「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(109ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process for obtaining a sintered aluminum nitride substrate by simple partitioning, which is free from surface deposition or post-partition strength reduction, and excellent in dimensional accuracy.例文帳に追加

窒化アルミニウム焼結体基板を簡単に分割して、表面への付着物の発生がなく、分割後に強度の低下がなく且つ寸法精度に優れた窒化アルミニウム基板を得る方法を提供する。 - 特許庁

To improve the yield in a ball mount process by preventing slight adhesion and discoloration of solder balls, and to improve the soldering reliability of the solder balls by reducing an oxide film on a surface of the solder ball.例文帳に追加

はんだボールの微接着及び変色を防止してボールマウントプロセスでの歩留まりを向上させるともに、はんだボールの表面の酸化膜を還元し、はんだボールの接合信頼性を向上させる。 - 特許庁

To provide a manufacturing process for a porous granular material which is useful as an adsorbent, a catalyst carrier, an abrasive, a controlled release agent, etc., wherein the surface of an aluminum hydroxide-containing granular material is reacted with calcium hydroxide.例文帳に追加

吸着剤、触媒担体、研磨剤、徐放剤などに利用ができる、水酸化アルミニウム含有粒状体表面を水酸化カルシウムと反応させた多孔質粒状体の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the temperature detection element manufacturing process, the covering layer 5 is formed on a part furthermore on the tip side than a position corresponding to at least the rear end 21 of the temperature-sensitive element 2, on the surface of the protection layer 4.例文帳に追加

温度検出素子作製工程において、被覆層５は、保護層４の表面のうち、少なくとも感温素子２の後端部２１に相当する位置よりも先端側の部分に形成される。 - 特許庁

To provide a production process of an SOI substrate which can peel a semiconductor substrate while maintaining planarity of a peeled surface even if a single crystal silicon substrate is cleaved and peeled.例文帳に追加

単結晶シリコン基板を劈開して剥離を行う場合であっても、剥離面の平坦性を保持したまま剥離が可能であるＳＯＩ基板の製造方法を提供することを目的の一とする。 - 特許庁

To reduce the load on a double-sided simultaneous polishing step or a single-sided polishing step in a process for producing a silicon wafer, and to reduce surface roughness of a wafer, while maintaining planarization, when a planarization step is ended.例文帳に追加

両面同時研磨工程や片面研磨工程の負荷を軽減するとともに、平坦化工程を終えた際のウェーハ平坦度の維持及びウェーハ表面粗さの低減の双方を達成し得る。 - 特許庁

The marking indication content 100 is first drawn and indicated on the surface of a marking indication object 500 with a black color-based paint that is easy to be burned out with a laser irradiation in an indication content pre-indication process.例文帳に追加

まず、表示内容前表示工程で、マーキング表示対象物500 の表面にマーキング表示内容100 を、レーザー照射により焼失しやすい黒色系塗料により描画、表示する。 - 特許庁

Caulking process of the shaft 11 is performed simultaneously on both ends by punches 21, 2 in a receiving side and a pushing side with shifting the shaft 11 to make one end thereof withdraw from an outer surface of one of the opposing wall parts 4a.例文帳に追加

軸１１のかしめ加工は、軸１１を一端が一方の対向壁部４ａの外面よりも引っ込むようにずらせておき、受け側と押し側のポンチ２１，２２で両端同時に行う。 - 特許庁

To provide a drying device capable of being miniaturized and easily cleaned by disposing a duct inside a wall surface of the drying device with respect to the drying device capable of being provided with a nozzle injection process of a nozzle device.例文帳に追加

ノズル装置のノズル噴射工程を設置できる乾燥装置であってダクトを乾燥装置の壁面の内部に設けて、乾燥装置の小型化と清掃の容易な乾燥装置の提供を目的とする。 - 特許庁

In this process, resin is applied to the surface of the side of the ABS of the bar 102 (S3) and the thickness of the resin is made thin with solvent (S4) and the bar 102 with the resin applied is etched from the side of the resin (S5).例文帳に追加

この工程では、バー１０２のＡＢＳ側の面に樹脂を塗布し（Ｓ３）、この樹脂の厚さを溶剤で薄くし（Ｓ４）、この樹脂が塗布されたバー１０２を、樹脂の側からエッチングする（Ｓ５）。 - 特許庁

In a vulcanization process (see, Fig.2(c) and (d)) performed in this state, a part of the heated tooth cloth sheet 24 and a part of the body material 32 are respectively impregnated into a surface of the tooth cloth jacket 28.例文帳に追加

この状態で行われる加硫工程（図２（ｃ）、（ｄ）参照）において、加熱された歯布処理シート２４の一部と本体材料３２の一部を、それぞれ歯布ジャケット２８の表面に含浸させる。 - 特許庁

To provide a film deposition method in which a defect repair process for structures by which both of projecting defects and recessed defects can flatly be repaired in accordance with the surface of a base board can be utilized.例文帳に追加

凸状欠陥或いは凹状欠陥のいずれであっても基板表面に合わせて平坦に修正することのできる構造体の欠陥修正プロセスで利用可能な成膜方法を提供すること。 - 特許庁

Then, the deterioration of the photoreceptor drum surface is suppressed, and also, the occurrence of discharge products at the electrifying process is suppressed and the life of the photoreceptor drum is prolonged and the cleaning performance is enhanced.例文帳に追加

これにより、感光ドラム表面の劣化を抑制するとともに、帯電工程における放電生成物の発生を抑制し、感光ドラムの長寿命化およびクリーニング性の向上を図る。 - 特許庁

To provide a package for containing a light emitting element in which the conical through hole of a ceramic frame has such a wall surface as emission efficiency of the light emitting element can be enhanced, and to provide its manufacturing process.例文帳に追加

セラミック枠体のすり鉢状貫通孔の壁面を発光素子の発光効率を向上できる壁面とすることができる発光素子収納用パッケージの製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve the following problem: when a length from a surface facing a medium of a track prescribing part varies in dimension due to tolerance in a manufacturing process of a head, a recording magnetic field varies, thereby a track width recorded on the medium varies.例文帳に追加

トラック規定部の媒体対向面からの長さが、ヘッド製造工程での公差によりばらついた場合、記録磁界が変化し、それに伴い媒体上に記録されるトラック幅が変化する。 - 特許庁

To provide a reamer for finishing a hole bored in non-ferrous metal such as aluminum die cast, hardly causing the curling of chips in the process of working, achieving good accuracy of a machined surface, and reducing the manufacturing cost.例文帳に追加

アルミダイカストなどの非鉄金属の穴の仕上げ加工を行うためのリーマで、加工中に切屑が巻き付きにくく、しかも加工面の精度が良く、製造コストも低減できるリーマを提供する。 - 特許庁

In the substrate-processing method for the above purpose, the final process in the surface on which the crystal of the Mg_xZn_1-xO substrate is to be grown is performed by the acidic wet-etching at pH3 or below.例文帳に追加

このための基板処理方法として、Ｍｇ_ＸＺｎ_１−ＸＯ基板の結晶成長を行う側の表面における最終処理は、ｐＨ３以下の酸性ウェットエッチングで行われる。 - 特許庁

To provide a surface-treated organic pigment that has more excellent coloring characteristics in various kinds of applications such as a printing ink, a coating material, a colored molded article or the like in better productivity than the organic pigment produced by the conventional process.例文帳に追加

印刷インキ、塗料、着色成形品等の各種用途においてより優れた着色特性を有する表面処理有機顔料を、より生産性高く提供することを目的とする。 - 特許庁

At a third step, in the polishing device which has executed the second step, successively pure water is supplied, while a pure water process is carried out in which the semiconductor wafer is pushed against the rotating surface plate.例文帳に追加

第３工程として、第２工程を実行した研磨装置において、引き続いて純水を供給しながら、回転している定盤に半導体ウェハーを押し付ける純水処理を行う。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor is obtained by using an atmospheric pressure plasma discharging process method and by forming an intermediate layer on the electroconductive surface of an electroconductive support and also by forming a protective layer on the organic photoconductive layer.例文帳に追加

大気圧プラズマ放電処理方法を使用し、導電性支持体の導電性を有する面に中間層を、及び有機光導電層の上に保護層を形成することによって達成する。 - 特許庁

To provide an image forming method, an image forming apparatus and a process cartridge, in which deterioration of a surface of an electrophotographic photoreceptor is prevented and by which good image quality can be obtained over a prolonged period of time.例文帳に追加

電子写真感光体の表面の劣化を十分に防止し、長期にわたって良好な画像品質を得ることが可能な画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジの提供。 - 特許庁

To provide a plasma display panel having a green sheet that has no surface separation generated at the stripping of the protection film after lamination, when the green sheet is used in the process of forming a dielectric body in the manufacture of the upper board of the PDP.例文帳に追加

ＰＤＰの上板製造における誘電体の形成工程にグリーンシートを用いるとき、ラミネート後の保護用膜のストリップ時に切れ目が生じないグリーンシートを含むＰＤＰを提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus in which when a heat developing process is carried out using a heating means with an elastic body on its surface, even if films of different sizes are processed, images can be prevented from being affected.例文帳に追加

表面に弾性体を有する加熱手段を用いて熱現像プロセスを実行する際に、サイズの異なるフィルムを処理しても画像ヘの影響を防止できる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for removing the substance adhered to the single surface of a strip-like film, effective for the recycling of a used material sheet generated in a laminated electronic part manufacturing process.例文帳に追加

積層型電子部品の製造過程で発生する使用済み材料シートのリサイクル等に有効な、帯状フィルムの片方の面に付着している物質を帯状フィルムから除去する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composite material which prevents black stains due to inhomogeneous corrosion by a simple process work and which improves designing property of the surface, and to provide a method for manufacturing a composite material and an interior or exterior material for a building.例文帳に追加

簡単な加工作業で、不均一な腐食による黒ずみを防止して表面の意匠性を向上できる複合材、複合材の製造方法、および建物の内外装材を提供すること。 - 特許庁

To provide a cam shaft structure of an internal combustion engine at a low cost in which an oil film is easily formed on the contact surface of the cam so as to improve the durability while the number of manufacturing process is reduced and excellent manufacturing efficiency is achieved.例文帳に追加

カム接触面に油膜が容易に形成され耐久性の向上が図れるとともに製造工程数が少なく生産効率に優れた内燃機関のカムシャフト構造を安価に供する。 - 特許庁

To provide a technique capable of carrying out a good film forming independently of a relationship of properties of the film forming surface and properties of a liquid material when carrying out film forming using a liquid process.例文帳に追加

液体プロセスを用いた成膜を行う際に、成膜面の性質と液状材料の性質との関係に関わらず良好な成膜を行うことを可能とする技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for transfer onto a chair seat which enables transfer of a pattern or a design onto the chair seat and does not impair the chair seat in a process of transfer, while the surface of the chair seat has excellent abrasion resistance.例文帳に追加

椅子台座にパターンや模様を転写可能であり、且つ転写過程中に椅子台座が傷付けられなく、椅子台座の表面は耐磨耗性が良い椅子台座への転写方法を提供する。 - 特許庁

To produce, by a simple production process, a resin sheet including both of a decorative film layer on the surface of which a design face is to be formed and a metallic film layer on which an antenna and a circuit pattern are to be formed.例文帳に追加

表面に意匠面を構成することとなる加飾膜層と、アンテナや回路パターンを構成することとなる金属膜層の両方を設けた樹脂シートを、簡単な製造プロセスで製造する。 - 特許庁

According to the present substrate processing method, when measuring a front surface profile before processing, a first feedforward computation is performed at first, and judgement is made as to a process chamber where a processed parameter value obtained thereby is within an allowable range (S140).例文帳に追加

処理前の表面プロファイルを測定したときに先ず第１回目のフィードフォワード計算を実行し，その結果得られた処理パラメータの値が許容範囲内となる処理室の判定を行う。 - 特許庁

In the taper pad removing process, a tapered hole TH inclined to the work W is formed by removing a protruding pad stuck out on the lower surface of the work W caused by the formation of the tapered recessed part.例文帳に追加

テーパ余肉除去工程では、テーパ状凹部の形成によってワークＷの下面にはみ出した突出余肉を除去して、ワークＷに傾斜したテーパ状の孔ＴＨを形成する。 - 特許庁

The depth of an effective hardening layer of a quenching depth from the surface of the work which is specified by the hardness of a hardening layer of quenching, is determined by a predetermined estimation process from the specified ultrasonic wave position.例文帳に追加

定められた超音波深さ位置から所定の推定処理により、焼入れ硬化層の硬度により定められるワーク表面からの焼入れ深さである有効硬化層深さを求める。 - 特許庁

To improve the cleaning property by removing a water-soluble lubricating oil adhered to a surface of a very small wire in a drawing process in the whole circumferential direction to suppress the pollution of a cleaning solution.例文帳に追加

伸線工程において極細線の表面に付着した水溶性潤滑油を全周方向において除去することができるようにし、洗浄液の汚染を抑え洗浄性を向上する。 - 特許庁

To dispose a supporting member so as to abut on almost the entire length near each side on a bottom surface of a substrate, and to prevent a large warp of the substrate without degrading a process pattern area.例文帳に追加

基板の底面における各辺の近傍の略全長に渡って当接するように支持部材を配置し、プロセスパターン領域に劣化を生じることなく基板の大きな撓みを防止する。 - 特許庁

To provide a device for leveling a noodle cluster for unfolding and also leveling the upper surface of the noodle cluster placed in a molding frame before its frying process in the production processes of an instant noodle.例文帳に追加

即席麺の製造工程において、油揚げ工程に先立ち、型枠内に投入された麺塊の上面をほぐすと共に均すための、麺塊均し装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

This production process comprises: forming a tile main body having a recessed part 2 in the upper surface, by using a body for porcelain; filling the recessed part 2 with a mixture 3 of crushed seashells and the body for porcelain; and firing the resulting green body.例文帳に追加

磁器用素地土を用いて上面に凹所２のあるタイル素地本体１を成型し、凹所２に、粉砕した貝殻と磁器用素地土の混合物３を充填して焼成するようにした。 - 特許庁

To provide a glass preform for an optical fiber, whose preform ingot surface is subjected to high speed cylindrical grinding and which is free from grinding flaws causing a problem in a following process, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

母材インゴットの表面を高速で円筒研削を行うことができ、かつ次工程で問題となる研削傷の無い光ファイバ用ガラス母材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The layer containing protein is adsorbed onto the surface of the support so as to surround and go around the long axis of the support, and a bridge formation process is performed by 1-5 moles of a crosslinker for one mole of protein in the layer.例文帳に追加

支持体の表面にタンパク質を含む層を該支持体の長軸を囲んで一周するように吸着させ、該層におけるタンパク質１モルあたり１〜５モルの架橋剤による架橋処理を施す。 - 特許庁

To provide a metal terminal in which a plating structure controlling surface roughness is improved, so as to improve bonding strength with a bonding wire, and further capable of realizing the simplification of a production process.例文帳に追加

表面粗さを調整させるメッキ構造の改善を図り、ボンディングワイヤとの結合力を向上させると供に製造工程の簡素化を実現し得る金属端子の提供を目的とする。 - 特許庁

In the OH removing process, the glass microparticle accumulated body is heat-treated while making the inside of the heating furnace a CO-containing atmosphere to remove the OH groups existing on the surface and the inside of the glass microparticle accumulated body.例文帳に追加

ＯＨ除去工程では、加熱炉内をＣＯ含有雰囲気としてガラス微粒子堆積体を加熱処理し、ガラス微粒子堆積体表面または内部に存在するＯＨ基を除去する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing separators which gives the surface of the release layer uneven shapes during the process to coat and dry a release agent on a substrate, improves releasability, and has an excellent productivity.例文帳に追加

剥離性が改善され、かつ生産性にも優れた、基材に剥離剤を塗布乾燥する工程中で剥離剤層表面に凹凸形状を付与するセパレータの製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve yield and reliability in substrate processing by inspecting the rear surface of a substrate and removing the one with a flaw in advance, during a process, or before/after processing of the substrate.例文帳に追加

基板の処理前、処理後等基板の処理過程で、基板裏面の検査を行って、傷があるものについては事前に除去等の処理を行い歩留りの向上、基板処理の信頼性を向上させる。 - 特許庁

To provide a semiconductor package which can be manufactured at a simple process without producing a defect such as a chipping on the cutting surface of a substrate comprising a semiconductor, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

半導体からなる基板の切断面にチッピングなどの欠陥を生じさせること無く、かつ簡易な工程によって製造可能な半導体パッケージおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the process, the wafer 1 is subjected to a thermal anneal so as to dissolve agglomerated vacancy defects present in a stratum extending from the front surface 3 toward the center 7 of the wafer 1.例文帳に追加

本発明の方法において、ウエハ１の前表面３から中心７に向かって広がる領域層に存在する凝集した空孔欠陥を溶解させるために熱アニーリング処理に供される。 - 特許庁

Even when a resin pin 25 of a magnet holder 25 housing a magnet to hold the mask 24 by the magnetic force touches the other surface of the glass substrate 22, it does not cause contamination in the manufacture process for the top face side.例文帳に追加

ガラス基板２２の他方表面にマスク２４を磁力で保持する磁石が内蔵されるマグネットホルダ２５の樹脂ピン２５が接触しても、表面側の製造工程で汚れの原因とはならない。 - 特許庁