated for a prescribed time by use of an alkali aqueous solution set at least at 85°C with at at least 0.01 normality.例文帳に追加

エンドトキシン活性の低減方法は、少なくとも８５℃に設定された、少なくとも０．０１規定のアルカリ水溶液を用いて被処理物を所定時間処理する工程を含んでいる。 - 特許庁

To provide a plating device to set the uniform and sufficiently large relative speed between a surface to be plated of a substrate and a plating solution over a whole area of the surface to be plated of the substrate.例文帳に追加

基板のめっき面とめっき液との相対速度を基板のめっき面の全面に亘って均一に、かつ十分に大きくできるようにしためっき装置を提供する。 - 特許庁

The material 7 to be cleaned, the first electrode 3, and the second electrode 4 are immersed in a cleaning solution 8, and an ion exchangeable material 2 is set between the first electrode 3 and the second electrode 4.例文帳に追加

洗浄液８に、被洗浄材７と第１電極３と第２電極４とが浸漬され、第１電極３と第２電極４との間にイオン交換性材料２がある。 - 特許庁

Carbon dioxide reduction devices 1a and 1b each includes a flow path 2 through which a solution S containing carbon dioxide is circulated and photocatalyst elements 3a and 3b set to face the flow path 2.例文帳に追加

二酸化炭素還元装置１ａ，１ｂは、二酸化炭素を含む溶液Sを流通させる流路２と、流路２に臨んで設けられた光触媒素子３ａ，３ｂとを備える。 - 特許庁

As to the surface on the side whereon the stock solution is cast, the number of projections of which the height from the surface is 350 nm or above is set preferably to be 200 pieces/mm^2 or below.例文帳に追加

また、原料溶液が流延される側の表面は、該表面からの高さが３５０ｎｍ以上の突起の数が２００個／ｍｍ^２以下に好ましくは設定されている。 - 特許庁

The vibration frequency is thus determined based on information about the sample container and the sample solution so as to accurately set the vibration conditions for shortening the equilibrium arrival time.例文帳に追加

これにより、試料容器や試料液に関する情報に基づいて振動数を定めることにより、平衡到達時間が短くなる振動条件を的確に設定することができる。 - 特許庁

To provide a plating device to set the uniform and sufficiently large relative speed between a surface to be plated of a substrate and a plating solution over a whole area of the surface to be plated of the substrate.例文帳に追加

基板のめっき面とめっき液との相対速度を基板のめっき面の全域に亘って均一に、かつ十分に大きくできるようにしためっき装置を提供する。 - 特許庁

Carbon dioxide is supplied from a carbon dioxide supply apparatus 22 into the solution, the cross-sectional area of the channel in the contraction part 42 is set up to be 8-12% of the cross-sectional area of the channel in the receiving part 30, and the solution is injected from the injection head 16 into the mold 14 to be subjected to foaming.例文帳に追加

炭酸ガス供給装置２２から炭酸ガスをポリウレタン原液に添加し、絞り部４２における流路断面積を受け部３０における流路断面積の８〜１２％の範囲内に設定して、注入ヘッド１６から金型１４内にポリウレタン原液を注入し発泡成形する。 - 特許庁

A solution of a deterministic differential equation is set to reproduce a distribution provided by composing a plurality of Tsallis distributions capable of covering an energy range wider than a Boltzmann-Gibbs (BG) distribution, when finding a locus of the solution by numerical-integrating the differential equation to be sampled along the locus.例文帳に追加

決定論的微分方程式を数値積分することによって、解の軌跡を求め、この軌跡に沿ってサンプリングを行う際に、該微分方程式の解がBoltzmann-Gibbs(ＢＧ)分布より広いエネルギー範囲をカバーする複数のTsallis分布を合成した分布を再現するように設定する。 - 特許庁

The coating liquid set for a low refractive index film includes an electrolyte polymer solution and a particulate dispersion liquid, wherein the charges possessed by the electrolyte polymer in the electrolyte polymer solution are in an opposite sign to the charges possessed by the fine particles in the particulate dispersion liquid.例文帳に追加

電解質ポリマー溶液と微粒子分散液とからなり、前記電解質ポリマー溶液中の電解質ポリマーの有する電荷と、前記微粒子分散液中の微粒子が有する電荷とが反対符号であることを特徴とする低屈折率膜用コーティング液セットである。 - 特許庁

A solution estimation part 17 estimates the degree of easily becoming solutions in the set of origins of the binomial relation candidates on the basis of the learned result information, and a binomial relation extraction part 18 extracts a binomial relation candidate having a high estimation degree of a correct solution from the estimated result.例文帳に追加

解推定部１７は，学習結果情報をもとに，二項関係の候補の素性の集合の場合の解となりやすさの度合いを推定し，二項関係抽出部１８は，推定結果から正の解の推定の程度が良い二項関係の候補を抽出する。 - 特許庁

Developing solution recovered from the developing tank 30 is kept always in the recovery piping 37, and the liquid level of the developing solution is kept within a liquid level range D set near to a connecting opening 38 between the developing tank 30 and the recovery piping 37.例文帳に追加

また、回収配管３７内には、現像槽３０から回収された現像液が常に溜められており、その現像液の液面位置は、現像槽３０と回収配管３７との接続口３８近傍に設定された液位範囲Ｄ内に維持されるようになっている。 - 特許庁

Although the etching rate of a tungsten is 4-5 times faster in a solution which is normally used, to raise the selective ratio of the titanium nitride, the mole ratio for H2O2/HCI is set at 1/100 or smaller with a solution temperature at 70°C or higher related to the mixed liquid of hydrochloric acid and hydrogen peroxide used for wet-etching.例文帳に追加

通常使用されている溶液ではタングステンのほうが４〜５倍速いエッチングレートを窒化チタンの選択比を高める方法としてウエットエッチングに用いる塩酸と過酸化水素の混合液においてＨ_２Ｏ_２／ＨＣｌのモル比を１／１００以下とし、且つ溶液温度を７０℃以上とする。 - 特許庁

The aimed temperature Tc of fused solution is set necessary to make the deforming rate coincide with the vicinity of the ceiling value, from the relation between the deformation rate of the single crystal 10 and the temperature of the fused solution of a specific point of a vicinity apart by fixed distance away from outermost peripheral part of the single crystal 10.例文帳に追加

単結晶１０の変形率と、単結晶１０の最外周から所定距離離れた結晶近傍の特定点における融液温度との関係から、変形率をその上限値近傍に一致させるのに必要な融液温度の目標値Ｔｃを設定する。 - 特許庁

The Al-containing nitride D caused to deposit on the surface 2A of the susceptor 2 on which a substrate S is set so as to form the III nitride film on the substrate S is removed by dissolving the nitride D in a prescribed alkaline solution, by dipping the nitride D in the solution for a prescribed period of time together with the susceptor 2 containing the nitride D.例文帳に追加

III族窒化物膜を形成すべき基板Ｓが設置されたサセプタ２の表面２Ａ上に堆積されたＡｌ含有窒化物Ｄを、このＡｌ含有窒化物を含むサセプタ２ごと所定のアルカリ溶液に所定時間浸漬させることによって、溶解除去する。 - 特許庁

This method of producing the nonionic thickener for paper making by polymerizing polymerizable monomers containing an acrylamide monomer in an aqueous solution, the monomers in the aqueous solution is polymerized in a condition set pH 3-7 and temperature at -5 to 60°C.例文帳に追加

水溶液中のアクリルアミド単量体を含む重合性単量体を重合してノニオン性抄紙用粘剤を製造する方法において、前記水溶液のｐＨを３〜７の範囲、温度を−５〜６０℃の範囲にして、水溶液中の重合性単量体を重合する方法を用いる。 - 特許庁

In the binomial relation extraction apparatus, a solution-origin pair extraction part 12 extracts origins of cases from a teacher data storage part 11 for storing teacher data including cases to which solutions indicating objects to be extracted in binomial relation appearing in text data are applied, and generates a pair of a set of cases and the solution.例文帳に追加

解−素性対抽出部１２は，テキストデータに出現する二項関係に，抽出するべきものを示す解が付与された事例を含む教師データが格納された教師データ記憶部１１から，事例の素性を抽出して素性の集合と解との組を生成する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING WATER-INSOLUBLE COLORANT SOLUTION FOR PREPARING DISPERSION AND WATER-INSOLUBLE COLORANT SOLUTION OBTAINED BY THE SAME, AND WATER-INSOLUBLE COLORANT DISPERSION AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND RECORDING LIQUID, INK SET, PRINTED ARTICLE, IMAGE-FORMING METHOD, AND IMAGE-FORMING APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

分散体調製用の水不溶性色材溶解液の製造方法及びこれにより得られる水不溶性色材溶解液、並びに水不溶性色材の分散体及びこの製造方法、これを用いた記録液、インクセット、印画物、画像形成方法、及び画像形成装置 - 特許庁

When the deviation between the set value SV_b of the prescribed concentration of the hydrochloride acid and the measured value PV_b measured by the section 41 turns greater than the set value e of the deviation, the undiluted solution of the hydrochloric acid is fed to the electrolytic treatment liquid from the section 42.例文帳に追加

所定の塩酸濃度の設定値ＳＶ_ｂ と塩酸濃度測定部４１により測定された測定値ＰＶ_ｂ との偏差が偏差設定値ｅよりも大きくなった場合には、塩酸原液投入部４２から塩酸原液を電解処理液に投入する。 - 特許庁

Further, a counter electrode 5 and a reference electrode 6 are immersed into the electrolytic solution, and the immersion area of the counter electrode 5 is set so as to be smaller than that of the working electrodes 3 (set the immersion area of the working electrodes/the immersion area of the counter electrode to ≥100/1).例文帳に追加

また、前記電解液中に対電極５，参照電極６を浸漬し、前記対電極５の浸漬面積は作用電極３の浸漬面積よりも小さくなるように設定（作用電極浸漬面積／対電極浸漬面積を１００／１以上に設定）する。 - 特許庁

In an arithmetic part 4, a region where an electrolytic liquid is present in the electrolytic capacitor being a diagnosing target is set on the basis of the binarized transmitted image and the area of the non-transmission region contained in the set region, that is, the residual amount of the electrolytic solution is calculated.例文帳に追加

演算部４は、２値化された透過画像に基づいて、診断対象の電解コンデンサにおいて電解液が存在する領域を設定し、その設定した領域に含まれる不透過領域の面積、すなわち電解液の残存量を算出する。 - 特許庁

The guide vanes 25, 27 can be set in a normal state that the guide faces 25a, 27a are set along the streamline direction C of the mixture solution at the corner outlet, and in a corrective state that the guide faces are turned in the direction of guiding the water flow at the corner outlet 7f toward the inside 7g of the corner outlet.例文帳に追加

このガイドベーン２５，２７は、ガイド面２５ａ，２７ａをコーナ出口の混合液の流線方向Ｃに沿わせた通常状態、及び、ガイド面をコーナ出口７ｆの水流が当該コーナ出口の内側７ｇに向けてガイドされる向きへ向けた矯正状態にセットすることが可能である。 - 特許庁

Driving of the head 32 is controlled by the main control part 62 of the controller 60 so that the introducing port 38a is set at a predetermined measurement position placed in the rise solution during the rinse treatment while the introducing piping 38 is set at a wait position outside the treating tank when the rinse treatment is not performed.例文帳に追加

そして、リンス処理以外のときには導入配管３８を処理槽外の待機位置にセットする一方、リンス処理時には、その導入口３８ａがリンス液中に配置される所定の測定位置にセットするように、ヘッド３２の駆動をコントローラ６０の主制御部６２により制御した。 - 特許庁

The object is freely model-expressed by making the best use of the various functions to set an assumption, to allow verification, to be competed, to obtain the optimum solution, to be combined with an existing model, to be evolved, and to be like.例文帳に追加

この多様な機能を活かして、対象を自由にモデル表現して、仮説をたてたり、検証をしたり、競わせたり、最適解を得たり、既存のモデルと組み合わせたり、進化させる事等が出来る。 - 特許庁

An outer circumferential part of each silicon wafer W is inserted to an annular groove 13a of a number of stripes of a wafer rotating roller 13, and a cassette 12 is set in a washing bath 11 containing high alkaline solution.例文帳に追加

各シリコンウェーハＷの外周部を、ウェーハ回転ローラ１３の多数条の環状溝１３ａに挿入し、カセット１２を高アルカリ性の洗浄液入りの洗浄槽１１にセットする。 - 特許庁

A content retrieval/selection server 5 sends terminal classification and a geographical position, which are sent along with a content request, to a location solution server 6 as a set with CRID.例文帳に追加

コンテンツ検索・選択サーバ５は、コンテンツ要求に付随して送られてきた端末種別と地理的位置を、ＣＲＩＤとともに端末種別と地理的位置をセットでロケーション解決サーバ６に送付する。 - 特許庁

In this method, the composition and the concentration of the solution, a film forming condition, a baking condition and the like are suitably set and a structure (a porous structure) having a plurality of pores 30 is favorably incorporated into the inorganic oriented film.例文帳に追加

かかる方法では、溶液の組成、濃度、成膜条件、焼成条件等を適宜設定し、無機配向膜を複数の細孔３０を有する構造（多孔質構造）とするのが好ましい。 - 特許庁

The raw material aqueous solution is put in an atomization container 21 of a raw material atomization device 2, and a temperature of a substrate 8 set on a bottom part of a reaction space 61 is increased to 400°C by a heater 7.例文帳に追加

原料水溶液を原料霧化装置２の霧化容器２１内に入れると共に、反応空間６１の底部にセットした基板８をヒータ７によって４００℃まで昇温させる。 - 特許庁

In manufacturing of the catalyst paste 42, concentration of water in the DE2020 is set up to be 5% by heating 10 g of the DE2020 (product made from Du pont) as a pre-solution in a water bath in a water removing process.例文帳に追加

触媒ペースト４２の製造においては、水除去工程において、プレ溶液である１０ｇのＤＥ２０２０（Du pont社製）を湯煎して前記ＤＥ２０２０中の水の濃度を５％とする。 - 特許庁

The ink set includes ink containing a color material, water, a solvent and polymer particles, and a first cleaning solution containing an aggregation promoter which promotes aggregation of the ink upon contact with the ink.例文帳に追加

インクセットを、色材、水、溶剤およびポリマー粒子を含有するインクと、前記インクと接触して前記インクの凝集を促進する凝集促進剤を含有する第１の洗浄液と、を含んで構成する。 - 特許庁

The proton conductor 1 can be also obtained by drying and pulverizing a gel set by peptizing a neutralized material, prepared by neutralizing an aqueous solution of the water-soluble tin phosphate, and adding phosphoric acid thereto, and then firing the pulverized powder.例文帳に追加

また、水溶性スズ塩の水溶液を中和して得られた中和物を解膠させ、リン酸を加えてゲル化させたゲルを乾燥して粉砕した後、粉砕粉を焼成しても得ることができる。 - 特許庁

To provide an aqueous solution for non-chemical mechanical polishing in which corrosion does not take place on metallization, abrasive grains are not left and the yield of product can be enhanced, and to provide an abrasive set and a chemical mechanical polishing method.例文帳に追加

金属配線上に腐食を発生させず、砥粒残りのない製品の歩留まりを向上させる非化学機械研磨用水溶液、研磨剤セット及び化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁

After coating a solution of a surface active agent or sprinkling water onto an exposed surface of the accumulated material made by laminating many thin set veneers of about 0.2 to 0.3 mm thickness, the accumulated material is stored in the same way as conventional.例文帳に追加

厚さ０．２〜０．３ｍｍ程度の薄ウエット単板を多数枚積層した集積物の露出面に界面活性剤の溶液を塗布あるいは散水した後、従来と同様に保管する。 - 特許庁

An adaptability operation part 302 finds the adaptability expressing the extent of the accordance between the dispersion characteristics C0 and dispersion characteristics C and set a combination of the candidate values comprising the most adaptable individual to the solution.例文帳に追加

適応度演算部３０２は、分散特性Ｃ_0と分散特性Ｃとの一致の度合いを示す適応度を求め、最も適応度の高い個体を構成する候補値の組み合わせを、解とする。 - 特許庁

To provide a component regulating method for water-based ink, capable of easily and properly adjusting a component ratio of a water-based ink containing alcohol aqueous solution to be near the predetermined set conditions, and to provide the device therefor.例文帳に追加

アルコール水溶液を含む水性インキの成分比率を、容易かつ適正に所定の設定状態付近に調整することができる水性インキの成分調整方法および同装置を提供する。 - 特許庁

In this electrolytic solution, ethylene glycol is set as the main solvent, higher dibasic acid or its salt, and boric acid or its ammonium salt are dissolved, and 4-alkylbenzotrizole (chemical formula 1) of 0.1-2.0 wt.% is added.例文帳に追加

エチレングリコールを主溶媒とし、高級二塩基酸またはその塩と、ホウ酸またはそのアンモニウム塩とを溶解し、４−アルキルベンゾトリアゾール（化１）を０．１〜２．０ｗｔ％添加したことを特徴としている。 - 特許庁

Subsequently, the reaction solution is introduced into a flow-type reactor and is made to flow between an anode and a cathode set in the reactor at specified temperature and flow rate.例文帳に追加

次いで、この反応溶液をフロー型反応装置内に入れ、前記反応溶液を所定の温度及び所定の流量で、前記フロー型反応装置内に設置したアノード電極及びカソード電極間に流す。 - 特許庁

The solution containing a compound of zinc and tin which gives an oxide by heating is sprayed in the high temperature chamber where a substrate is set and a film containing zinc oxide and tin oxide is formed on the substrate.例文帳に追加

加熱により酸化物を与える亜鉛とスズの化合物を含む溶液を、基材をセットした高温室内にスプレーして酸化亜鉛と酸化スズとを含む薄膜を基材上に形成する。 - 特許庁

In the aqueous reagent solution used here, the mixing ratio of the hexaammonium heptamolybdate with the inorganic acid is set so that the molar ratio of hydrogen ions to the hexaammonium heptamolybdate is at least 44.5.例文帳に追加

ここで用いられる試薬水溶液は、七モリブデン酸六アンモニウムに対する水素イオンのモル比が少なくとも４４．５になるよう七モリブデン酸六アンモニウムと無機酸との混合割合が設定されている。 - 特許庁

The ink set includes an ink composition for inkjet recording containing at least a polymer particle having an aromatic ring, and a maintenance solution for an inkjet recording containing at least water and an organic solvent having an aromatic ring.例文帳に追加

芳香環を有するポリマー粒子を少なくとも含むインクジェット記録用インク組成物と、少なくとも水と芳香環を有する有機溶剤とを含むインクジェット記録用メンテナンス液とを含んでいる。 - 特許庁

Preferably, the concentration of ZrO_2 in the zirconia sol-containing solution is 1-30% and the quantity of the sulfuric acid to be added in terms of 100% sulfuric acid is set at the H_2SO_4/ZrO_2 weight ratio of 0.01-0.5.例文帳に追加

好ましくは、ジルコニアゾル含有溶液中のＺｒＯ_２濃度が１〜３０％、硫酸の添加量を１００％硫酸換算で、Ｈ_２ＳＯ_４／ＺｒＯ_２（重量比）０．０１〜０．５とする。 - 特許庁

In other words, the standard solution for preparing the analytical curve with the lowest HCB concentration is analyzed repeatedly at least five times, and then the standard deviation is calculated on the basis of the measurement values, and the quantitation limit is set at a level tenfold of this standard deviation. 例文帳に追加

即ち最低濃度の検量線作成用標準溶液を少なくとも５回以上繰り返し分析し、得られた測定値から標準偏差を求め、10倍を定量限界とする。 - 経済産業省

In other words, the standard solution for preparing the calibration curve with the lowest HCB concentration is analyzed repeatedly, at least five times, then the standard deviation is calculated on the basis of the measurement values and the quantitation limit is set at a level tenfold of this standard deviation. 例文帳に追加

即ち最低濃度の検量線作成用標準溶液を少なくとも５回以上繰り返し分析し得られた測定値から標準偏差を求め、10倍を定量限界とする。 - 経済産業省

Plating equipment plates, the surfaces of which are to be plated of a substrate by conducting electricity between an anode 30 set up in a plating tank 10 and a substrate W, while a plating solution made to flow in the tank 10 from a solution jetting pipe 35 is jetted upon the surface to be plated.例文帳に追加

めっき槽１０内に陽極電極３０を配設し、めっき液噴射管３５からめっき槽１０内にめっき液を流入することで被めっき基板Ｗの被めっき面にめっき液の噴流を当接しながら陽極電極３０と被めっき基板Ｗ間に通電することでめっきを行う。 - 特許庁

To provide a cleaning solution and a cleaning solution set, capable of suitably eliminating contamination in an ink passage and clogging of a liquid droplet discharge head of a liquid droplet discharge device used for manufacturing a color filter, and to provide the liquid droplet discharge device suitably usable for manufacturing a color filter over a long period.例文帳に追加

カラーフィルターの製造に用いる液滴吐出装置のインクの流路における汚れ、液滴吐出ヘッドの目詰まりを好適に解消することができる洗浄液、洗浄液セットを提供すること、また、長期間にわたって、好適にカラーフィルターの製造に用いることのできる液滴吐出装置を提供すること。 - 特許庁