「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(110ページ目) - Weblio英語例文検索

In the tempering process thereafter, in the state of lowering the heating temp. of the high frequency inductor 10, e.g. to about 200-250°C, the high frequency inductor 10 is shifted downward along the tooth surface of the tooth part 2.例文帳に追加

その後の焼戻し工程では、例えば２００〜２５０℃程度まで高周波誘導子１０の加熱温度を下げた状態で、高周波誘導子１０を歯部２の歯面に沿って下向きに移動させる。 - 特許庁

Consequently, it is possible not only to inhibit the surface cracking of the wood due to drying but also subdue the wood color change attributed to drying and increase the residual rate of a wood aromatic component after drying process.例文帳に追加

これにより、乾燥による木材の表面割れを抑制することができるとともに、乾燥による材色変化が少なく、かつ乾燥後の木材の香り成分の残存率も高めることができる。 - 特許庁

The reduction of a water spot on a substrate is possible by passing a substrate through space shut off outside, making use of the difference of surface tension between fluid and a treated board, in a drying process.例文帳に追加

乾燥工程において、流体と処理板との表面張力の差を利用し、かつ外部と遮断された空間に基板を通過させることによって、基板上の水しみの低減が可能である。 - 特許庁

To provide a flexible intermediate member such as a belt (ITB) improved in surface topology while maintaining the strength of the member, and a process for preparing a flexible double-layer belt.例文帳に追加

フレキシブルな中間部材、例えば、その部材の強度を維持しながら改良された表面トポロジを有するベルト（ＩＴＢ）など、およびフレキシブル二重層ベルトを調製するためのプロセスを提供する。 - 特許庁

In a hole-forming process thereafter, while retreating a die pin 13 under loading the back pressure in the one end surface of a forging blank, a recessing and projecting part 7 is formed by punching an inner punch into the forging blank.例文帳に追加

その後の穴成形工程において、ダイスピン１３を鍛造素材の一端面に背圧をかけた状態で後退させながら、鍛造素材中に上インナーパンチ２１を打ち込んで凹凸部７を成形する。 - 特許庁

To provide a process cartridge and an image forming apparatus that can ensure high profile irregularity of a surface of a brush-holding member where a brush material is held, independently of the fitting precision of the brush-holding member.例文帳に追加

ブラシ保持部材の取付精度に関係なく、そのブラシ保持部材におけるブラシ材を保持する面の高い面精度を確保することができる、プロセスカートリッジおよび画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system capable of continuously and uniformly forming a mixed film having the compositional ratios of the mixed film of different elements and objective thickness on the surface of a film in the process of running.例文帳に追加

走行中のフィルム表面に異なる元素の混合膜の組成比および目標厚みを有する混合膜を連続的、且つ均ーに形成できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a solid-state image pickup element for terminating a level on the surface of a substrate which causes a leak current by efficiently utilizing a hydrogen base generated in a manufacturing process without impairing a light shielding effect.例文帳に追加

遮光の効果は損なうことなく、製造過程において生じる水素基を有効に活用して、リーク電流の発生源となる基板表面の準位を終端化させた固体撮像素子を得る。 - 特許庁

The pin is soldered onto the pad under a temperature capable of fusing the solder material and the solder material is covered fixedly with the pad thus completing the surface mounting process of the pins of a PGA package.例文帳に追加

該ソルダ材料を溶融可能な温度下で、該ピンを該パッド上にはんだ付けし、該ソルダ材料に該パッドを被覆させ且つ固定させ、こうしてＰＧＡパッケージのピン表面実装工程を完成する。 - 特許庁

To provide a method for bonding a semiconductor chip wherein a separate chip flipping process is not required by disposing a wafer in a manner that the front surface of the wafer faces downward and then pushing a die downward to a tray therebelow.例文帳に追加

ウェーハの前面が下部方向に向かうように載置した後、下部のトレイにダイをプッシュすることによって、別途のチップフリップ過程を必要としない半導体チップボンディング方法を提供する。 - 特許庁

Then, HFE used as rinse liquid is supplied onto both the surfaces Wa and Wb of the wafer W from the upper and lower nozzles 64 and 14, and the fluoric acid on the surface of the wafer W is cleaned away (a rinsing process).例文帳に追加

次に、上ノズル６４および下ノズル１４よりリンス液としてのＨＦＥのウエハＷの両面Ｗａ，Ｗｂに供給されて、ウエハＷ表面のふっ酸が洗い流される（リンス工程）。 - 特許庁

To provide a method for producing a ceramic bead having a smooth surface by a simpler method without combining DC plasma and high frequency plasma or using a complicated process such as two step high frequency plasma.例文帳に追加

ＤＣプラズマと高周波プラズマを組合わせたり、２段高周波プラズマ等の複雑なプロセスを用いることなく、より簡便な方法により平滑な表面のセラミックスビーズの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a carbon film forming method by which a high quality carbon film having excellent adhesion to a base material, surface smoothness and low friction properties is formed by suppressing the generation of fine powder by a simple process.例文帳に追加

簡便な方法で、微粉の発生を抑制し、基材との密着性、表面平滑性、低摩擦特性を備えた高品質の炭素膜を形成する炭素膜形成方法を提供する。 - 特許庁

A selective photo Bi-OCD process is further disclosed whereby the top surface of the substrate is at least partly covered with an insulating pattern such that the deposition of the metallic compound takes place selectively in the openings of the pattern.例文帳に追加

更に、基板の表面が少なくとも部分的に絶縁性パターンで覆われ、金属化合物の析出がパターンの開口部中で選択的に起きる選択光Ｂｉ−ＯＣＤプロセスが開示されている。 - 特許庁

The moisture contents on the surface layer of the sheet materials 150 is estimated from an output from the heat conductivity sensor 101 by a control part 120, and the processing condition corresponding to the moisture contents is set in an image forming process part.例文帳に追加

制御部１２０は、熱伝達率センサ１０１の出力からシート材１５０の表面層の水分量を推定し、画像形成プロセス部に、水分量に応じた処理条件を設定する。 - 特許庁

An unevenness is provided on a surface of a rough process mold 33, and is transferred to a magnet bonding face of a slinger 17 attached to a magnetic pole forming ring 21, and an unevenness section 17d is formed.例文帳に追加

磁極形成リング２１が取り付けられるスリンガ１７の磁石接合面に、荒加工金型３３の表面に設けられた凹凸を転写し、凹凸部１７ｄを形成するようにした。 - 特許庁

It is desirable to form the projection parts GT by piling a hot charge by welding in the formation process or it is desirable to interpose the hot charge at the groove surface 10a.例文帳に追加

形成工程において溶接によって溶材を盛ることで突起部ＧＴを形成することが好ましく、または開先面１０ａに溶材を介在させることによって突起部を形成することが好ましい。 - 特許庁

To prevent leak and short circuit of a high polymer electroluminescent element caused by scratch and adhesion of dust on the surface of a high polymer light emitting layer, a pinhole, and a clearance between patterned pixels in a process for manufacturing the element.例文帳に追加

高分子エレクトロルミネッセンス素子製造工程における高分子発光層表面の傷やゴミ付着、また、ピンホールやパターニング画素間の隙間を原因とする、素子のリークや短絡を防止する。 - 特許庁

Manufacturing information 20 on the position of the semiconductor chip within the semiconductor wafer plane at least in the manufacturing process thereof is printed on the rear surface of the island 12 so that it may become visible when X ray is given thereto.例文帳に追加

アイランド部１２の裏面に、少なくとも、製造過程における半導体ウエーハ面内での該半導体チップの位置を示す製造情報２０がＸ線で読み取り可能に印字されている。 - 特許庁

To provide a tray for transporting electric parts, which has a conductive surface part, and is superior in easy dismantling and material recycling characteristics in a dismantling/separating process after collecting a product for recycling.例文帳に追加

リサイクル目的で製品を回収した後、解体・分別工程において、易解体性、及びマテリアルリサイクル性に優れ、かつ表面に導電部を有する電気部品搬送用のトレーを提供する。 - 特許庁

The inclination of a mask 6 is obtained, by preliminarily approaching the mask at three or more separated points, and the inclination is corrected by a biaxial tilt sample stage 4 to process the mask, while the mask surface is kept parallel to a scanning plane.例文帳に追加

予めマスクの離れた3点以上でアプローチを行いマスク6の傾きを求めておき、傾きを2軸チルト試料ステージ4で補正してスキャン面とマスク面が平行になる状態で加工を行う。 - 特許庁

On the other hand, when a binding process is performed by a binding device 500, the front/rear of the sheet of paper S is reversed and, as shown in (C), the sheets of paper S are stacked with the surface formed with the image facing upward.例文帳に追加

一方、綴じ装置５００による綴じ処理が行われる場合は、用紙Ｓの表裏が反転され、（Ｃ）に示すように、画像が形成された面が上向きとなる状態で用紙Ｓが積載される。 - 特許庁

To provide a coin laminated shape nanocarbon material composite having diamond particles as nuclei, and having a high resistance, a wide surface area and an excellent process fitness, to provide its manufacturing method and to provide an electronic device using the composite.例文帳に追加

ダイヤモンド粒子を核に持ち、高耐性で表面積が広くプロセス適性に優れたコイン積層状ナノ炭素材料複合体と製造方法並びにそれを用いた電子デバイスを提供する。 - 特許庁

To solve problems that cracks are generated on a coat film of a reflection member for a surface light source or the coat film is peeled off in a manufacturing process and a reflection factor is changed due to differences in the film thickness of the coat film.例文帳に追加

製造過程において面光源用反射部材の塗膜にクラックが入ったり、剥がれたり、さらに塗膜の膜厚の違いによって反射率が変化する問題点を解決すること。 - 特許庁

To the processed material 22, the partial circular arc mold 21 is functioned similarly as for the imaginary big roll and is capable of transcribing the three-dimensional form at the process face 25 onto the surface of the processed material 22.例文帳に追加

被加工材２２に対しては、部分円弧型２１は仮想的な大口径ロールと同様に作用し、加工面２５で被加工材２２の表面に三次元形状の転写を行わせることができる。 - 特許庁

To reduce the load on a double-sided simultaneous polishing step or a single-sided polishing step in a process for producing a silicon wafer, and to reduce the surface roughness of a wafer, while maintaining flatness, when planarization step is ended.例文帳に追加

両面同時研磨工程や片面研磨工程の負荷を軽減するとともに、平坦化工程を終えた際のウェーハ平坦度の維持及びウェーハ表面粗さの低減の双方を達成し得る。 - 特許庁

The method uses a gas containing Xe in a process that uses plasma for forming films, etching, surface deterioration and the like.例文帳に追加

本発明は、基板、あるいは、新たに基板上に堆積・形成する膜および基板の中に、イオン照射に起因して導入される欠陥を劇的に減少させるプラズマプロセス方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an electroplating process which may form a uniform electrodeposited film on the entire surface of a plating substrate having a specific gravity smaller than that of a plating solution without leaving any trace of contact.例文帳に追加

めっき液よりも比重が小さい被めっき物に対して接点跡を残すことなくその表面全体に均一な電気めっき被膜を形成することができる電気めっき方法を提供すること。 - 特許庁

A rotary drum D is used in a process for producing malted rice and the stirring of the raw material S for producing malted rice is carried out by drop of a raw material layer from an inclined surface by rotation of the rotary drum main body 1.例文帳に追加

製麹工程において回転ドラムＤが用いられ、前記製麹原料Ｓの攪拌が、回転ドラム本体１の回転による原料層の傾斜面からの落下により行われる。 - 特許庁

To provide an acoustic surface wave device for improving reliability, without impairing the performance level of an integrated circuit by adjusting a frequency in a production process, and also to provide a method for manufacturing the device.例文帳に追加

製造過程における周波数調整により集積回路の性能を損なうことなく、信頼性を向上させることができる弾性表面波装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

Further, in the first process, an impregnated body can be impregnated in advance with the coating composition containing fine particles having hydrophobic surface and particle size of ≤100 nm in the dispersed state.例文帳に追加

また、第一の工程においては、表面が疎水性で、粒子径が１００ｎｍ以下の微粒子を分散状態で含有するコーティング組成物を含浸体に予め含浸させておいてもよい。 - 特許庁

In a process for injecting a molten resin 16 into the die cavity 14 by using the two-piece molds 1, 2, the semiconductor chip non-fitting surface 4 is pressed by uniform pressure via the the mold release film 3.例文帳に追加

なお、ニ枚型１・２を用いて金型キャビティ１４内に溶融樹脂１６を注入する工程において、離型フィルム３を介して半導体チップ非装着面４に均等な圧力で押圧する。 - 特許庁

To provide a process and control method of a floating scum removing machine for automatically removing suspended matter such as oil and others from the surface of the water in a separation tank, a sump pit, a floating separator or the like of a facility.例文帳に追加

施設の分離タンク、排水だめ、浮上分離設備などの水面からオイルその他の浮遊物を自動的に除去する浮動カス取り機のプロセス及び運転制御方法を提供する。 - 特許庁

To improve the quality of processing by a method wherein the re- deposition of mist generated from the surface of a substrate upon drying process is prevented, wherein a gas is blown against the substrate to be processed in a flat transmission system.例文帳に追加

平流し方式において被処理基板に気体を吹き付ける乾燥処理に際して基板表面より発生するミストの基板への再付着を防止して、処理品質を向上させること。 - 特許庁

To prevent foam entering a groove of a trunk lid or a hood from being easy to remain by being influenced by wind, in a bubble spraying process spraying foam processing agent on a vehicle body surface in a car washing machine.例文帳に追加

洗車機において、車体面に泡状処理剤を散布する泡散布行程で、トランクリッドやボンネットの溝などにに入り込んだ泡が、風邪の影響をうけて残り易くなるのを防止する。 - 特許庁

To obtain an artificial turf surface with stable quality by enabling a filler for keeping a fiber composition almost perpendicular to be dispersed and retained in a manufacturing process.例文帳に追加

繊維組成物をほぼ垂直に保つための充填材を製造工程で分散させ、保持することを可能にし、安定した品質の人工芝面の提供を可能とする製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dielectric filter, a duplexer filter and their manufacturing means capable of preventing a short-circuit failure between the patterns to be generated in a tuning process to the open surface of a dielectric material.例文帳に追加

本発明は、誘電体の開放面に対するチューニング工程において発生するパターン同士のショート不良を防止できる誘電体フィルター、デュプレクサフィルター及びその製造方法に関する。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing apparatus and a method of forming a thin-film on a semiconductor substrate utilizing the same with which productivity of the total semiconductor manufacturing process is remarkably improved by not forming the film on the lower surface.例文帳に追加

下面に膜を形成させず全体の半導体製造工程の生産性を大幅向上させる半導体製造装置及びこれを利用した半導体基板の薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, the illumination of the substrate surface, that is, the first to third exposures are appropriately set by the main control unit 50 so that the exposure time for each process or the entire exposure time is appropriately set.例文帳に追加

従って、主制御装置５０により基板面の照度、すなわち第１〜第３の露光量が適宜設定され、個々の工程の露光時間、又は全体の露光時間が適宜設定される。 - 特許庁

Since a device layer (thin film structure 2 ) lies on an upper surface, and mounting thereof is the same as in dicing in an ordinary LSI manufacturing process, it can be mounted on a printed board as it is without inversion with the aid of a chip mounter or the like.例文帳に追加

デバイス層（薄膜構造体２）が上面にあり、通常のＬＳＩ製造工程におけるダイシングの場合と同じなので、反転せずにそのままチップマウンター等によりプリント基板に実装できる。 - 特許庁

To provide a core for processing a thin-walled core which realizes process, without lowering production efficiency even when the thin-walled core having a rib at an inner surface is used, without generating a chattering vibration or a fluctuation.例文帳に追加

内面にリブを設けた薄肉芯金を用いた場合でも、生産効率を下げることなく、びびり振動や振れの発生しない加工を実現できる薄肉芯金加工用中子を提供する。 - 特許庁

Further, this facility is provided with the gas exhausting part at the rear part of a process, in which the surface temperature of the agglomerated material including the carboneceous material is ≤1250°C at the setting position of the heat-storage burners.例文帳に追加

また、前記蓄熱式バーナの設置位置が炭材内装塊成物の表面温度が１２５０℃以下である工程で、その工程の後方にガス排出部を設けている還元鉄製造設備である。 - 特許庁

To easily carry out a uniform hardening process of a surface of a screw part of a metal component having a screw hole without being affected by a material of the metal component, and to improve fatigue strength.例文帳に追加

ネジ穴を有する金属部品のネジ部表面の均一な硬化処理を金属部品の材質に左右されることなく容易に行うことができると共に、疲労強度を向上させることにある。 - 特許庁

Next, at a coating process, coating liquid 14 is applied on the inside wall surface of the glass tube 5 by sucking the coating liquid 14 from the lower end of the glass tube 5 and releasing and discharging the sucked coating liquid 14 afterwards.例文帳に追加

次に、塗布工程において、ガラス管５の下端から塗布液１４を吸引した後、吸引を解除し塗布液１４を排出することで、ガラス管５の内壁面に塗布液１４を付着させる。 - 特許庁

To provide a seamless steel tube free from variation in strength, having excellent toughness, further having satisfactory surface skin and optimum as a machine structural component in a simplified production process at a low production cost.例文帳に追加

簡素化された製造工程で製造コストが安価であり、強度バラツキがなく、靭性に優れるとともに表面肌が良好である機械構造部品として最適な継目無鋼管を得る。 - 特許庁