「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(108ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing a positive electrode active material for an alkaline storage battery, by using nickel hydroxide as a starting material, and coating a surface of nickel hydroxide with cobalt oxyhydroxide by wet reaction not needing multi-process.例文帳に追加

水酸化ニッケルを出発原料に多工程を要しない湿式反応で水酸化ニッケル表面をオキシ水酸化コバルトで被覆する、アルカリ蓄電池用正極活物質の製造方法を提供する。 - 特許庁

A dotted pattern of a catalyst metal is disposed at a prescribed position of the surface of a substrate, and silicon nanowires are crosslinked and grown between dots of the catalyst metal by a CVD process using polysilane gas at a temperature of ≤300°C.例文帳に追加

基板表面上の所定位置に触媒金属ドットパターンを配設し、ポリシランガスの３００℃以下の温度でのＣＶＤによって所定の触媒金属ドット間にシリコンナノワイヤーを架橋成長させる。 - 特許庁

Thereby, in the calcination process, the calcination of the particles proceeds uniformly so that the irregularity of the specific surface areas of the calcined products can be reduced and so the stable quality of the abrasive can be obtained.例文帳に追加

これにより、焙焼工程において、粒子の焙焼が均一に進行し、焙焼品の比表面積のばらつきを小さくすることができ、安定した研摩材の品質を得ることができる。 - 特許庁

Furthermore, new machining process is not required to reduce the size of an air flow-out end of the surface 31a since the rail 25a is entirely tapered toward the slider width direction.例文帳に追加

しかも、スライダ幅方向にリアレール２５ａ全体が先細ることから、空気軸受け面３１ａの空気流出端を小さく形成するにあたって、新たな加工工程が加えられる必要はない。 - 特許庁

To improve quality and at the same time improve throughput, and to improve productivity by eliminating moisture on a wafer surface by heating and at the same time performing the process treatment of the heated wafer immediately.例文帳に追加

前記ウェーハ表面に吸着された水分を加熱により脱離すると共に加熱されたウェーハを直ちにプロセス処理し、品質を高めると共にスループットを向上させ、生産性を高める。 - 特許庁

In a process chemically etching a specific area of a planar display panel, the whole surface other than the specific area of the planar display panel 14 is masked by using a resin film 15 having etching resistance.例文帳に追加

平面型表示パネルの特定領域を化学的にエッチングする工程において、耐エッチング性を有する樹脂フィルムを用いて平面型表示パネルの特定領域以外の全ての表面をマスキングする。 - 特許庁

To provide a polishing process technology capable of realizing a good polishing speed and polishing surface precision, achieving a polishing characteristic similar to that of cerium oxide when manganese oxide is used as abrasive.例文帳に追加

本発明は、酸化マンガンを研摩粒子として用いた場合、酸化セリウムと同等な研摩特性となる良好な研摩速度と研摩面精度とを実現可能な研摩処理技術を提供する。 - 特許庁

The method for producing individual cosmetics includes a process of adding polyphenol-containing oil, rose petals and protein to the surface of a human skin, and performing heating, and the human skin to be used can be individually set.例文帳に追加

ヒト皮膚の上にポリフェノール含有オイル、バラ花びら、たんぱく質を添加し、加温する工程からなる個人別の化粧料の製造方法であり、用いるヒト皮膚は個別に設定できる。 - 特許庁

In a production process, a powder of nickel having a corrosion resistance and abrasion resistance is sprayed on a surface of the substrate 300 in a melted state by a flame spraying technology to laminate the electrode layer 310.例文帳に追加

製造工程では、基材３００の表面に耐食性及び耐磨耗性を有するニッケルの粉体を溶射技術により溶融した状態で吹き付けて電極層３１０を積層する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a copper polyimide substrate, the surface of a polyimide resin film is made hydrophilic, a physical development core layer is provided, a silver film is formed according to a silver diffusion transfer process, and then copper plating is carried out.例文帳に追加

ポリイミド樹脂フィルムの表面を親水化し、物理現像核層を設け、銀拡散転写法により銀膜を形成させたのち、銅めっきすることを特徴とする銅ポリイミド基板の製造方法。 - 特許庁

In this copper electrodeposition process, a conductive member is immersed in a plating solution having (20 to 60) mg/l sulfur content, and then electric power is applied to form the copper electrodeposition layer on the surface of the conductive member.例文帳に追加

硫黄含有量が２０〜６０ｍｇ／リットルであるめっき液中に導電性部材を浸漬し、通電することによって、導電性部材の表面に銅電着層を形成する銅電着方法。 - 特許庁

A porosity layer 33 having a thickness of 50 μm is formed by laminating a conductive particle 32 comprising an amorphous metal with an arc-type ion plating process on a surface of the base material 31 consisting of stainless steel.例文帳に追加

ステンレス鋼からなる母材３１の表面に、アモルファス金属からなる導電性粒子３２をアーク型イオンプレーティング法により積層させて、厚さ１〜５０μｍの多孔質層３３を形成する。 - 特許庁

To provide a reclaiming process for crosslinked polyethylene resin which enables reclaimed polyethylene resin excellent in physical propertied such as yield strength and having low gel fraction and sufficiently small surface roughness to be obtained.例文帳に追加

降伏強さ等の物理特性に優れ、ゲル分率が低く、且つ表面粗さが十分に小さい再生ポリエチレン樹脂を得ることが可能な架橋ポリエチレン樹脂の再生方法を提供すること。 - 特許庁

Next, a sealing film 73 is formed on a top surface of the filter 72, and the ink supply port 18 is sealed by solidifying a polyimide resin entering a plurality of orifices of the filter 72 (port sealing process).例文帳に追加

次に、フィルタ７２の上面に封止膜７３を形成するとともに、フィルタ７２の複数の孔に入り込んだポリイミド樹脂が固化することでインク供給口１８を封止する（開口封止工程）。 - 特許庁

To provide a hydrophilic coating film formable without using a baking process, having water resistance and free from the danger of the deterioration of the base material, and provide a substrate having such hydrophilic coating film and surface hydrophilicity.例文帳に追加

焼成工程を必要としないで形成でき、耐水性があり、母材を劣化させるおそれがない親水性被膜、及びかかる親水性被膜を有する表面親水性基材を提供する。 - 特許庁

To provide a new gravure plate making roll superior in plate wear and equipped with a surface strengthened covering layer, and free from toxicity and worries about occurrence of environmental pollution and its manufacturing process.例文帳に追加

本発明は、毒性がなくかつ公害発生の心配も皆無な表面強化被覆層を具備するとともに耐刷力に優れた新規なグラビア製版ロール及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In a manufacturing process, since the rear surface of the pad electrode 4 is not exposed once, neither contamination of foreign substances nor contamination (pollution) arises in the contact of the pad electrode 4 and the electrode connection 13.例文帳に追加

また、製造工程において、パッド電極４の裏面は、一度も露出されないため、パッド電極４と電極接続部１３との接触部に異物混入やコンタミネーション（汚染）等が生じない。 - 特許庁

The surface temperature of the sapphire mono-crystal substrate during the film formation of those gallium nitride layer and aluminum nitride mono-crystal layer is set to be made constant, that is, almost 950°C so that the manufacturing process can be simplified.例文帳に追加

これらの窒化ガリウム層および窒化アルミ単結晶層を成膜している間のサファイア単結晶基板の表面温度はほぼ９５０℃と一定とするので、製造プロセスは簡単となる。 - 特許庁

After an oxide film is formed on the surface thereof, three anisotropic magnetoresistive elements M11, M12, and M13 are formed on the bevels of the trench G by a semiconductor planar process, and a required wiring layer is formed.例文帳に追加

表面に酸化膜を形成した後、半導体プレーナプロセスにより、溝Ｇの斜面に、３つの異方性磁気抵抗素子Ｍ１１，Ｍ１２，Ｍ１３を形成し、必要な配線層を形成する。 - 特許庁

To provide a capacitor with an MIM structure capable of ensuring a sufficient capacity in a limited cell area by forming unevenness on the surface of a lower electrode without an additional complex process.例文帳に追加

複雑な工程を追加することなく下部電極表面に凹凸を形成することにより、限られたセル面積の中で十分な容量を確保することができるＭＩＭ構造のキャパシタを提供する。 - 特許庁

The resin container is produced according to a process of reducing pressure in a gap between the parison arranged in the cavity of the mold and the cavity surface 11a and, at the same time, blow-molding the parison.例文帳に追加

樹脂容器は、ブロー成形用金型を用いて、その金型のキャビティ内に配置されたパリソンとキャビティ面１１ａとの間隙を減圧するとともにパリソンをブロー成形する工程により製造される。 - 特許庁

After that, the three-dimensional object 510 is rendered on the three-dimensional map image 331 by a rendering process section 8 in a style that the registered texture image data are texture-mapped as a surface texture (e).例文帳に追加

以降、レンダリング処理部８によって、三次元オブジェクト５１０は、登録されているテクスチャ画像データが表面テクスチャとしてテクスチャマッピングされた形態で三次元地図画像３３１上に描画される（ｅ）。 - 特許庁

In the process, the wafer sheet 1 is subjected to strong vacuum suction to the first opening part 31 by the first pump 24, and the wafer sheet 1 is forcibly peeled from the lower surface of the chip 2 by the suction force.例文帳に追加

その際、第１のポンプ２４により第１の開口部３１にウェハシート１を強く真空吸着し、その吸着力によりウェハシート１をチップ２の下面から強制的に剥離させる。 - 特許庁

To provide a process of making shapes having high resolution, excellent surface characteristics and high uniformity without changing the optical system of an exposure device in a technique of forming patterns by light exposure of a photoresist.例文帳に追加

フォトレジストの光露光によりパターン形成する技術において、露光装置の光学系を変えることなく、分解能が高く、表面性に優れ、均一性が高い形状を作るプロセスを提供する。 - 特許庁

Manufacture of the semiconductor device is preferable to include an etching process for etching the pad by using a fluorine based etchant, and has the roughning of the pad surface performed before it is patterned to a bonding shape.例文帳に追加

また、かかる半導体素子の製造において、該パッドをフッ素系エッチング剤を用いてエッチングする工程を含むこと、該パッド表面の粗面化をボンディング形状にパターン化する前に行なうことが好ましい。 - 特許庁

To manufacture nickel hydroxide powder coated with non-autoxidative cobalt oxide having high conductivity on a particle surface of a nickel hydroxide particle by alkali treatment, without passing through a cracking process.例文帳に追加

自然酸化を受けない高導電性のコバルト酸化物を水酸化ニッケル粒子表面にアルカリ処理により被覆した水酸化ニッケル粉末を、解砕工程を経ることなく製造する方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of conductive particulates 1 has a process of bonding a silane coupling agent 20 onto a surface of resin particles 10 having at least one of a hydroxyl group, a carbonyl group, and a carboxyl group.例文帳に追加

導電性微粒子１の製造方法は、ヒドロキシル基、カルボニル基及びカルボキシル基のうちの少なくとも1つを有する樹脂粒子１０の表面にシランカップリング剤２０を結合する工程を有する。 - 特許庁

The method for production of the carbon nanotube includes a process for growing the carbon nanotube upward on a substrate comprising a FeCr-containing alloy having a Cr-Fe-O-based film on its surface.例文帳に追加

表面にＣｒ−Ｆｅ−Ｏ系皮膜を有するＦｅＣｒ含有合金を基板として用い、前記基板から上方に向かってカーボンナノチューブを成長させる工程を含むカーボンナノチューブの製造方法。 - 特許庁

To provide a charging unit which can maintain superior charging characteristics by keeping the outer surface of the charging roller always clean, and also provide a process cartridge and an image forming device both incorporating this charging unit.例文帳に追加

帯電ローラの外周面を常時クリーンな面に維持して良好な帯電特性を維持することが可能な帯電装置及びこれを備えたプロセスカートリッジ並びに画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a solar cell cover exhibiting excellent stainproof performance, i.e. an easy-to-clean solar cell cover having a surface arranged not to be stained over a long term without requiring a troublesome process.例文帳に追加

防汚性能に優れた太陽電池カバー、具体的には、太陽電池カバーの表面が長期間にわたり汚れにくく、清掃しやすい太陽電池カバーを、煩雑な工程を必要とせずに提供する。 - 特許庁

To reduce drawbacks, such as roughened surface of an LCC-type semiconductor device sealed with a resin, after the hardening of the seal resin, as the resin flowing out of a cavity, because of excessive amount of the resin, in the process of sealing the semiconductor device with the resin.例文帳に追加

ＬＣＣ型半導体装置を樹脂封止する工程で、樹脂量過多による封止樹脂のキャビティ部外への流れだし、封止樹脂硬化後の表面凹凸などの不具合を低減する。 - 特許庁

To easily and efficiently inspect a bearing of such a type that the bearing supports a shaft by the radial bearing surface of a slide bearing, etc., at the time of inspecting the bearing for deflection in the final process.例文帳に追加

滑り軸受等のラジアル軸受面で軸を支持する形式の軸受の振れを最終工程で検査するにつき、簡便に効率良く検査できる製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

This method of manufacturing the tank 1 has a process for winding a fiber F around the peripheral surface of a liner 2, to which caps 3 and 4 are fitted, so as to form a fiber-reinforced resin layer as an outer layer of the liner 2.例文帳に追加

タンク１の製造方法において、口金部３、４が取り付けられたライナ２の外周面に繊維Ｆを巻き付けて、ライナ２の外層に繊維強化樹脂層を形成する工程を有する。 - 特許庁

To prevent generation of soiling by cleaning on a transfer image surface by basically maintaining a constant state of load by not having a cleaning process overlap while transferring to an intermediate transfer body.例文帳に追加

中間転写体への転写中にはクリーニング工程が重ならないようにして一定負荷状態に維持することを基本として、転写画像面のクリーニング汚れを生じないようにすることである。 - 特許庁

A recessed hole is formed on the bottom face of the tool, and the substantial area in which the bottom face of the tool contacts a material to be treated when joining the material or in the surface treatment is reduced in response to a process condition.例文帳に追加

ツールの底面に凹み穴を形成して、被処理材の接合時または表面処理時にツール底面が被処理材と接触する実質面積をプロセス条件に応じて減少させる。 - 特許庁

To provide a foreign substance removing apparatus easy in the maintenance and capable of sufficiently exhibiting foreign substance scraping effect even when the large quantity of a foreign substance is deposited on the surface of the drum part of a process roll.例文帳に追加

メンテナンスが容易であるとともに、プロセスロールの胴部表面への異物付着量が多い場合でも、異物掻き取り効果を十分長く発揮することができる異物除去装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a mark print on the surface of an SOI wafer without contaminating the inside of a manufacturing apparatus used in a flow process of a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

ＳＯＩウエハ表面のシリコン層にマーク印字を形成する工程で、半導体集積回路の製造過程で、流動工程の製造装置内部の汚染を防止したマーク印字方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a light guide plate excellent in designability and capable of giving three-dimensional freedom, while superbly maintaining practical mechanical characteristics through giving of curved surface shapes by a thermal bending process.例文帳に追加

熱曲げ加工により曲面形状を付与することで実用的な機械特性を良好に保ちつつ、デザイン性に優れ、立体的な自由度の付与の可能な導光板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A print station 3 includes an boundary layer removing mechanism 20 disposed above a cleaning tank 15c in a process tank unit developing an image formed on a print surface of a print paper P.例文帳に追加

プリントステーション３では、印画紙Ｐのプリント面に形成された画像の現像処理を行う処理槽ユニット１５のうち洗浄処理槽１５ｃの上部に、境界層除去機構２０を配置している。 - 特許庁

To provide a method for depositing a titanium-dioxide-based thin film having controlled crystal structure, particularly a titanium-dioxide-based thin film having anatase-based crystal structure, onto the surface of a base material by a simple process.例文帳に追加

簡単な工程により基材表面に、結晶構造の制御された二酸化チタン系薄膜、特にアナターゼ型の結晶構造を有する二酸化チタン系薄膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁

In the photo lithography process of a primary stage, when a wiring region 10 is formed on a substrate 1 in which photoresist 2 is spread on the whole surface, exposure is performed so that the resist cross-section becomes an inverse tapered shape profile.例文帳に追加

第１段階のフォトリソグラフィー工程において、フォトレジスト２を全面に塗布した基板１上に配線領域１０を形成する際、そのレジスト断面が逆テーパ形状となるように露光する。 - 特許庁

To provide a substrate drying apparatus capable of easily eliminating pure water and moisture existing on the surface of a substrate after a wet process by way of drying processes, and to provide a substrate drying method utilizing the same.例文帳に追加

湿式工程後に基板表面に存在する純水や湿気を乾燥工程を通じて容易にとり除くことが可能な基板乾燥装置及びこれを利用した基板乾燥方法を提供する。 - 特許庁

In addition, the decoration 20 formed by lacquering can be appreciated as the decoration 20 formed by lacquering drawn through a normal drawing process under the condition being observed from the surface 10A side of the glass body 10.例文帳に追加

そして、蒔絵の加飾２０は、ガラス製の生地１０表面１０Ａ側から観察したときにおいて、通常の描画工程によって描画した蒔絵の加飾２０として鑑賞可能とする。 - 特許庁

A conventional process of enlarging the existing tunnel is to excavate a shaft from the surface after excavating the ordinary diameter of the tunnel for enlargement construction by using the shaft in the portion to be enlarged. 例文帳に追加

従来この種の工法として、通常径のトンネル掘削を行った後拡大予定区域に対して地上から立坑を設け、この立坑を利用して拡大部分の構築を行うものが知られている。 - 特許庁

To provide a retractable damping device with a method which enables a blocking of the displacement part to be performed precisely when moving over the highest point of the curved surface so that a displacement process can be optimized.例文帳に追加

移動の過程を最適にできるように、湾曲表面の最も高い点を通り越える時の移動部の遮断を正確に行うような方法での引込み式制動装置を提供する。 - 特許庁