「surface method」に関連した英語例文の一覧と使い方(931ページ目) - Weblio英語例文検索

In the creature adhesion preventing method for preventing sea water (or plain water) creaturies from adhering to the surface of the member making contact with sea water (plain water), an immersible mortar or concrete material having plant fibers mixed therein is used as a material forming the member, and plain water (sea water) is flowed from inside the material to the surface of the material, facing the sea water (plain water).例文帳に追加

海水（淡水）に触れる部材の表面に海水系（淡水系）の生物が付着するのを防止する方法において、その部材を構成する材料として、植物繊維を配合した浸水性モルタルまたはコンクリート材料を使用し、この材料の海水（淡水）に面する側の表面に、この材料の内部から淡水（海水）を流出させることを特徴とする生物付着防止法である。 - 特許庁

To provide a heat treatment method, which can prevent occurrence of slip dislocation and sufficiently eliminate grown-in defects in the vicinity of the surface even when a CZ silicon monocrystal wafer having a diameter of 300 mm or larger is mainly subjected to a high heat treatment, and an annealed wafer having a DZ layer in the wafer surface layer and containing high-density oxygen precipitates capable of achieving a high gettering effect in a bulk.例文帳に追加

主に直径が３００ｍｍ以上のＣＺシリコン単結晶ウェーハに高温熱処理を行なってもスリップ転位の発生を抑制し、表面近傍のGrown-in欠陥を十分に消滅させることのできる熱処理方法を提供し、及びウェーハ表層部にＤＺ層を有し、かつバルク中に高いゲッタリング効果が得られる高密度の酸素析出物を有するアニールウェーハを提供する。 - 特許庁

The processing method of semiconductor silicon wafer comprises a polishing process for polishing the surface of semiconductor wafer to the mirror-surface, an evaluation process for evaluating the flatness of a semiconductor wafer polished in the polishing process, an etching process for etching semiconductor wafer determined as defective in the flatness in the evaluation process using an alkali solution, and a re-polishing process for re-polishing the semiconductor wafer which etched in the etching process.例文帳に追加

半導体ウェーハの表面を鏡面研磨する研磨工程と、この研磨工程において研磨された半導体ウェーハの平坦度を評価する評価工程と、この評価工程により平坦度が不良と判定された半導体ウェーハをアルカリ溶液でエッチングするエッチング工程と、このエッチング工程によりエッチングされた半導体ウェーハを再研磨する再研磨工程とを有する半導体ウェーハの加工方法。 - 特許庁

The image display method includes a first step for moving black particles 10A from among all pixels to the side of a surface substrate 3 and moving white particles 10B to the side of a rear substrate 4 and a second step for moving black particles 10A only in pixels for displaying a white image to the side of the rear substrate 4 and moving white particles 10B to the side of the surface substrate 3.例文帳に追加

この画像表示方法は、全ての画素について、黒粒子１０Ａを表面基板３側に移動させるとともに、白色粒子１０Ｂを背面基板４側に移動させる第１のステップと、画像データに基づいて、白画像を表示すべき画素のみについて、黒色粒子１０Ａを背面基板４側に移動させるとともに、白色粒子１０Ｂを表面基板３側に移動させる第２のステップとを含む。 - 特許庁

This method includes the step of performing sand paper polishing the outer surface of an aircraft part by a mechanical sand paper polishing machine to remove most of defects, the step of removing the defects not removed in the sand paper polishing step or the other defects, which is an intermediate finishing step for one or plural times, and a step of polishing and finishing the surface which has been sand paper polished plural times by a finishing polisher.例文帳に追加

前記の方法は航空機部分の外面を機械的紙やすり磨き機械により紙やすり磨きを行い大部分の欠陥を除去する段階と、任意の一回あるいは複数回の中間仕上げ段階であって紙やすり磨き段階で除去出来なかった欠陥あるいはその他の欠陥を除去する段階と、仕上げ研磨機で複数回紙やすり磨きした面を仕上げ研磨する段階とを含む。 - 特許庁

The siliceous film forming method includes the steps of: forming a coating film by coating an irregular substrate surface with a polysilazane composition; hardening only a part of the coating film that is adjacent to the substrate surface, of the coating film, to thereby form a coating thin film running along the shape of the irregular substrate; and removing a polysilazane composition remaining unhardened during the coating thin film forming step, of the coating film.例文帳に追加

凹凸を有する基板表面にポリシラザン組成物を塗布して塗膜を形成させ、前記塗膜のうち、基板表面に隣接した部分のみを硬化させて、前記凹凸を有する基板の形状に沿った被覆薄膜を形成させ、前記塗膜のうち、前記被覆薄膜形成工程において未硬化のまま残ったポリシラザン組成物を除去することを含んでなるシリカ質膜の形成方法。 - 特許庁

The manufacturing method includes a stacking step wherein a plurality of semiconductors 12 are respectively stacked on a plurality of transparent crystal substrates 11 in one plane 10a of a wafer 10 with the transparent crystal substrates 11, and a roughening step to roughen at least the whole rear surface 11b of a surface 11a to which the semiconductors 12 are respectively stacked in the transparent crystal substrates 11, by blasting with a particulate blasting material 2.例文帳に追加

透明結晶基板１１を複数含むウエハ１０の一の面１０ａに、複数の透明結晶基板１１に対して複数の半導体１２をそれぞれ積層する積層工程と、複数の透明結晶基板１１の各々におけるその半導体１２が積層される面１１ａに対する少なくとも裏面１１ｂの全面を、微粒子ブラスト材２のブラストにより粗面化する粗面化工程とを含んだ。 - 特許庁

In an electrostatic charging roller having, at least successively from an inner side, a conductive substrate, a conductive elastic body base layer essentially consisting of polar crosslinked rubber and a surface layer essentially consisting of a urethane resin formed by isocyanate crosslinking of acryl polyol, the electrostatic charging roller containing a thixotropy imparting particle in the surface lager, the image forming device having this electrostatic charging roller, the electrostatic charging method and the process cartridge.例文帳に追加

少なくとも内側から、導電性支持体と、有極性の架橋ゴムを主成分とする導電性弾性体基層と、アクリルポリオールをイソシアネート架橋したウレタン樹脂を主成分とする表層とを有する帯電ローラにおいて、該表層にチクソトロピー性付与微粒子が含まれていることを特徴とする帯電ローラ、この帯電ローラを有する画像形成装置、帯電方法及びプロセスカートリッジ。 - 特許庁

The manufacturing method of the low-temperature calcination ceramic substrate comprises a process for forming a conductive pattern on the surface of the low-temperature calcination ceramic substrate, a process for calcining the low-temperature calcination ceramic substrate, and a process for applying plating on the conductive pattern while blasting treatment is applied on the surface of the low-temperature calcination ceramic substrate forming the conductor pattern before the plating process.例文帳に追加

低温焼成セラミック基板の表面に導体パターンを形成する導体パターン形成工程と、該低温焼成セラミック基板を焼成する焼成工程と、前記導体パターンに対しめっきを行うめっき工程とを含む低温焼成セラミック基板の製造方法であって、めっき工程の前に、導体パターンを形成した低温焼成セラミック基板の表面に対しブラスト処理を施す。 - 特許庁

This method of forming the oxidized coating on a metal titanium substrate comprises applying titanic acid or organic titanium compound on the surface of the metal titanium substrate to form the oxidized coating thereon, firing the metal titanium substrate having the oxidized coating to reduce the thickness of the oxidized coating, then subjecting the oxidized coating to anodic oxidation in an electrolyte-containing solution, thereby forming the oxidized coating again on the surface of the metal titanium substrate.例文帳に追加

金属チタン基体表面にチタン酸あるいは有機チタン化合物を塗布して酸化被膜を形成し、酸化被膜を有する金属チタン基体を焼成して、該酸化被膜の厚さを減少せしめ、その後電解質含有溶液中で陽極酸化することにより該金属チタン基体表面に酸化被膜を再形成することを特徴とする金属チタン基体上への酸化被膜の形成方法。 - 特許庁

The plating method is for continuously electroplating the surface of a film having a surface resistivity of 1 to 1,000 Ω/square, wherein a film 16 to be electroplated is continuously plated in a plating bath 11 containing a plating solution 15 having a copper concentration of 150 to 300 g/L by weight in terms of copper sulfate pentahydrate and optionally containing other sulfur compounds, nitrogen compounds, or polymer components.例文帳に追加

表面抵抗が１〜１０００Ω／□のフィルム表面を連続で電解めっきするめっき処理方法であって、めっきするべきフィルム１６を、銅濃度が硫酸銅五水塩の重量換算で１５０ｇ／Ｌ以上３００ｇ／Ｌ以下であり、その他硫黄化合物、窒素化合物あるいはポリマー成分を有するめっき液１５からなるめっき浴１１にて連続的にめっきすることを特徴とするめっき処理方法。 - 特許庁

The aluminum electroplating method includes a first stage aluminum electroplating step for forming the aluminum plating film on the material to be plated, a non-conducting step for forming an electric insulating layer on the surface of the aluminum plating film and a second stage aluminum electroplating step for forming the aluminum plating film on the surface of the material where the aluminum plating film is not formed in the first stage aluminum electroplating step.例文帳に追加

被めっき物にアルミニウムめっき皮膜を形成する第一段電解アルミニウムめっき工程と、前記アルミニウムめっき皮膜の表面に電気絶縁層を形成する不導体化工程と、第一段電解アルミニウムめっき工程でアルミニウムめっき皮膜が形成されない被めっき物の表面にアルミニウムめっき皮膜を形成する第二段電解アルミニウムめっき工程とを備える電解アルミニウムめっき方法。 - 特許庁

The plating-method two-layer copper polyimide laminated film which keeps a metal vapor deposition layer overlying one side or both sides of a polyimide film with a conductive metal layer which is composed of copper overlaying the metal vapor deposition layer to unify them is characterized in that a surface modification depth index after eliminating the conductive metal layer by etching is 25 or smaller and a surface modification strength index is 1.1 or more.例文帳に追加

ポリイミドフィルムの片面または両面に、金属蒸着層を設け、その金属蒸着層上に銅からなる導電性金属層を積層し一体化したメッキ法２層銅ポリイミド積層フィルムであって、その導電性金属層をエッチングにより除去した後の表面改質深さ指数が２５以下であり、そしてその表面改質強度指数が１．１以上のメッキ法２層銅ポリイミド積層フィルム。 - 特許庁

To provide a sheet-like lens fixing member of simple shape low in cost with excellent mounting and attaching/detaching properties and having an adhesive layer for supporting and fixing a lens to a lens presser tool in polishing a lens surface or cutting the lens into prescribed shape, and also to provide a method of polishing and cutting the lens for efficiently polishing the lens surface or efficiently cutting the lens shape using the fixing member.例文帳に追加

レンズ面を研磨させる又はレンズを所定形状に切削加工するにレンズをレンズ押さえ治具に支持固定させる粘着剤層を有する安価で、シンプル形状で、装・脱着性に優れるシート状のレンズ固定部材及びこの固定部材を用いてレンズ面を効率よく研磨加工又はレンズ形状を効率よく切削加工させるレンズの研磨・切削加工方法を提供することである。 - 特許庁

In this surface state measuring method for measuring the surface state of a semiconductor wafer 12 based on infrared rays emitted from the semiconductor wafer 12 after multiple reflection by the inside of the semiconductor wafer 12, a reference spectrum is measured before a prescribed manufacturing process, and a measuring spectrum is measured after a prescribed manufacturing process, and the noise caused by the interference fringe is reduced based on the reference spectrum and the measuring spectrum.例文帳に追加

半導体ウェハ１２内部を多重反射した後に半導体ウェハ１２より出射される赤外線に基づいて半導体ウェハ１２の表面状態を測定する表面状態測定方法において、所定の製造工程前に参照スペクトルを測定し、所定の製造工程後に測定スペクトルを測定し、参照スペクトル及び測定スペクトルに基づいて、干渉縞に起因するノイズを低減する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the automobile brake disk antirust film, an acrylic pressure-sensitive adhesive obtained by crosslinking an acrylic copolymer having units based on a (meth)acrylic amide monomer and having weight average molecular weight of 500,000 to 1,100,000 using the units based on the (meth)acrylic amide monomer as crosslinking base points by using a polyisocyanate compound is provided on one surface of a surface base material film.例文帳に追加

（メタ）アクリルアミド系モノマーに基づく単位を有し、重量平均分子量が５００，０００〜１，１００，０００であるアクリル系共重合体を、その（メタ）アクリルアミド系モノマーに基づく単位を架橋化基点とし、ポリイソシアネート化合物で架橋させて得られるアクリル樹脂系粘着剤を表面基材フィルムの片面に設けることを特徴とする自動車ブレーキディスクアンチラストフィルムの製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing an electrode member for a nonaqueous electronic component includes: a process for forming an undercoated layer by applying and drying slurry containing conductive adjuvant and the latex of synthetic rubber on the surface of a sheet-shaped conductive material; and a process for overlapping and compressing the porous active electrode sheet containing at least carbonaceous material, conductive adjuvant and bonding agent as electrode active material on the surface of the undercoated layer.例文帳に追加

シート状導電性材料の表面上に、導電補助剤及び合成ゴムのラテックスを含有するスラリーを塗布乾燥して下塗り層を形成する工程、及び電極活物質としての炭素質材料、導電補助剤及び結着剤を少なくとも含有する多孔質作用電極シートを、該下塗り層の表面に重ねて圧迫する工程、を包含する非水系電子部品用電極部材の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for forming a copper particulate sintered body type micro profile conductive body showing excellent conductivity by applying a reduction treatment to the copper particulates or oxidized copper particulates provided with a surface oxidized film layer in a pattern under comparatively low temperature after a detailed pattern is drawn by using dispersion liquid of copper particulates provided with surface oxidized film layers and then sintering the formed copper particulates.例文帳に追加

表面酸化膜層を有する銅微粒子の分散液を利用して、微細なパターン描画後、比較的に低い温度下において、パターン中の表面酸化膜層を有する銅微粒子または酸化銅微粒子に還元処理を施し、生成する銅微粒子を焼成して、優れた導電性を示す銅微粒子焼結体型の微細形状導電体を形成する方法の提供。 - 特許庁

This raw material crystal is surface treated so as to have a higher surface radiation rate than the inside thereof, and is used for growing a semiconductor single crystal by the Czochralski method using a production device for a semiconductor crystal provided with a crucible to be charged with at least the raw material crystal and a heater surrounding the crucible.例文帳に追加

少なくとも原料結晶を充填する坩堝と該坩堝を囲繞するヒータを備えた半導体結晶製造装置を使用するチョクラルスキー法によって半導体単結晶を成長させる際に使われる、前記原料結晶として表面の輻射率が内部よりも大きくなるように表面処理が施された原料結晶及び前記原料結晶を用いることを特徴とする単結晶引き上げ方法である。 - 特許庁

The method for producing the tubular nano carbon includes: a step of forming a metal oxide film layer having pores by anodizing a metallic body surface; a step of depositing carbon on the in-pore surface of the metal oxide film layer to a predetermined thickness; and a step of dissolving the metal oxide film layer on which the carbon has been deposited in an alkaline or acidic aqueous solution.例文帳に追加

本発明は、金属体表面を陽極酸化して細孔を有する酸化金属膜層を形成する工程と、該酸化金属膜層の細孔内表面に炭素を所定厚さに堆積させる工程と、該炭素が堆積された前記酸化金属膜層をアルカリ性水溶液あるいは酸性水溶液により溶解する工程とを有することを特徴とする管状ナノカーボンにの製法に関するものである。 - 特許庁

To provide an acid transfer composition which can uniformly and very precisely diffuse acid all over the resin surface to make a pattern and can obtain an acid transfer film in highly stabilized dimensions all over this patterned resin surface, and also to provide an acid transfer film using it, and a pattern forming method which can make a pattern by the existing photolithography by using this film.例文帳に追加

酸の拡散が被パターン化樹脂膜の全面に均一に十分な精度をもって行うことができ、その結果、被パターン化樹脂膜の全面に均一優れた寸法安定性が得られる酸転写用膜を得ることができる酸転写用組成物、これを用いてなる酸転写用膜、及びこの酸転写用膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This method for manufacturing a semiconductor composite device includes processes of: sticking the semiconductor thin film 120 of a thin film to the substrate 301 by intermolecular force between a sticking surface of the semiconductor thin film 120 and a surface of a conducting layer 302 formed on the substrate 301; and dividing the semiconductor thin film 120 into individual semiconductor elements (light emitting elements) 501 collectively on the substrate 301.例文帳に追加

半導体複合装置の製造方法は、薄膜の半導体薄膜１２０を、該半導体薄膜１２０の貼り付け面と基板３０１上に設けた導通層３０２の表面との間の分子間力により、該基板３０１に貼り付ける工程と、上記半導体薄膜１２０を上記基板３０１上で一括して個別の半導体素子（発光素子）５０１に素子分離する工程とを含む。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process of forming a film-forming material layer by coating a paste composition containing an acrylic ester system resin and a solvent on a support film, transferring the film-forming material layer formed on the support film onto the surface of a glass substrate with electrodes fixed, and forming a dielectric layer on the surface of the glass substrate by baking the film-forming material layer transferred.例文帳に追加

ガラス粉末、アクリル酸エステル系樹脂及び溶剤を含有するペースト状組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を形成し、支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、電極が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表面に誘電体層を形成する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To prevent adhesion and penetration of dust to an opening part, to secure operation to locally absorb and relax a pressure fluctuation due to disturbance of a vane flow, and to reduce the generation of aerodynamic noise due to interference with a vane surface for a long period by a method wherein the surface of a porous layer is covered with a given diameter mesh member.例文帳に追加

多孔質層の表面を所定径のメッシュ部材でカバーすることにより、開口部への塵埃の付着、侵入を防止し、翼面流れの乱れによる圧力変動を局所的に吸収緩和させる作用を確保するようにして、翼面との干渉による空力騒音の発生を長期に亘って低減できるようにした送風機用羽根車及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The atom excitation layer forming method forms an atom excitation layer, which covers a surface facing an internal space of a cell wall, by irradiating a cell having an internal space and equipped in the measurement device using optical pumping with a beam for forming an atom excitation layer and passing the beam for forming an atom excitation layer through the internal space along the surface facing the internal space of the cell wall.例文帳に追加

原子励起層形成装置は、光ポンピングを利用した測定装置が備える内部空間を有するセルに対して、原子励起層形成用ビームを照射して、前記セルの壁部の前記内部空間側の表面に沿って、前記内部空間に前記原子励起層形成用ビームを通過させることにより、前記セルの壁部の前記内部空間側の表面を覆う原子励起層を形成する。 - 特許庁

The forming method of the metal silicide film has a step 1 for preparing a substrate having the silicon part on a surface, a step 2 for forming the metal film on a surface of the silicon part by CVD using the metal compound including nitrogen as the film forming raw material, and a step 3 for forming the metal silicide by reaction of the metal film and the silicon part by annealing the substrate under hydrogen gas atmosphere.例文帳に追加

金属シリサイド膜の形成方法は、表面にシリコン部分を有する基板を準備する工程（ステップ１）と、窒素を含有する金属化合物を成膜原料として用いたＣＶＤによりシリコン部分の表面に金属膜を成膜する工程（ステップ２）と、その後、基板に水素ガス雰囲気でアニールを施して金属膜とシリコン部分との反応により金属シリサイドを形成する工程（ステップ３）とを有する。 - 特許庁

In the plasma CVD apparatus for depositing a thin film on a surface of a substrate 1 by the plasma CVD film deposition method by feeding raw material gas in a vacuum vessel 2, a shower head electrode 9 for feeding raw material gas is arranged in the vacuum vessel 2, and a gas feeding mechanism 14 for feeding raw material gas to the shower head electrode 9 from the side surface direction is further arranged.例文帳に追加

本発明は、真空容器２内に原料ガスを供給して、プラズマＣＶＤ成膜法により基板１の表面に薄膜を形成するプラズマＣＶＤ装置において、真空容器２内には、原料ガスを供給するためのシャワーヘッド電極９が配設されているとともに、シャワーヘッド電極９に対して側面方向から原料ガスを供給するためのガス供給機構１４がさらに配設されている。 - 特許庁

To provide a method of cleaning a metallic member by which the metallic member is dried by efficiently removing a cleaning liquid using an aqueous solution or an organic solvent from the surface of the metallic member after cleaning the surface of the metallic member with the cleaning solution and when using the organic solvent, the organic solvent is recovered while suppressing the diffusion of the organic solvent in the atmosphere to the utmost.例文帳に追加

水溶液または有機溶剤を用いた洗浄液で金属部材の表面を洗浄した後、効果的に金属部材の表面から洗浄液を除去することで金属部材を乾燥できると共に洗浄液として有機溶剤を用いた場合には、有機溶剤の大気中への拡散を極力抑えつつ、有機溶剤を回収することができる、金属部材の洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

A method of manufacturing an SiC semiconductor element includes steps of: doping a surface layer of an SiC substrate 1 with an impurity; depositing a carbon film 2 on a surface of the SiC substrate doped with the impurity in an inert gas atmosphere; annealing the SiC substrate having the carbon film deposited; and removing the carbon film deposited on the annealed SiC substrate.例文帳に追加

ＳｉＣ基板１の表面層に不純物のドーピングを行なう工程と、不純物がドーピングされたＳｉＣ基板の表面に、不活性ガス雰囲気中でカーボン膜２を堆積する工程と、カーボン膜が堆積されたＳｉＣ基板をアニール処理する工程と、アニール処理されたＳｉＣ基板に堆積されているカーボン膜を除去する工程とを含むことを特徴とするＳｉＣ半導体素子の製造方法。 - 特許庁

This inspection method for a scale state in a pipe for a fluid having a temperature difference with a peripheral atmosphere of the pipe includes estimation of the scale state in the fluid pipe by a temperature distribution on the pipe surface, by measuring the temperature distribution on the pipe surface by infrared thermography without heating or cooling the pipe for inspection, when the fluid is flowing.例文帳に追加

配管周囲の雰囲気とは温度差のある流体用の配管内のスケール状態の検査方法であって、当該流体が流れているときに、検査のために配管を加熱又は冷却することなく、配管表面の温度分布を赤外線サーモグラフィで計測し、配管表面の温度分布により流体配管内のスケール状態を推定することを含む流体配管内のスケール状態の検査方法。 - 特許庁

In the method for manufacturing a seamless belt for electrophotographic device by applying a coating liquid containing a resin component to the inner surface or outer surface of a cylindrical die, followed by drying and/or curing to thereby form a film, and demolding the film, the formed film is treated with supercritical fluid or subcritical fluid together with the cylindrical die, and then demolded.例文帳に追加

円筒状の型の内面又は外面に樹脂成分を含む塗工液を塗布し、それを乾燥及び/又は硬化させることにより製膜化し、これを脱型する電子写真装置用シームレスベルトの製造方法であって、前記製膜された膜を前記円筒状の型と共に超臨界流体または亜臨界流体で処理し、脱型することを特徴とする電子写真装置用シームレスベルトの製造方法。 - 特許庁

To provide a method which can manufacture an elastic surface acoustic wave device which comprises an IDT electrode formed on a piezoelectric substrate and a dielectric layer formed to cover the IDT electrode, which has at least one of the distribution line and the pad connected to the IDT electrode formed to be thicker than the electrode finger of the IDT electrode, and which has a flat surface of the dielectric layer.例文帳に追加

圧電基板の上に形成されたＩＤＴ電極と、ＩＤＴ電極を覆うように形成されている誘電体層とを備え、ＩＤＴ電極に接続されている配線及びパッドのうちの少なくとも一方がＩＤＴ電極の電極指よりも厚く形成されている弾性表面波装置であって、誘電体層の表面が平坦な弾性表面波装置を製造し得る方法を提供する。 - 特許庁

The mark formation method of an optical glass member includes preparation of a glass preform, formation of a coating film including glass particles on the surface of the glass preform, formation of a fused film by fusing glass particles on the surface of the glass preform by irradiating laser light to a predetermined area of the coating film, and pressing of the glass preform with the fused film formed thereon.例文帳に追加

光学ガラス部材のマーク形成方法であって、ガラスプリフォームを用意することと、ガラス粒子を含む被膜を前記ガラスプリフォームの表面に形成することと、被膜の所定の領域にレーザ光を照射することで、ガラス粒子をガラスプリフォームの表面に融着させて融着膜を形成することと、融着膜が形成されたガラスプリフォームをプレスすることを含む光学ガラス部材のマーク形成方法が提供される。 - 特許庁

The method includes: a step of arranging a plurality of horizontal drains 1 and 1 sideways in the soft ground by laying the horizontal drain 1 the one end of which is connected to a vacuum pump 2 on the surface of the soft ground and pushing it in a depth direction; a step of covering the surface of the soft ground with an airtight sheet 3; and a step of dehydrating the soft ground via the horizontal drain by operating the vacuum pump.例文帳に追加

そして、一端が真空ポンプ２に接続される水平ドレーン１を、軟弱地盤の表面に横たえて深度方向に押し込むことで複数の水平ドレーン１，１を軟弱地盤の中に横向きに配置する工程と、軟弱地盤の表面を気密シート３で覆う工程と、真空ポンプを稼働させて水平ドレーンを介して軟弱地盤の脱水をおこなう工程とを備えている。 - 特許庁

The method includes: a step of bringing a main pattern part 20 formed on a template 2 into contact with a resist material 5 arranged on a film 4 to be processed; and a step of adjusting a distance so that the distance between a surface of the film 4 and the surface opposed to the film 4 of the main pattern part 20 becomes a predetermined distance while the main pattern part 20 is brought into contact with the resist material 5.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、テンプレート２に形成された主要パターン部２０と被加工膜４上に配置されたレジスト材５とを接触させる工程と、主要パターン部２０とレジスト材５との接触状態において、被加工膜４の表面と主要パターン部２０の被加工膜４に対向する表面との距離が所望の距離となるように距離を調整する工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a bonding method which bonds two members firmly with high dimensional-accuracy selectively in a part of region of a bonding surface, a bonded body which is obtained by bonding the two members firmly with high dimensional-accuracy selectively in a part of region of the bonding surface, a liquid droplet jetting head which is provided with the bonded body and has high reliability, and a liquid droplet jetting apparatus which is equipped with the liquid droplet jetting head.例文帳に追加

２つの部材同士を、接合面の一部の領域において選択的に、高い寸法精度で強固に接合可能な接合方法、２つの部材同士を、接合面の一部の領域において選択的に、高い寸法精度で強固に接合してなる接合体、かかる接合体を備えた信頼性の高い液滴吐出ヘッド、およびかかる液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置を提供すること。 - 特許庁

The grinding method for grinding an object to be ground includes a groove forming step of forming a plurality of grooves with a depth not reaching a grind-finished thickness on a surface to be ground of the object, a filling step of filling a dressing material in the grooves, and a grinding step of grinding the surface to be ground together with the dressing material by a grinding means including a whetstone to thin the object to the grind-finished thickness.例文帳に追加

被研削物を研削する研削方法であって、被研削物の被研削面に研削仕上げ厚みに至らない深さの複数の溝を形成する溝形成ステップと、該溝中に目立て材を充填する充填ステップと、砥石を含む研削手段で該被研削面を該目立て材ごと研削して、該研削仕上げ厚みまで被研削物を薄化する研削ステップと、を具備したことを特徴とする。 - 特許庁

This method has a first process for adding a catalyst element capable of lowering the crystallization temperature of the semiconductor film onto a conductive surface, a second process for forming the first semiconductor film having the crystal structure on the conductive surface added with the catalyst element, and a third process for forming the second semiconductor film containing phosphorus on the first semiconductor film.例文帳に追加

導電性表面上に半導体膜の結晶化温度を低下させることが可能な触媒元素を添加する第１の工程と、触媒元素が添加された前記導電性表面上に、結晶構造を有する第１の半導体膜を形成する第２の工程と、第１の半導体膜上にリンを含有する第２の半導体膜を形成する第３の工程とを有することを特徴としている。 - 特許庁

A method for producing particles includes: a dispersion step of dispersing the core particles in a gas containing a gaseous photopolymerizable monomer; and a photopolymerization step of irradiating the gaseous monomers with light in the state of making the gaseous monomers contact the surface of the core particles thereby to cause a photopolymerization reaction between molecules of the monomers on the surface of the core particles.例文帳に追加

本発明に係る粒子の製造方法は、光重合する気体状の単量体を含む気体中に核粒子を分散させる分散工程と、上記核粒子の表面に上記気体状の単量体を接触させた状態で光を照射することによって、当該核粒子の表面において当該単量体を分子間において光重合させる光重合工程とを有する。 - 特許庁

The method of removing the Sn oxide coating film formed on the surface of the Sn-based plated material on which a plating layer containing Sn is provided is carried out by immersing the Sn-based plated material having Sn oxide coating film formed on the surface into a prescribed ammonia buffer solution and after that applying a prescribed voltage onto the immersed Sn-based plated material to electrolytically reduce the Sn oxide coating film.例文帳に追加

Ｓｎを含むめっき層が設けられたＳｎ系めっき材表面に形成されたＳｎ酸化皮膜の除去方法であって、表面にＳｎ酸化皮膜が形成されたＳｎ系めっき材を、所定のアンモニア緩衝液に浸漬した後、浸漬されているＳｎ系めっき材に所定の電圧を印加することにより、Ｓｎ酸化皮膜を電解還元して除去するＳｎ酸化皮膜の除去方法。 - 特許庁

To provide a developing roller which can uniformly disperse spherical particles on a surface layer, enhance mechanical strength of the spherical particles, and prevent damage to a member contacted with a surface of the developing roller compared with the configuration described in the patent document 1; a developing device, an image forming apparatus and a process cartridge which are provided with the developing roller; and an image formation method using the developing roller.例文帳に追加

球状粒子を均一に表層に分散させることができ、球状粒子の機械的強度を高めることができ、かつ、特許文献１に記載の構成に比べて現像ローラ表面と接触する部材が傷つくのを抑制することのできる現像ローラ、並びに、現像ローラを備えた現像装置、画像形成装置およびプロセスカートリッジ、並びに、現像ローラを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

The template with an identification mark used in an optical imprinting method has a main pattern region 12 wherein a desired pattern is formed in an irregular form on a front surface of a light transmissive substrate 11 and includes the pattern forming template 10 used for optical imprinting, and the identification mark 15 formed on a rear surface of the substrate 11 to partially overlap the main pattern region 12 for individual identification of each template.例文帳に追加

光インプリント法に使用する識別マーク付きテンプレートであって、光透過性の基板１１の表面に所望のパターンが凹凸形状で形成されたメインパターン領域１２を有し、光インプリントに用いられるパターン形成用テンプレート１０と、基板１１の裏面に、メインパターン領域１２と一部重なるように設けられた、テンプレートの個別識別を可能にするための識別マーク１５と、を具備してなる。 - 特許庁

A method for manufacturing a lens in an inkjet manner includes a step for coating in which a composition (A) including a transparent composition and at least one of pigment and dyestuff and a transparent composition (B) are applied on a lens substrate surface in an inkjet manner and a step for fixation in which the coating layer formed in the step for coating is dried and thereby fixed on the substrate surface as a colored layer.例文帳に追加

インクジェット方式によるレンズの製造方法であって、透明な組成物と顔料または染料の少なくともいずれかを含んだ組成物（Ａ）と、透明な組成物（Ｂ）とを、インクジェット方式によりレンズ基材表面に塗布する塗布工程と、前記塗布工程により形成された塗布層を乾燥することにより着色層として前記基材表面に定着させる定着工程とを備えている。 - 特許庁

To provide a display surface protection panel which cleans foreign matters such as dust of a display surface of a liquid crystal display device without reducing work efficiency and reduces the possibility that foreign matters such as dust penetrate a gap immediately after being cleaned, and to provide a display device and a method for manufacturing the display device, with respect to various image display devices displaying images by liquid crystal, plasma, and organic EL display panels.例文帳に追加

液晶、プラズマ、有機ＥＬなどの表示パネルにより画像を表示することができる各種の画像表示装置において、作業効率を低下させずに液晶表示装置の表示面のごみや埃など異物を清掃し、また清掃した直後にごみや埃など異物が入り込んでしまう可能性を低減する表示面保護パネル、表示装置および表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of forming the mark on the optical glass member 1 includes that: the optical glass member 1 is prepared; a combustion layer 2 containing a combustible material 22 is formed on the surface of the optical glass member 1; and a projected part is made by irradiating a prescribed region of the combustion layer 2 with a laser beam 11 to deform the surface of the optical glass member 1 and to form the mark 3 including a projected part.例文帳に追加

光学ガラス部材１のマーク形成方法であって、光学ガラス部材１を用意することと、可燃物質２２を含む燃焼層２を前記光学ガラス部材１の表面に形成することと、前記燃焼層２の所定の領域にレーザ光１１を照射することにより、前記光学ガラス部材１の表面を変形させて凸部とし、前記凸部を含むマーク３を形成することを含む。 - 特許庁