「surface D」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The pile is made of short fibers having a denier of 1 d-60 d, a length 0.2-6.0 mm or extra fine short fibers divided from conjugate fibers and having a denier of 0.01 d-1 d, a length of 0.1-2.0 mm, its surface is substantially coated by an electrodeposition treated film.例文帳に追加

パイルは、繊度１ｄないし６０ｄで、長さ０．２ｍｍないし６．０ｍｍの寸法を有する短繊維よりなるか、または複合繊維より分割された繊度０．０１ｄないし１ｄで、長さ０．１ｍｍないし２．０ｍｍの寸法を有する極細短繊維よりなり、その表面は電着処理膜により実質的に被覆されている。 - 特許庁

The distal end 4 comprises a thread section 6 having a center line D that is coaxial with the longitudinal center line C and a left-hand thread 7 that screws itself around the center line D, and a counter surface 8a or 8b that is disposed outside the thread 7 and has a surface component direction which intersects one of said center lines C and D.例文帳に追加

遠端部（４）は、長手方向中心線（Ｃ）と同軸の中心線（Ｄ）を有するねじ部（６）、および中心線（Ｄ）を中心として自身をねじ込む左ねじ（７）を有するねじ部（６）と、ねじ山（７）の外側に配置され、両中心線（Ｃ、Ｄ）のうちの１つと交差する表面成分方向を有するカウンタ面（8a、8b）とからなる。 - 特許庁

When a water level on the downstream side D is higher than that on the upstream side U, the gate body 1 is fixed so that the surface side skin plate 4 faces the downstream side D to drain water on the upstream side U to the downstream side D through the water channel 23 by operating the horizontal pump 24.例文帳に追加

上流側Ｕよりも下流側Ｄの水位が高い場合に、表面側スキンプレート４が下流側Ｄを向くようにゲート本体１を固定し、横形ポンプ２４の運転により上流側Ｕの水を流路２３を通して下流側Ｄへ排出させる。 - 特許庁

In the ion implanting step, when θ is the angle defined by the obliquely ion implanting direction and a normal of a surface of a semiconductor substrate 1 and D is the sum of the thickness of the mask layer 17 and the thickness of the interlayer insulating film 8, L1/D ≥tanθ>S1/D is satisfied.例文帳に追加

このイオン注入の工程において、斜めイオン注入の注入方向と半導体基板１表面の法線とがなす角度をθとし、マスク層１７の厚みと層間絶縁膜８の厚みとの和をＤとした場合に、Ｌ１／Ｄ≧ｔａｎθ＞Ｓ１／Ｄが満たされる。 - 特許庁

When a zone in the surface of a porous silicon region has an average pore diameter D (nm) and a pore number density N (pores/cm^2), a porous silicon region is formed by anodizing a silicon wafer so as to meet conditions, 0<N≤D×1.9×10^12 and 0.235 nm≤D<91 nm.例文帳に追加

多孔質シリコン領域における表面近傍の領域が、平均孔径をＤ（ｎｍ）、孔数密度をＮ（個／ｃｍ^２）としたときに、０＜Ｎ≦Ｄ×１．９×１０^１２、０．２３５ｎｍ≦Ｄ＜９１ｎｍの条件を満たすようにシリコンウエハを陽極化成して多孔質シリコン領域を形成する。 - 特許庁

This simple ladder is composed of a freely bendable fastening string-like body 1 fixed to a scaffold bolt B implanted in an electric pole D and wound on an outer peripheral surface of the electric pole D, and a plurality of footrest members 2 detachably installed in the fastening string-like body 1 and placing feet when climbing the electric pole D.例文帳に追加

電柱Ｄに植設された足場ボルトＢに掛止して該電柱Ｄの外周面に巻装される屈曲自在な締付紐状体１と、締付紐状体１に着脱自在に取着され前記電柱Ｄに登るとき足を載せる複数の足掛部材２とからなる。 - 特許庁

When an opening/closing lid 4 is opened, the turntable 8 along with a device holder 6 is obliquely elevated from the surface of a disk body section 2, and fingers can be easily hooked to a disk D from a gap S between the disk D and the disk body section 2, thus taking out the disk D.例文帳に追加

開閉蓋４が開蓋されることでデバイスホルダー６と共にターンテーブル８がディスク本体部２の面上から斜めに仰角し、ディスクＤとディスク本体部２との間の隙間ＳからディスクＤに指が掛けやすくなり、ディスクＤの取り出しを行うようにした。 - 特許庁

After the apex of this staple S is floated upward from the surface of the document bundle D, for example, an insertional member separately installed is inserted into this clearance, whereby the staple S is removed from the document bundle D easily and surely and that without entailing any damage to this document bundle D.例文帳に追加

こうしてステープル針Ｓの頂部を原稿束Ｄ表面から浮き上がらせた後、例えば、この隙間１２０に別途設けられた挿入部材４１１を挿入することにより、容易かつ確実に、しかも原稿束Ｄを傷めることなく、原稿束Ｄからステープル針Ｓを除去する。 - 特許庁

The sliding unit comprises: a pair of sliding elements B and D; and an voltage application means E applying voltage between the pair of the sliding elements B and D, wherein a hard carbon film f is formed on the sliding surface of at least one of the sliding elements B and D sliding each other.例文帳に追加

互いに摺動する摺動部材Ｂ，Ｄのうち、少なくとも一方の摺動面に硬質炭素被膜ｆが形成された一対の摺動部材Ｂ，Ｄと、該一対の摺動部材Ｂ，Ｄの摺動面間に電圧を印加する電圧印加手段Ｅと、を備えてなる。 - 特許庁

In the method for forming the contact hole toward an S/D region 25 on an interlayer insulating film 40 covering the S/D region 25 on the surface of a semiconductor substrate 20, a resist pattern 50 forming an opening at the upper part of the S/D region 25 is formed on the interlayer insulating film 40.例文帳に追加

半導体基板２０表面のＳ／Ｄ領域２５上を覆う層間絶縁膜４０にＳ／Ｄ領域２５に至るコンタクトホールを形成する方法であって、層間絶縁膜４０上にＳ／Ｄ領域２５の上方を開口するレジストパターン５０を形成する。 - 特許庁

A passage D through which hot air and cold air pass is obliquely formed between the upper surface end 4a and the rotary shaft 63.例文帳に追加

この上面端部４ａと、動軸部６３との間に、温風及び冷風が通過可能な通路Ｄが、斜行して形成されている。 - 特許庁

For the body weight measuring base 3, a display section D for a body weight measurement value, and a pair of right and left electrode foot mats F, F are arranged on the upper surface.例文帳に追加

体重測定台３は、上面に体重測定値の表示部Ｄと左右一対の電極足マットＦ、Ｆを配備する。 - 特許庁

In the device, the lower end surface D of a pulling shaft X has a flat part P to be adhered with a seed crystal S and recessed parts E provided in the flat part P.例文帳に追加

引上げ軸Ｘの下端面Ｄは、種結晶Ｓと接着される平坦部Ｐと、該平坦部内の窪みＥとを有する。 - 特許庁

The surface 1b is provided with an electronic component 3 having a height lower than a maximum value of the height of the electronic components 2 in the direction D.例文帳に追加

表面１ｂには方向Ｄについての電子部品２の高さの最大値よりも低い電子部品３が設けられている。 - 特許庁

The photoreceptor is obtained by applying a cutting work on a conductive substrate surface so that an expression (1); S≠25.4/d×N×(P2/P 1)×n... may be established.例文帳に追加

導電性基体表面をＳ≠２５．４／ｄ×Ｎ×（Ｐ２／Ｐ１）×ｎ…式（１）となるように切削加工して感光体を得る。 - 特許庁

The maximum stress σ on the inner surface of the sheath when purified water has entered into the sheath satisfies the relationship represented by the following formula (1): σ=p(D-t)2t<(yield point strength of sheath material).例文帳に追加

シース内部に純水が浸水したときのシース内面の最大応力σが次の式（１）に示す関係を満たす。 - 特許庁

The shielding ring 13 is opposed to the lower part of the inner surface of the outer ring W to shield magnetic flux so that it may not spread to a lower notch d.例文帳に追加

シールドリング１３は、外輪Ｗ内面の下側に対向し、磁束を下側の切欠き部ｄに広がらないように遮蔽する。 - 特許庁

When the diameter of the tool body 7 at the tip surface 2 is D, the depth L of the gash 13 is set to 0.16D or more.例文帳に追加

先端面２における工具本体７の直径をＤとしたとき、ギャッシュ１３の深さＬが０．１６Ｄ以上に設定されている。 - 特許庁

The area (d) exhibits a linear surface morphology the synthetic off angle of which is 1.0° or less in an area sandwiched by the area (b) and the area (c).例文帳に追加

エリア（ｄ）は、合成オフ角１．０度以下であってエリア（ｂ）及びエリア（ｃ）に挟まれたエリアにおける、線状の表面モフォロジを示す。 - 特許庁

A surface of a semiconductor substrate 1 is divided into a region D, in which a DRAM is formed and a region P, in which a photodiode is formed.例文帳に追加

半導体基板１の表面がＤＲＡＭが形成される領域Ｄと、フォトダイオードが形成される領域Ｐとに区画される。 - 特許庁

The cement admixture further comprises (D) ultrafine powder having 5-25 m^2/g BET specific surface area preferably.例文帳に追加

また、本発明のセメント添加材は、さらに（Ｄ）ＢＥＴ比表面積が５〜２５ｍ^２／ｇの超微粉末を含有することが好ましい。 - 特許庁

The existing pile 30A attached with the pile holder 1 is held by a holding base 37 placed on a ground surface 36 by an opening part of the pile hole 28 (d).例文帳に追加

杭保持具１を取り付けた既製杭３０Ａを杭穴２８の開口部で地面３６に置いた保持台３７で保持する（ｄ）。 - 特許庁

The radius of curvature R1 of the first circular arc 14 is determined to be larger than the radius of curvature D/2 of a rolling surface of a rolling element 13.例文帳に追加

第１円弧14の曲率半径Ｒ１を転動体13における転動面の曲率半径Ｄ／２よりも大きく設定する。 - 特許庁

With a double-sided adhesive tape or the like the rib 60 is fixed to the surface of Mylar(R) 62, extending in the direction orthogonal to the direction of the arrow D.例文帳に追加

リブ６０は、矢印Ｄ方向に直交する方向に延びるマイラ６２の表面に両面テープなどで固定されている。 - 特許庁

Once the base has been constructed, a surface finish material D is mounted by use of holding metal fittings J or an adhesive or the like to obtain the fence desired.例文帳に追加

基体を構築したならば、保持金具Ｊまたは接着剤等により表面仕上げ材Ｄを取り付け、目的とする塀を得る。 - 特許庁

In the formula, D represents the outer diameter of the sheath; t represents the thickness of the sheath; and p represents the pressure on the inner surface-side of the sheath.例文帳に追加

σ＝ｐ（Ｄ−ｔ）／２ｔ ＜ シース材の降伏点強度 ・・・（１）（ただし、Ｄ：シース外径、ｔ：シース厚さ、ｐ：シースの内面側の圧力） - 特許庁

The various types of sensors 102 and 103 are a vehicle traveling detecting sensor, obstacle detecting sensors a, c, d, and e, or a road surface sensor b.例文帳に追加

各種センサ１０２，１０３は車両走行検知センサであったり、障害物検知センサａ，ｃ，ｄ，ｅおよび路面センサｂである。 - 特許庁

The waterproof sheet 5 is placed so that leaked water from the earth retaining wall D runs down along an inner surface of the waterproof sheet 5 into the drainage ditch 5.例文帳に追加

防水シート５は、土留め壁Ｄからの漏水が防水シート５の内面に沿って排水溝５へ導かれるように配置する。 - 特許庁

The removable position setting members 26 are installed at fitting holes 27B, C, D arranged on the upper surface of the pallet with pins and small screws not shown.例文帳に追加

着脱式位置決め部材２６は、図示しないピン及びビスにより、パレット上面に設けた嵌合孔２７Ｂ，Ｃ，Ｄに装着する。 - 特許庁

In this case, R2 is the absolute value of the curvature radius of the surface near the image side of the 1st lens, and (d) is the thickness of the 1st lens.例文帳に追加

ここで、Ｒ２は第一レンズの像側に近い表面の曲率半径の絶対値、ｄは第一レンズの厚さと定義される。 - 特許庁

A contact lens R is immersed in this cleaning surface S, through which the operation of cleaning the contact lens can be carried out (Figure 2 (d) process step).例文帳に追加

この洗浄液Ｓ中にコンタクトレンズＲを浸漬することで、コンタクトレンズの洗浄の動作を行なうことができる（図２（ｄ）工程）。 - 特許庁

A hook part 76 holding the disk D is formed at a tip of the insertion part 75 abutting on the lower surface of an edge of the disk hold Dh.例文帳に追加

挿通部７５の先端には、ディスク孔Ｄｈの縁の下面に当接してディスクＤを把持するフック部７６が形成されている。 - 特許庁

Next, for example, a silicon oxidized film 22 having a refractive index lower than the refractive index of the silicon nitride film 20 is formed (d) to flatten the surface (e).例文帳に追加

次に、シリコンナイトライド膜２０よりも屈折率の低い、例えばシリコン酸化膜２２を形成し（ｄ）、表面を平坦化する（ｅ）。 - 特許庁

The particles of the test piece C and test piece D are scale-like and the specific surface area becomes very much larger than that of the test piece A and test piece B.例文帳に追加

試料Ｃと試料Ｄの粒子は、鱗片状であり、比表面積は、試料Ａや試料Ｂよりも非常に大きくなる。 - 特許庁

A region 15 to a predetermined depth from the surface of the substrate which includes at least part of the portion where the charge transfer 5 is to be formed is non-crystallized (d).例文帳に追加

形成予定部位の少なくとも一部を含む基板表面から所定深さまでの領域１５を非晶質化させる（ｄ）。 - 特許庁

The distance d is set at intervals which do not obstruct a formation of a sheath on the surface of the base body cap 107 and which are hard for the film pieces to pass.例文帳に追加

距離ｄは、基体キャップ１０７表面上のシースの形成を遮らず、かつ、膜片の通過しにくい間隔に設定される。 - 特許庁

The control unit 4 determines the starting position of rewriting the still image in accordance with the observation direction and changes the direction of rewriting on the display surface D.例文帳に追加

制御部４は、観察方向に合せて静止画の書換え開始位置を決定し、表示面Ｄでの書換え方向を変更する。 - 特許庁

The die sleeve 125 is normally lower, so the upper surface of the die D is located lower than a pass line PL and a work is free from rear side flaws.例文帳に追加

ダイスリーブ１２５が常時下降されているので、ダイＤの上面はパスラインＰＬの下方に位置できワークに裏傷が付かない。 - 特許庁

When the hard mask is removed, in addition, the surface of a side wall 4 is etched by a thickness d and, consequently, the exposed widths of the upper surfaces of the source and drain regions become broader.例文帳に追加

またその際、サイドウォール４の表面も厚さｄだけエッチングされ、ソースドレイン領域上面の露出幅が広くなる。 - 特許庁

The intermediate positive pressure surface 41 is in a position protruded to the recording medium D side more than the front and rear positive pressure surfaces 21 and 31.例文帳に追加

中間正圧面４１は、前方正圧面２１および後方正圧面３１よりも記録媒体Ｄ側へ突出した位置にある。 - 特許庁

Meanwhile a stand 11 is fixed to an upper surface of a dashboard D inside the vehicle by the adsorption relation a between magnet sheet 25 and the adsorption plate.例文帳に追加

一方、スタンド１１を車両内部のダッシュボードＤ上面にマグネットシート２５と吸着プレートとの吸着関係で固定させる。 - 特許庁

On the surface of the lens holder 12 facing the optical disk D, a temperature sensor 21 is installed close to the objective lens 7.例文帳に追加

このレンズホルダ１２における光ディスクＤに対向した面上には、対物レンズ７に近接して、温度センサ２１が設置してある。 - 特許庁

Also, one side end surface of each of the piezoelectric ceramics is fixed on any one of the sides of the triangle pole-shape coupling member D.例文帳に追加

また、各圧電セラミックの一方の側端面は、三角柱形状の連結部材Ｄのいずれかの辺と、それぞれ固着されている。 - 特許庁

A disposable sanitary sheet S having air permeability and water-absorptivity is used between the suction cup D and the patient's body surface K.例文帳に追加

吸引カップＤと患者体表面Ｋとの間に、通気性および吸水性を有する使い捨ての衛生シートＳが使用される。 - 特許庁

A process for forming an outermost surface resist 12e having a through pattern 12e1 on the outermost surfaces of the laminated layer units a to d is executed.例文帳に追加

積層単位ａ〜ｄの最表面に貫通パターン１２ｅ１を有する最表面レジスト１２ｅを形成する工程を実施する。 - 特許庁