「surface method」に関連した英語例文の一覧と使い方(932ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent the growth of microorganisms on the membrane surface or adhesion of microorganisms and their metabolites to the membrane surface, suppress chemical cost, and inhibit a deterioration of a membrane due to a sterilizer in a purified water production method where raw water containing nitrogen-containing substances is filtered with a microfiltration membrane and/or an ultrafiltration membrane and the filtrate is treated with a reverse osmosis membrane and/or a nanofiltration membrane.例文帳に追加

窒素含有物質を含む原水を精密ろ過膜および／または限外ろ過膜でろ過し、そのろ過水を逆浸透膜および／またはナノろ過で処理する浄化水の製造方法において、それぞれの膜面上での微生物増殖あるいは微生物およびその代謝物の膜面への付着を防止することができると同時に、薬品コストを抑え、殺菌剤による膜の劣化を最小限に抑制する。 - 特許庁

The printing method for the semiconductor device performs printing on the surface of the semiconductor device A, including a semiconductor chip 1 and a resin package 5 covering the semiconductor chip 1, and includes a process of forming a groove part 6 on the surface of the resin package 5 and a process of filling the inside of the groove part 6 with a thermosetting resin 7 that is identifiable with respect to the resin package 5.例文帳に追加

本発明によって提供される半導体装置の印字方法は、半導体チップ１と、この半導体チップ１を覆う樹脂パッケージ５とを含む半導体装置Ａに対して、その表面に印字するための印字方法であって、樹脂パッケージ５の表面に溝部６を形成する工程と、溝部６の内部に樹脂パッケージ５に対して識別可能な熱硬化性樹脂７を充填する工程と、を有する。 - 特許庁

This method for manufacturing the stamper for molding the optical disk substrate comprises forming a Ni-electroformed layer of a film state having a transferring surface on a photoresist master disk provided with a transferring surface pattern by an electroforming unit 101 and forming a heat insulating layer of a film state having thermal insulation property on the Ni-electroformed layer by a heat insulating layer molding unit 106.例文帳に追加

転写面パターンを備えたフォトレジスト原盤上に転写面を有するＮｉ電鋳層を成膜形成する電鋳ユニット１０１を設け、Ｎｉ電鋳層上に断熱性を有する断熱材を成膜形成する断熱材成形ユニット１０６を設け、これらの電鋳ユニット１０１と断熱材成形ユニット１０６とによって断熱材が形成された光ディスク基板成形用スタンパを製造する。 - 特許庁

As regards the projecting bump defects formed by a surface treatment such as plating on the surface of a cylindrical member, the method of manufacturing the cylindrical precision member includes: detecting the places of the bump defects by a defect detecting means; irradiating the roll face of the cylindrical member with a machining laser beam from a tangential direction by a machining laser beam irradiation means; and removing the bump defects.例文帳に追加

円筒状部材の表面にめっき等の表面処理により形成された突起状の瘤欠陥について、前記瘤欠陥の箇所を欠陥検出手段により検出し前記円筒状部材のロール面に対して接線方向から加工用レーザービーム照射手段により加工用レーザービームを照射し前記瘤欠陥を除去することを特徴とする円筒状精密部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

The surface treatment method of the micromass measuring sensor using a quartz vibrator constituted by forming a metal film on the surface of a quartz substrate is composed of a process (S101) for coating a micromass measuring sensor element with a photoresist protective film and a process (S102) for irradiating the photoresist protective film with light to cure the same.例文帳に追加

上記の目的を達成する為に本発明は、水晶基板の表面に金属膜を形成して成る水晶振動子を用いた微少質量測定用センサの表面処理方法において、微少質量測定用センサ素子の表面にフォトレジスト保護膜を塗布する工程（Ｓ１０１）と、光を照射してフォトレジスト保護膜を硬化する工程（Ｓ１０２）とによりなることを特徴として課題を解決する。 - 特許庁

The method of manufacturing the rare earth magnet includes a step of forming a protective layer containing an oxygen and/or a nitrogen near the front surface of the metal layer, by bringing a mixed chemical seed containing plasma-excited oxygen and/or the nitrogen and a rare gas into contact with the metal layer provided on the front surface of a magnet element containing the rare earth element.例文帳に追加

上記課題を解決する本発明の希土類磁石の製造方法は、希土類元素を含有する磁石素体の表面上に設けられた金属層に、プラズマ励起された酸素及び／又は窒素並びに希ガスを含有する混合化学種を接触させることにより、金属層の表面近傍部に酸素及び／又は窒素を含有する保護層を形成する工程を有するものである。 - 特許庁

The method includes coating at least one of a head of the fastener and a preformed dielectric insert with an adhesive, inserting the preformed dielectric insert into the recess such that the adhesive engages both contours of the recess and the preformed dielectric insert, and removing any excess adhesive from the surface area of the composite material and a top surface of the insert.例文帳に追加

この方法は、締結装置のヘッドおよび予備成形された誘電体インサートのうち少なくとも１つを接着剤でコーティングすることと、接着剤が凹部および予備成形された誘電体インサートの両方の輪郭を係合するように予備成形された誘電体インサートを凹部に挿入するステップと、複合材料の表面領域およびインサートの上面から余分の接着剤を取除くステップとを含む。 - 特許庁

In this method of improving the surrounding environment by coating an indoor wall surface with paint containing charcoal powder or using a molding coated with the paint containing charcoal powder, an indoor floor face is formed of an insulator, and the wall surface or the molding is connected to at least one of an earth electrode buried underground and a generator to create the surrounding environment rich in negative ions.例文帳に追加

室内壁面に木炭粉末を含有した塗料を塗布、または木炭粉末を含有した塗料を塗布した成形体を用いて周囲の環境を改善する方法であって、室内の床面を絶縁体で形成し、壁面または成形体を地中に埋設した接地電極及び発電機のそのうち少なくともひとつ以上を接続させることにより、周囲の環境をマイナスイオンが豊富な環境にできる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a styrenic resin foam to obtain foam uniformly and finely foamed in a high expansion ratio to form a smooth and even surface capable of being directly printed by a roll or the like without generating irregularity, and to provide the printed foam having a printing surface free from white spots for exhibition or decoration.例文帳に追加

スチレン系樹脂発泡体の製造方法を提供するものであって、得られた発泡体は、均一微細に高倍率に発泡して、表面が平滑であり、表面に凹凸がないために、表面にロール等で直接印刷した場合に、むらなく印刷できて、印刷面には白とびの部分がなく、従って印刷したものをそのまま展示用又は装飾用に提供できる、という特色のあるものである。 - 特許庁

In the method of manufacturing the electrophotographic photoreceptor constituted of the lamination of at least a photosensitive layer and the surface layer containing the binder resin and the filler on a conductive supporting body, a coating liquid forming the surface layer is prepared by passing through a process for dispersing the filler in a solvent without adding the binder resin and after that, mixing with a dissolving liquid of the binder resin.例文帳に追加

導電性支持体上に少なくとも感光層と、バインダー樹脂およびフィラーを含有する表面層の積層で構成される電子写真感光体の製造方法において、バインダー樹脂を加えないでフィラーを溶媒に分散する工程の後、バインダー樹脂の溶解液と混合することにより該表面層を形成する塗工液を作成することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。 - 特許庁

In a method for drying lumber by dielectric heating wherein drying treatment is applied to lumber W charged in a drying furnace 2 by applying high frequency, environment for satisfying conditions suppressing discoloration of a surface and a surface crack of the lumber is generated in a drying furnace 2 as a drying environment-generating means for generating environment for drying the lumber, and drying treatment is applied under this environment.例文帳に追加

乾燥炉２に装填された木材Ｗに高周波を印加することによる誘電加熱で乾燥処理を施す木材の乾燥方法において、木材乾燥環境を生成させる乾燥環境生成手段に、木材の表面の変色および表面割れを抑制する条件を満たす環境を乾燥炉２内に生成させ、この環境下で乾燥処理を施すようにしている。 - 特許庁

The production method of the probe element is characterized in that it contains a first step for preparing a stage having a main surface and one or more recesses, and a second step for forming, on the main surface, a first photoresist layer which is formed by laminating two or more dry photoresist films and has a projection penetrating the first photoresist layer in the thickness direction to reach the recess.例文帳に追加

プローブ要素の製造方法は、主面を有すると共に該主面に１以上の凹所を有する基台を準備する第１のステップと、フィルム状をした２以上の乾燥ホトレジストを重ねた第１のホトレジスト層であって当該第１のホトレジスト層をこれの厚さ方向に貫通して前記凹所に達する突起部を有する第１のホトレジスト層を前記主面に形成する第２のステップとを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The image recording method displays an image by producing drops of an image display recording liquid comprising water and water insoluble fine particles depending on a print pulse and then moving the liquid drops onto the surface of a recording medium wherein the image display recording liquid is ejected from the free surface thereof to produce liquid drops having size of 0.1-5 pl.例文帳に追加

少なくとも、水、及び、水に不溶の微粒子を含む画像表示記録液を印字パルスに応じて液滴化した後、記録媒体表面に移動させることにより画像を表示する画像記録方法であって、前記液滴化が、画像表示記録液を、該画像表示記録液の自由表面から噴射することにより、０．１〜５ｐｌの液滴サイズとなるように行われることを特徴とする画像記録方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes the steps of: preparing a wiring substrate; mounting a semiconductor chip 8 on one surface of the wiring substrate; preparing a liquid sealing resin in a cavity 15 and scattering a filler 20 over the liquid sealing resin; dipping the side of the one surface of the wiring substrate in the liquid sealing resin; and forming a sealing body 22 by curing the sealing resin.例文帳に追加

配線基板を準備する工程と、前記配線基板の一面上に、半導体チップ８を搭載する工程と、キャビティ１５に液状の封止樹脂を備えて、前記液状の封止樹脂の上部にフィラー材２０を散布する工程と、前記封止樹脂に前記配線基板の一面側を浸漬する工程と、前記封止樹脂を硬化して封止体２２を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In this printing plate material 6 and manufacturing method tehreof, the surface layer of the base material 1 itself is reformed into an oxidized layer 4 exhibiting the photocatalytic function by heating treatment, fine particles 2 exhibiting the photocatalytic function are burnt on the surface of the oxidized layer 4, and the fine particles are coated with a layer 5 containing a hydrophobic compound and decomposable by the photocatalytic function.例文帳に追加

加熱処理により、基材（１）自体の表層が、光触媒機能を発揮可能な酸化層（４）に改質されているとともに、酸化層（４）の表面に、光触媒機能を発揮可能な微粒子（２）が焼き付けられており、その上に、疎水性の化合物を含み光触媒機能により分解可能な層（５）が被覆されていることを特徴とする印刷用版材（６）、およびその製造方法。 - 特許庁

In the production method for compound single crystal for epitaxially growing the compound single crystal layer, different from a compound single crystal substrate on the surface of this substrate, at least one part of the substrate surface has a plurality of projections, extending in one direction and each of such projections is provided, so that the defects to be grown with the epitaxial growth of this compound monocrystal layer can mutually meet.例文帳に追加

化合物単結晶基板の表面にこの基板とは異なる化合物単結晶層をエピタキシャル成長させる化合物単結晶の製造方法であって、前記基板表面の少なくとも一部が一方向に延在する複数の起伏を有し、かつこの起伏は前記化合物単結晶層のエピタキシャル成長に伴って成長する欠陥が互いに会合しあうように設けられた方法。 - 特許庁

To provide a polishing solution for polishing hard barrier layers and layer insulation films while the surface of cupper or a cupper alloy in a recess is protected during polishing to obtain a polished superior-flatness clean substrate surface, in the manufacturing of an electronic apparatus such as a semiconductor device, and to provide a high reliability chemical/mechanical polishing method superior in microprocessing, thinning, and dimension accuracy.例文帳に追加

半導体デバイスなど電子機器の製造において、硬いバリア層や層間絶縁膜を研磨する際に、凹部の銅或いは銅合金表面を研磨中に保護することにより、研磨後に平坦性に優れた清浄な基体表面が得られる研磨液、及び前記研磨液を用いて生産性が高く、微細化、薄膜化、寸法精度に優れ、信頼性の高い化学機械研磨を行う研磨方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing a high planarity semiconductor wafer by machining a semiconductor wafer through plasma etching comprises a step S5 for measuring the thickness distribution of the semiconductor wafer, and a step S7 for locally plasma etching the rear surface of the semiconductor wafer, while varying the etching amount depending on the thickness distribution measured in the planarity measuring step, thus planarizing the rear surface of the semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェーハをプラズマエッチングにより加工する高平坦度半導体ウェーハの製造方法であって、前記半導体ウェーハの厚さ分布を測定する平坦度測定工程Ｓ５と、プラズマエッチングにより前記半導体ウェーハの裏面を前記平坦度測定工程で測定された厚さ分布に応じてエッチング量を変えながら局部的に加工し平坦化する裏面プラズマ加工工程Ｓ７とを備えている。 - 特許庁

The method of manufacturing circuit board utilizes an adhesive tape and comprises steps of (A) forming a circuit pattern on an adhesive agent layer of the adhesive tape by a conductor, (B) forming an insulated layer by coating the circuit forming surface of the adhesive tape with an insulation material, and then (C) exposing the circuit at the surface of insulation layer by peeling the adhesive tape.例文帳に追加

本発明の回路基板の製造方法は、粘着テープを用いた回路基板の製造方法であって、（Ａ）粘着テープの粘着剤層上に導体により回路パターンを形成する工程の後、（Ｂ）前記粘着テープの回路形成面に絶縁性材料を塗布して絶縁層を形成する工程、次いで（Ｃ）前記粘着テープを剥離して絶縁層表面に回路を露出させる工程を設けることを特徴とする。 - 特許庁

In the method of forming the semiconductor layer in which a second semiconductor layer 103 having a second ion bonding degree larger than a first ion bonding degree is formed on the surface of a first semiconductor layer 102 having the first ion bonding degree, the second semiconductor layer 103 is formed on the surface of the first semiconductor layer 102 present on the side where the second semiconductor layer 103 is formed while irradiated with electrons under a vacuum.例文帳に追加

第１のイオン結合度を有する第１の半導体層１０２の表面に、第１のイオン結合度よりも大きな第２のイオン結合度を有する第２の半導体層１０３を形成する半導体層形成方法において、第２の半導体層１０３を形成する側に在る第１の半導体層１０２の表面に、真空中で電子を照射しながら、第２の半導体層１０３を形成する。 - 特許庁

The joining method for joining the porous body comprising SiC with the joining material includes a step for heat treating the porous body at a first temperature under the atmosphere to remove residual carbon in the porous body, a step for applying carbon on a joining surface of the porous body heat-treated at the first temperature and a step for joining the porous body with the joining material on the joining surface.例文帳に追加

ＳｉＣで構成される多孔体と、接合材とを接合させる接合方法であって、前記多孔体を、大気中において第１の温度で熱処理し、前記多孔体内の残留カーボンを除去する工程と、前記第１の温度で熱処理がされた多孔体の接合面にカーボンを塗布する工程と、前記接合面において、前記多孔体と前記接合材とを接合させる工程と、を少なくとも含む。 - 特許庁

This method comprises steps of forming film forming material layer by applying a paste phase composition containing glass powder, acrylic acid eater resin and solvent on a support film, transcribing the film forming material layer forming on the support film onto an outer surface of a glass substrate to which electrodes are fixed, and forming a dielectric layer in the outer surface of the glass substrate by sintering the transcribed film forming material layer.例文帳に追加

ガラス粉末、アクリル酸エステル系樹脂及び溶剤を含有するペースト状組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を形成し、支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、電極が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表面に誘電体層を形成する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

This lipid quantity determination method includes: a preparation process for preparing a non-antibody probe material bondable specifically to some lipid which is a determination object; an immobilization process for immobilizing the object lipid on the substrate surface; a process for bonding the non-antibody probe material to the object lipid immobilized on the substrate surface; and a process for detecting quantitatively the non-antibody probe material bonded to the object lipid.例文帳に追加

定量の対象である脂質に対して特異的に結合可能な非抗体プローブ物質を準備する準備工程と、前記対象脂質を基材の表面に固定する固定工程と、前記基材表面に固定された対象脂質に前記非抗体プローブ物質を結合させる工程と、前記対象脂質に結合した非抗体プローブ物質を定量的に検出する工程と、を含む脂質定量方法とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the nonvolatile memory device having a memory layer reversely shiftable between a first state and a second state includes a step of supplying a liquid, having surface tension smaller than that of water and substantially insoluble with water onto the surface of a substrate having the walls formed thereon and washing the substrate.例文帳に追加

第１の状態と第２の状態との間を可逆的に遷移可能な記憶層を有する不揮発性記憶装置の製造方法であって、壁体が形成された基体の表面に水よりも表面張力が小さくかつ水と実質的に相溶性のない液体を供給し、前記基体の洗浄を行う工程を有すること、を特徴とする不揮発性記憶装置の製造方法が提供される。 - 特許庁

The invention also includes a method of forming a hardened surface on a substrate by processing a solid mass to form a powder, forming a wire by combining the powder with a metal strip, applying the wire to the surface of the substrate to form a layer containing metallic glass, and converting the applied metallic glass to a crystalline material having a nanocrystalline grain size.例文帳に追加

本発明はまた、固体の塊から粉末を形成する過程と、その粉末を金属ストリップと組み合わせてワイヤを形成する過程と、ワイヤを基板表面に堆積して金属ガラスを含有する層を形成する過程と、堆積させた金属ガラスがナノ結晶性粒子サイズを有するように結晶性材料に変換する過程とによって、基板上に、硬化された表面を形成する方法を含む。 - 特許庁

To provide a method for surface-treatment of a cycloolefinic resin molded article to achieve strong plating adhesion of the surface of the cycloolefinic resin molded article by anchor effect while keeping the transparency of the cycloolefinic resin and enabling easy chemical plating compared with the chemical plating to conventional cycloolefinic resin molded articles.例文帳に追加

環状オレフィン系樹脂の透明性を活かすとともに、環状オレフィン系樹脂成形品の表面がアンカー効果による高いメッキ密着力を実現するための環状オレフィン系樹脂成形品の表面処理方法であり、且つ従来の環状オレフィン系樹脂成形品に対する化学メッキよりも、容易に化学メッキするための環状オレフィン系樹脂成形品の表面処理方法を提供する。 - 特許庁

The pattern formation method includes the steps of: laminating a self-assembled monolayer and a polymer film on a substrate; chemically bonding the polymer film to the self-assembled monolayer with an irradiation of an energy ray, thereby forming a polymer surface layer on the self-assembled monolayer; and forming a polymer alloy having a pattern of a phase-separated structure on the polymer surface layer.例文帳に追加

基板上に自己組織化単分子膜とポリマー膜を積層する工程と、エネルギー線を照射することにより前記ポリマー膜と前記自己組織化単分子膜を化学結合させ、ポリマー表面層を前記自己組織化単分子膜上に形成する工程と、相分離構造のパターンを有するポリマーアロイを前記ポリマー表面層上に形成する工程と、を含むパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing the prepreg by impregnating a long-size fiber base material with the liquid resin comprises transporting the fiber base material while keeping contact with the surface of an impregnating roll soaked in the liquid resin, and flowing the liquid resin between the inside of the impregnating roll and the external surface at an angle of 20-60° to the transporting direction of the fiber material.例文帳に追加

長尺状の繊維基材に液状樹脂を含浸させるプリプレグの製造方法であって、上記液状樹脂中に浸漬した含浸ロール表面に上記繊維基材を接触させて移送するとともに、上記液状樹脂を上記繊維基材の移送方向に対して２０〜６０度の角度で、上記含浸ロールの内部と外部表面との間を流動させることを特徴とする、プリプレグの製造方法。 - 特許庁

To provide a food processing method and food processor for reducing oxidation of a component in food, by setting the oxygen concentration of an atmosphere around the food to the oxygen concentration or less in the atmosphere by continuously sticking a condensate to a food surface while continuously sticking the condensate to the food surface, by heating the food by condensing heat transfer of water, without requiring complicated preprocessing.例文帳に追加

複雑な前処理などを必要とせず、食品を水の凝縮伝熱により加熱すると共に、食品表面に凝縮水を連続的に付着させて食品表面に凝縮水を連続的に付着させることにより当該食品周囲の雰囲気の酸素濃度を大気中に酸素濃度以下にして、当該食品内成分の酸化を少なくした食品加工方法およびその食品加工器を提供する。 - 特許庁

A method comprises forming the film of the triazine thiol derivative on the surface of the electroconductive metal, and then subjecting it to an electrodeposition treatment by using an aqueous solution including only an electrolyte except the triazine thiol derivative as an electrolytic solution, to impart functions such as a corrosion resistance, an adhesive property, and a mold releasing property to the metal surface by means of accelerating a polymerization of a film material.例文帳に追加

トリアジンチオール誘導体及びこれを含む溶液を用いて、導電性の金属表面にこれらの薄膜を形成させ、しかる後にトリアジンチオール誘導体を含まない電解質のみを含む水溶液を電解溶液として用い電気化学的処理を行ない、該膜材に重合反応を促して金属表面に耐食性、接着性、及び離型性などの諸機能を与えるとしたものである。 - 特許庁

In the method for manufacturing an antireflection film, two layers having different refractive indices are formed through steps of applying a specific coating material composition containing at least two kinds of inorganic particles on one surface of a supporting material once, and drying and curing the applied composition, wherein at least one kind of inorganic particles are surface-treated with a 4-7C branched fluorine compound.例文帳に追加

２種類以上の無機粒子を含む特定の塗料組成物を、支持基材の片面上に１回塗布乾燥硬化する工程により、屈折率の異なる２層を構成する反射防止フィルムの製造方法であって、少なくとも一種類の無機粒子は炭素数４〜７の分岐状フッ素化合物による表面処理がされていることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。 - 特許庁

In the method for manufacturing the transparent protective film for a polarizing plate by applying the film with an adhesive layer on at least one surface of a polarizer, the surface of the transparent protective film to be adhered with the polarizer is treated by irradiation of UV rays at the wavelengths at ≤200 nm and from 200 to 400 nm while the transparent protective film is cooled.例文帳に追加

偏光子の少なくとも一方の面に接着層を介して設けられる偏光板用透明保護フイルムの製造方法であって、偏光板用透明保護フイルムを冷却しながら、偏光板用透明保護フイルムの偏光子と接着する面を、２００ｎｍ以下と２００〜４００ｎｍの波長の紫外線により照射処理することを特徴とする偏光板用透明保護フイルムの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device with corrosion of its copper layer suppressed, even when a semiconductor wafer with its semiconductor substrate having a copper layer covered by an insulating film is subjected to dry etching in a fluorocarbon gas for partially removing the insulating film for the exposure of the copper layer surface, and the semiconductor wafer is then exposed to the atmosphere before a surface treatment.例文帳に追加

絶縁膜で覆われた銅層を半導体基板上に有する半導体ウエハをフルオロカーボン系ガスを用いたドライエッチングに供して絶縁膜を部分的に除去して銅層表面を露出させ、得られた半導体ウエハを大気へ暴露してから半導体ウエハを表面処理に供する場合であっても、銅層に対するコロージョンの発生を抑制し得る半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which realizes image formation of highly stable electrical characteristics and high quality for a long period simultaneously with excellent durability by using a surface layer having high wear resistance and smooth surface characteristics, and an image forming method using such long-lifetime and high-performance photoreceptor, an image forming apparatus and a process cartridge for the image forming apparatus.例文帳に追加

耐摩耗性が高く、平滑な表面性を有する表面層を用いることにより、優れた耐久性と同時に、高安定な電気特性及び高品質の画像形成を長期間にわたり実現した電子写真感光体を提供することであり、また、それらの長寿命、高性能感光体を使用した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁

This shot-peening method for a metal product to improve hardness of a surface of the metal product by projecting a shot having hardness the same or higher than the metal product on the surface of the metal product constitutes its characteristic feature of constituting a structure of a shooting part of the metal product of hyper-fine crystal grains of less than 500nm in shot coverage of 900%.例文帳に追加

本発明のショットピーニング方法は、金属成品の表面に、前記金属成品と同等以上の硬度を有するショットを投射し、前記金属成品の表面の硬度を向上させる金属成品のショットピーニング方法において、ショットカバレージを９００％以上として前記金属成品の被ショット部分の組織が５００ｎｍ以下の超微細結晶粒からなることを特徴とする。 - 特許庁

The method for presenting a protein on the cell surface layer of a microorganism comprises (a) a process for forming a recombinant DNA containing a DNA encoding Porin and a DNA encoding the protein in this order, (b) a process for transforming the microorganism with the recombinant DNA, and (c) a process for culturing the transformed microorganism to present the protein on the cell surface layer of the microorganism.例文帳に追加

また、タンパク質を微生物の細胞表層に提示する方法であって、（ａ）ポーリン（Ｐｏｒｉｎ）をコードするＤＮＡ、および該タンパク質をコードするＤＮＡをこの順で含む組換えＤＮＡを構築する工程；（ｂ）該組換えＤＮＡで微生物を形質転換する工程；および（ｃ）該形質転換した微生物を培養して、該タンパク質を該微生物の細胞表層に提示する工程、を含む方法が提供される。 - 特許庁

To provide a composite surface treatment method with less environmental load by which the primary and secondary treatments can be performed by one process as a whole, thereby enhancing working efficiency, and also slidability, hardness, wear resistance, heat radiation, heat resistance, heat conductivity and the like can be enhanced compared with heretofore and aluminum and aluminum alloy treated with a surface treated solution.例文帳に追加

一次処理および二次処理をまとめて１工程で処理でき、それにより作業効率を高めるとともに、表面部位の微細孔を直接封じる構成にすることで、摺動性、硬度、耐摩耗性、熱放射性、耐熱性、熱伝導性、等を従来に比して高めることが出来る環境負荷の少ない複合表面処理方法および表面処理液として、アルミニウムおよびアルミニウム合金を提供する。 - 特許庁

This method includes steps of providing a semiconductor substrate 11 having a metallic pattern 12 having different pattern densities thereon, depositing a porous oxide film 14 on the entire surface of the substrate so as to cover the metallic pattern 12, subjecting the surface of the porous oxide film to a plasma process, and polishing the film 14 subjected to the plasma process in a CMP process.例文帳に追加

本発明は、異なるパターン密度に金属パターン１２が形成された半導体基板１１を提供する段階、前記金属パターン１２を覆うように、前記半導体基板の全面上に多孔性の酸化膜１４を蒸着する段階、前記多孔性の酸化膜の表面をプラズマ処理する段階、及び前記プラズマ処理した多孔性の酸化膜１４をＣＭＰ工程にて研磨する段階を含む。 - 特許庁

In a manufacturing process of a multilayer printed wiring board wherein a lining substrate and prepreg laminated in an integrated body, a lining processing method of a printed wiring board is used which is provided with a process for coarsening a surface of a copper circuit formed on the lining substrate by using the chemistry coarsening liquid, and a process for treating the coarsened copper circuit surface by using silane coupling agent.例文帳に追加

内層回路基板とプリプレグとを積層一体化してなる多層プリント配線板の製造プロセスにおいて、内層基板に形成された銅回路表面を化学粗化液により粗化する工程、および粗化された銅回路表面をシランカップリング剤で処理する工程を少なくとも有することを特徴とする多層プリント配線板の内層処理方法を提供することで、課題を解決した。 - 特許庁

This method comprises the steps of forming a dielectric film partially on a substrate, forming a first semiconductor film having a lattice constant different from that of the substrate to sandwich the dielectric film, making the first semiconductor film porous, cleaning the surface of the porous semiconductor film, and forming a second semiconductor film having the same composition as that of the first semiconductor film on the cleaned surface.例文帳に追加

本発明は、基板上に部分的に誘電体膜を形成する工程と、該誘電体膜を挟んで基板とは格子定数の異なる第一の半導体膜を形成する工程と該第一の半導体膜を多孔質化する工程と、該多孔質化した半導体膜の表面をクリーニングする工程と、該クリーニングした表面上に該第一の半導体膜と同じ組成の第二の半導体膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method comprises forming a resin-made ring on the surface of a cylindrical mold and eliminating the mold and is characterized by having a first step of irradiating the resin-made ring formed on the surface of the mold with a CO_2 laser beam to form a cut groove and a second step of removing unnecessary parts of the resin-made ring along the cut groove.例文帳に追加

本発明は、円柱状金型の表面に樹脂製環状体を形成した後、金型を脱離する樹脂製環状体の製造方法であって、金型の表面に形成した樹脂製環状体にＣＯ_2レーザ光を照射して切込み溝を形成する切込み工程と、切込み溝に沿って、不要な樹脂製環状体を除去する皮剥ぎ工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin coated aluminum panel constituted by coating the surface of an aluminum panel or aluminum alloy panel with a thermoplastic resin having light perviousness, well holding the adhesion of a resin layer even if drawing processing or squeeze processing is applied and excellent in drawing processability and squeeze processability suppressing the cloudiness degree of an outer surface, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

アルミニウム板またはアルミニウム合金板の表面に光透過性を有する熱可塑性樹脂を被覆してなる熱可塑性樹脂被覆アルミニウム板において、絞り加工や、しごき加工を施しても樹脂層の密着性が良好に保持されると共に、外面の白濁の度合いを抑えた絞り加工性およびしごき加工性に優れた熱可塑性樹脂被覆アルミニウム板ならびにその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a silicon wafer having a strained silicon layer 10 includes steps of at least forming the surface layer of the silicon wafer as an ion injection layer 11 by injecting ion into a silicon wafer 12, and growing the strained silicon layer by vapor phase epitaxy of the silicon on the ion-injected surface of the silicon wafer after distorting lattices in the in-plane direction.例文帳に追加

歪みシリコン層を有するシリコンウェーハの製造方法であって、少なくとも、シリコンウェーハにイオンを注入することによって該シリコンウェーハの表面層をイオン注入層とし面内方向の格子を歪ませた後、前記シリコンウェーハのイオン注入された面上にシリコンを気相成長させることにより歪みシリコン層を成長させることを特徴とする歪みシリコン層を有するシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an asbestos scattering preventive method capable of securing safety without scattering even after removal, when removing an asbestos including layer, by preventing scattering of asbestos without increasing weight of the asbestos including layer so much, without impairing fire resistant performance of a construction surface or a building material having the asbestos including layer including the asbestos and an inorganic binder on at least a surface.例文帳に追加

アスベストと無機バインダとを含むアスベスト含有層を少なくとも表面に備える造営面または建築材料の耐火性能を損なわず、また、アスベスト含有層の重量をあまり増大させることなくアスベストの飛散を防止することができ、かつ、アスベスト含有層を撤去する際、撤去後においても飛散がなく安全性を確保できるアスベスト飛散防止方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

There is provided a method for manufacturing a metallic double wall pipe 1 in which the external surface of the internal pipe 12 is in contact with the internal surface of the external pipe 11 by cold drawing using a tapered die 2 as a working die.例文帳に追加

加工用ダイスとしてテーパーダイス２を用いる冷間引抜きによって、外管１１の内面に内管１２の外面が接してなる金属二重管１を製造する方法であって、内管１２として、予め外面を研磨して、該外面の算術平均粗さＲａ（Ｒａ１）（ＪＩＳ Ｂ ０６０１）を２．３〜５．０μｍに調整したものを用い、空引き加工をすることを特徴とする金属二重管の製造方法である。 - 特許庁