「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(104ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a thermoplastic resin film of high quality causing no transfer of an adhering matter and excellent in surface appearance with good productivity by suppressing deposition of the adhering matter on the surface of a roll in a casting process for bringing the thermoplastic resin extruded into a film form in a molten state into contact with the surface of the roll to cool the same.例文帳に追加

フィルム状に溶融押出された熱可塑性樹脂を冷却ロールのロール面に接触させ冷却するキャスティング工程において、ロール面への付着物の発生を抑制することにより、付着物の転写がなく、表面外観に優れた高品質の熱可塑性樹脂フィルムを生産性よく製造する方法を提供する。 - 特許庁

An electrode cap and a resistor assembly element are integrated to form a resistor, after a resistance value is adjusted and an insulating protective film is formed, flaws and dirt sticking to the electrode cap surface made of Sn/Sn alloy plating during a manufacturing process and an oxidized layer formed on the surface are removed by hydrochloric acid to cleans them, and an oxidation preventing film is formed on the cleansed surface.例文帳に追加

電極キャップと抵抗体を一体化して抵抗器を形成し、抵抗値調整、絶縁保護膜を形成した後に、Ｓｎ／Ｓｎ合金メッキからなる電極キャップ表面に製造工程で付いた傷や汚れや表面に形成された酸化層を塩酸系溶液で除去して清浄にし、清浄にした表面に酸化防止膜を形成する。 - 特許庁

This optical recording medium which is made by laminating at least, a recording layer and a reflecting layer in this order from the side near to a substrate on the surface of opposite side to the laser beam incident surface of the substrate is produced by a producing method containing a process of forming the recording layer by vacuum deposition of organic dyestuff on the substrate surface of which the contact angle of water is ≤75°.例文帳に追加

基板のレーザー光入射面とは反対側の面に、少なくとも記録層および反射層が基板に近い側からこの順に積層されて成る光記録媒体を、水の接触角が７５°以下である基板表面に有機系色素の真空蒸着により記録層を形成する工程を含む製造方法によって製造する。 - 特許庁

To provide a positive type resist processing liquid composition which prevents a contamination source such as polish waste from attaching to a positive type resist surface, by imparting hydrophilicity to the positive type resist surface in a manufacturing process, including applying resist as a surface protective film of a semiconductor wafer or the like and polishing the peripheral part of the substrate (such as, a beveled part, an edge part and a notch part).例文帳に追加

半導体ウェハ等の表面保護膜としてレジストを塗布し、基板の周縁部（ベベル部、エッジ部、ノッチ部等）の研磨を行う製造工程において、ポジ型レジスト表面に親水性を付与することにより研磨屑等の汚染源がポジ型レジスト表面に付着するのを防止するレジスト処理液組成物を提供する。 - 特許庁

Top surface spraying nozzles 7/9 for spraying washing water on a top surface of a vehicle body are arranged before and behind a washing brush 5 with respect to the moving direction of a body frame 1, and in the final process in the washing operation, water spraying from the top surface spraying nozzle 7 succeeding the washing brush 5 with respect to the moving direction of the body frame 1 is not performed.例文帳に追加

車体の上面に洗浄水を散布する上面散布ノズル７・９を、本体フレーム１の移動方向に対して洗浄ブラシ５の前後に配置し、洗浄動作における最終工程時に、本体フレーム１の移動方向に対して洗浄ブラシ５よりも後行する上面散布ノズル７からの散布を行わないようにした。 - 特許庁

The method for growing a gallium nitride crystal is a method for growing a gallium nitride crystal on the main surface of an aluminum nitride crystal by a hydride vapor phase growth process, wherein the main surface is the (0001) Al surface of aluminum nitride crystal and the growth temperature of gallium nitride crystal is higher than 1,100°C and lower than 1,400°C.例文帳に追加

本窒化ガリウム結晶の成長方法は、窒化アルミニウム結晶の主面上に、ハイドライド気相成長法により窒化ガリウム結晶を成長させる方法であって、その主面は窒化アルミニウム結晶の（０００１）Ａｌ表面であり、窒化ガリウム結晶の成長温度が１１００℃より高く１４００℃より低いことを特徴とする。 - 特許庁

The resin layer 8 comprises a moist heat-cured resin layer 8a that covers the surface of the polyester fibers 12 and maintains spaces formed among the fibers, a crosslinked polyurethane resin layer 8b that covers the surface of the moist heat-cured resin layer 8a and has been crosslinked, and a dry-process cured resin layer 8c covering the surface of the crosslinked polyurethane resin layer 8b.例文帳に追加

樹脂層８は、ポリエステル繊維１２の表面を被覆し繊維間に形成された空隙を維持するための湿熱硬化樹脂層８ａと、湿熱硬化樹脂層８ａの表面を被覆し架橋された架橋ポリウレタン樹脂層８ｂと、架橋ポリウレタン樹脂層８ｂの表面を被覆した乾式硬化樹脂層８ｃと、を有している。 - 特許庁

To provide a surface treatment device and transfer material treatment device, which satisfactorily perform, while avoiding decrease in a work efficiency and increase in costs, the coating process such as varnish and film or the like, for the surface of a fixed transfer material with a toner image fixed, and improve additional writing properties on the surface of the fixed transfer material.例文帳に追加

作業効率の低下及びコスト高を回避しつつ、トナー画像が定着された定着済みの転写材の表面へのニス、フィルム等のコート処理を良好に行うことができ、当該定着済みの転写材の表面における加筆性を向上させることができる表面処理装置及び転写材処理装置を提供する。 - 特許庁

The process employs the use of at least one population of a solid porous particle which comprises a minimized external surface area per unit volume of the particles and an internal surface area per unit volume which is not decreased by more than 25% relative to a population of a similar particle which does not have a minimized external surface area.例文帳に追加

このプロセスは、粒子の単位体積当たりの最小化された外部表面積および（最小化された外部表面積を有さない同様の粒子の集団と比較して２５％を超えて減少していない）単位体積当たりの内部表面積を含む固体多孔性粒子の少なくとも１つの集団の使用を利用する。 - 特許庁

To provide a surface-modified aluminum-based metallic member which has a surface-modified layer having extremely high strength, has high mass productivity, is low in cost, further does not cause an embrittlement of the member, and is superior in surface hardness, wear resistance and fatigue strength, regardless of a manufacturing process of the member such as a wrought material, a forged material, a cast material and a die-cast material.例文帳に追加

展伸材、鍛造材、鋳造材、ダイカスト材など、部材の製造プロセスに拘わらず、極めて高強度化された表面改質層を有し、量産性が高く、低コストであり、しかも部材の脆化を招くことがなく、表面硬さ、耐摩耗性、疲労強度に優れた表面改質アルミニウム系金属部材を提供する。 - 特許庁

Since a heavy metal acquisition layer composed of a crystal alteration layer is formed on the reverse-surface side of the silicon substrate through laser beams irradiation, Cu and Ni mixed principally in the reverse-surface grinding and polishing processes and heavy metal mixed in a process following the thin thickness processing can be also obtained in a reverse-surface neighborhood region.例文帳に追加

本発明によれば、レーザー光の照射によってシリコン基板の裏面側に結晶変質層からなる重金属捕獲層を形成していることから、主に裏面研削・研磨工程において混入するＣｕ、Ｎｉや薄厚加工後の次工程で混入する重金属も裏面近傍領域に捕獲することが可能となる。 - 特許庁

The method of assembling the battery includes a process in which a second lead 12 coupled to a circuit board 6 is connected to a sealing panel 2b functioning as another electrode, which is different from a protruding electrode surface 2a, with a protection element 9 disposed on a protruding electrode surface 2A of a thin battery 2, and with the circuit board 6 disposed on the protruding electrode surface 2A of the thin battery 2.例文帳に追加

薄型電池２の凸部電極面２Ａ上に保護素子９を配置した状態、薄型電池２の凸部電極面２Ａ上に回路基板６を配置した状態で、回路基板６に連結している第２リード１２を凸部電極２ａと異なる他方の電極である封口板２ｂに、接続する工程とを備える。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a synthetic quartz glass substrate for a polysilicon TFT (thin-film transistor) which suppresses the generation of impurities from a substrate end surface and suppresses the elution of the impurities from the end surface and adhesion thereof to the the surface of the substrate even if the synthetic quartz glass is cleaned with chemicals (an HF solution etc.) in a polishing process.例文帳に追加

ポリッシュ工程において基板端面からの不純物の発生を抑えるとともに、合成石英ガラスに対して溶解力を持つ薬液（ＨＦ溶液等）で洗浄しても端面から不純物が溶出して基板の表面に付着することを抑えたポリシリコンＴＦＴ用合成石英ガラスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The ceramic honeycomb molded body 1 is grasped by a chuck part 31 and an elastic member 4 is provided between a surface pressing part 32 and the ceramic honeycomb molded body 1 and the end surface 11 of the ceramic honeycomb molded body 1 is pressed by the surface pressing part 32 to internally compress the plugging slurry, which is arranged by the first plugging process, by the elastic member 4.例文帳に追加

セラミックハニカム成形体１をチャック部３１により把持し、面押部３２とセラミックハニカム成形体１との間に弾性部材４を設け、面押部３２によってセラミックハニカム成形体１の端面１１を押圧することにより、第１栓詰め工程により配設した栓詰め用スラリーを弾性部材４によって内方に圧縮する。 - 特許庁

In the semiconductor device manufacturing method capable of utilizing the ruggedness of a surface as an alignment mark in a semiconductor device manufacturing process, a film allowed to be selectively etched is formed on the whole surface of a semiconductor substrate on which ruggedness appears, and the film is etched back so that the film is left only in the recessed part formed on the surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体デバイスの製造過程で、表面の凹凸をアライメントマークとして利用する半導体デバイスの製造方法であって、凹凸が現れた半導体基板表面に、半導体基板と選択的エッチングが可能な膜を全面に形成し、この膜をエッチバックし、半導体基板表面の凹部内のみに前記膜を残す。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes the processes of forming a mark made of a non-single-crystalline reformed layer inside a back surface of a semiconductor wafer by irradiating the semiconductor wafer with laser light from the back surface; and exposing the reformed layer by subjecting the back surface of the semiconductor wafer to polishing or grinding processing after the process of forming the mark.例文帳に追加

半導体ウェーハの背面からレーザ光を照射して、前記半導体ウェーハの背面より内部に非単結晶質の改質層からなるマークを形成する工程と、前記マークを形成する工程の後に、前記半導体ウェーハの背面を研磨或いは研削処理して前記改質層を表出させる工程を設ける。 - 特許庁

To provide a transfer film for curved surface printing which is free from the generation of cracks in an image layer constituting a pictorial pattern and capable of performing the curved surface printing with outstanding design characteristics, during a transfer processing step using a curl fit process for applying an activator to the transfer film for curved surface printing having a formed image layer constituting the pictorial pattern.例文帳に追加

絵柄を構成する画像層を形成した曲面印刷用転写フィルムに活性剤を塗布して行うカールフィットによる転写加工工程に際して、絵柄を構成する画像層のひび割れが発生せず、意匠性に優れた曲面印刷を行うことのできる曲面印刷用転写フィルムを提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The surface acoustic wave element 120 including a piezoelectric material layer 121, interdigital electrodes 122 and 123 and reflectors 124 and 125 is formed on the surface of a dielectric board 110, and an inductor L, a variable capacitor Cv and a capacitor CL formed by a micromachine process are arranged at positions away from the effective propagation area A of the surface acoustic wave element 120.例文帳に追加

誘電体基板１１０の表面上に圧電体層１２１、すだれ状電極１２２，１２３、反射器１２４，１２５を含む弾性表面波素子１２０が形成され、この弾性表面波素子１２０の有効伝播領域Ａから外れた位置に、マイクロマシンプロセスによって形成されたインダクタＬ、可変コンデンサＣｖ、コンデンサＣＬが配置されている。 - 特許庁

Molten slag 2, discharged out of a melting process, is received directly by a slanted slag cooling surface 1, which moves while being cooled by cooling medium 4, and while the slag 2 is rolled by the movement of the slanted slag cooling surface 1 during being cooled by the contact of the slag 2 with the slag cooling surface 1, whereby granulated slag 5 can be produced.例文帳に追加

溶融プロセスから排出される溶融スラグ２を、冷却媒体４によって冷却されるとともに移動する傾斜したスラグ冷却面１に直接受け、当該スラグ２をスラグ冷却面１との接触によって冷却しつつ、傾斜したスラグ冷却面１の移動によってスラグ２が転動することにより粒状スラグ５を生成する。 - 特許庁

To provide a decorative sheet which is able to maintain a beautiful aesthetic nature without easy change in gloss on a surface even if the surface temperature of the decorative sheet is exposed to 60°C or more in a laminating process with a base material and in a state of use after processing, in the decorative sheet for exterior having a surface protective sheet layer 4 comprising thermoplastic acrylic resin.例文帳に追加

熱可塑性アクリル系樹脂からなる表面保護シート層４を具備した外装用等の化粧シートにおいて、基材とのラミネート加工工程や施工後の使用状態で、化粧シートの表面温度が６０℃以上の高温に曝されることがあっても、表面の艶変化を発生しにくく、美麗な意匠性を持続可能な化粧シートを提供する。 - 特許庁

The method for preparing a composite membrane is characterized by forming a crystalline membrane of a zeolite on at least either the inner surface or the outer surface of a porous support by causing the porous support whose surface is covered with microcrystals of a zeolite with an organic macromolecule as a binder, to contact with a synthetic liquid comprising raw materials of the zeolite, and subsequently subjecting it to a hydrothermal synthesis process.例文帳に追加

有機高分子を結合剤として、表面にゼオライト微結晶を付与した多孔質支持体を、ゼオライトの原料を含む合成液に接触させ、水熱合成を施すことにより、多孔質支持体の内表面あるいは外表面の少なくとも一方の表面にゼオライト結晶膜を形成することを特徴とする複合膜の製造方法。 - 特許庁

As for the recorded material recycling method, at the recycling process for recorded material which is constituted of at least a base material layer and a surface layer made of water-swelling resin, and which is reusable by swelling the surface layer by water-based solvent, applying a dynamic stress and removing printing material, dry fine particles are uniformly applied on the surface of the recorded material.例文帳に追加

少なくとも基材層、水膨潤性樹脂からなる表層で構成され、水性溶媒により表層を膨潤させ力学的ストレスを印加して印字材料を除去することにより再利用が可能な被記録材のリサイクル工程において、該被記録材の表面に乾燥微粒子を均一に付与することを特徴とする該被記録材のリサイクル方法。 - 特許庁

Before an ion injecting process (stage S2) as an object of metal contamination evaluation is performed, an amorphous silicon layer 2 is formed (stage S1) on a silicon substrate surface (a surface of a silicon wafer 1) to suppress a crystal defect induced nearby the surface of the silicon wafer 1 due to injection energy in the silicon injection stage S2.例文帳に追加

金属汚染評価対象であるイオン注入処理（工程Ｓ２）を行う前に、シリコン基板表面（シリコンウエハ１の表面）に非晶質シリコン層２を形成する（工程Ｓ１）ことにより、イオン注入工程Ｓ２において注入エネルギーによりシリコンウェハ１の表面近傍に誘発される結晶欠陥を抑制することができる。 - 特許庁

The process implements a combined step of supplying gas substance which has compatibility with a liquid to be supplied to the substrate and produces a mixture having lower surface tension than that of the liquid, onto the surface of the substrate and supplying the liquid to at least a part of the surface of the rotating substrate.例文帳に追加

基材に供給する液体と相溶性を有しており、該液体と混合した場合に、該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じる気体物質を基材の表面に供給することを、回転する基材の表面の少なくとも一部に、液体を供給することと組み合わせて行う。 - 特許庁

The production process of such a ceramic member comprises subjecting a dense ceramic base material which has a ≥95% purity and a density exceeding 90% of the theoretical density, to etching treatment with an acidic etching liquid, to form the plurality of projections on the surface of each of most of the crystal grains existing in the surface or in the vicinity of the surface of the base material.例文帳に追加

このような、セラミックス部材は、純度が９５重量％以上で、理論密度の９０％を超える緻密質セラミックス基材の表面を酸性エッチング液中で侵食処理することにより、基材の表面またはその近傍に存在するセラミックス粒子の表面に複数の突起状部分を形成することによって製造することができる。 - 特許庁

The surface shape measurement system for measuring the uneven shape 11, generated on the curved surface of the measurement object, is constituted of a process of measurement of the surface shapes 1 and 2, corresponding to before and after generation of the unevenness, and of extracting the shape of unevenness by comparing the before and after the measurements.例文帳に追加

被測定物における曲面表面上に発生した凹凸１１の形状を計測する表面形状測定システムにおいて、凹凸の発生する以前と以後における表面形状１，２をそれぞれ測定し、測定した以前と以後の表面形状を比較し、表面形状の比較によって発生した凹凸の形状を抽出する構成とする。 - 特許庁

NC data conversion for surface processing can be directly conducted not via APT (automatically programmed tool) by structuring a curved surface patch with four endpoints and four curved lines of a shape process theory used for CAD image creation, creating unlimited number of surfaces without changing dot data by applying A and B parameter signal values to these four endpoints, and programming to text data in NC data creation for surface processing.例文帳に追加

面加工用ＮＣデータ作成に、ＣＡＤ作画に用いている形状処理理論の４端点４曲線で曲面パッチを構成し、この４端点にＡとＢパラメータ信号値をあやつる事で点データを変えずに無限数の面が創製出来これをテキストデータのプログラム化することで、ＡＰＴを介さず直接面加工用ＮＣデータ変換が出来る。 - 特許庁

To provide a polishing liquid composition which can make a polishing speed faster without generating surface defects on a polished body surface, a polishing method using the polishing liquid composition, and an oxide single- crystal substrate which has superior surface quality for a precise polishing process for the oxide single-crystal substrate of lithium tantalate or lithium niobate.例文帳に追加

タンタル酸リチウムあるいはニオブ酸リチウム等の酸化物単結晶基板の精密研磨加工において、被研磨物表面に表面欠陥を生じさせること無く、研磨速度を向上し得る研磨液組成物及び該研磨液組成物を用いた研磨方法、表面品質に優れた酸化物単結晶基板を提供すること。 - 特許庁

To provide an adhesive tape for the surface protection for a semiconductor wafer, which is excellently peeled even in thickness, diameter and surface film state (polyimide, benzocyclobutene etc.) of wafer conventionally having difficulty in peeling in a process in which an adhesive tape for the surface protection for a semiconductor wafer is pasted to a semiconductor wafer, the back of the semiconductor wafer is ground and the tape is peeled.例文帳に追加

半導体ウエハ表面保護用粘着テープを半導体ウエハに貼り付け、半導体ウエハの裏面を研削後、前記テープを剥離する工程において、従来剥離が困難であった、ウエハの厚さ、口径、表面の膜状態（ポリイミド、ベンゾシクロブテン等）であっても、良好に剥離することのできる半導体ウエハ表面保護用粘着テープを提供する。 - 特許庁

The method includes a step of surface-treating the surface of an ion conductive polymer film so as to obtain surface uniformity by using the plasma processing process, a step of adsorbing metal electrodes to both sides of the ion conductive polymer film, a step of reducing polymer metal composites to both sides of the ion conductive polymer film, and a step of forming a coating layer.例文帳に追加

プラズマ処理工程を利用してイオン伝導性高分子膜の表面が均一になるように表面処理する段階と、前記イオン伝導性高分子膜の両面に金属電極を吸着する段階と、前記イオン伝導性高分子膜の両面に高分子金属複合体を還元する段階と、コーティング層を形成する段階とを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing a prepreg by impregnating a long fibrous base material with the resin composition comprises an impregnation process of transporting the fibrous base material while making the under-surface of the fibrous base material be substantially in contact with the upper-surface of a plate pan and supplying the liquid resin composition on the upper-surface of the fibrous base material.例文帳に追加

長尺状の繊維基材に樹脂組成物を含浸させてなるプリプレグの製造方法であって、繊維基材下面をプレートパン上面に実質的に接触させながら繊維基材を搬送するとともに、繊維基材上面側から液状樹脂組成物を供給する含浸工程を有することを特徴とする、プリプレグの製造方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device and an apparatus for manufacturing the semiconductor device where the surface of a copper film is etched precisely, in a short time with few steps, while the surface roughness of the copper film is not progressed in the etching process of the surface of the copper film that includes oxidation of the copper film and removing the oxide thereof, with an acid or alkali.例文帳に追加

銅膜を酸化させその酸化物を酸もしくはアルカリなどで除去することにより銅膜の表面をエッチングする方法において、エッチング処理を行った後の銅膜表面が荒れてしまうことが少なく、少ない工程で短時間に精度良く行うことができる半導体装置の製造方法及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

A process B of impressing a given voltage between a collector 12 and the surface of the active material layer formed on the surface of the collector by having a collector (an electrode body 10b) with the active material layer formed on the surface pass between a pair of press rollers 64 with a voltage impressed by a voltage impressing device 70.例文帳に追加

電圧印加装置７０によって電圧を印加された一対のプレスローラ６４の間を表面に活物質層が形成された集電体（電極体１０ｂ）を通過させることで、集電体１２と、集電体の表面に形成された活物質層の表面との間に所定の電圧を印加する工程Ｂを実施する。 - 特許庁

The carbon material for an electrode is formed through plasma treatment process conducting high frequency thermal plasma treatment to a raw material composition of carbon or an organic material in a plasma gas atmosphere containing a boron-containing compound so that a region near the surface of the carbon material is made into a turbulent layer structure in the vicinity of the surface of the carbon material and also cleaning and surface-reforming are attained.例文帳に追加

ホウ素含有化合物を含むプラズマガス雰囲気中において、炭素又は有機材料からなる原料組成物に対して高周波熱プラズマ処理を施すプラズマ処理工程を経て電極用炭素材料を形成させることにより、炭素材料の表面近傍の乱層構造化とともに、クリーニング、表面改質を併せ行う。 - 特許庁

To provide a production process of a display surface protection plate, which generates neither float nor peel between a plastic film and an adhesive layer, suppresses wearing of a mold stamping blade, can easily produce a firm surface protection plate while reducing thickness, and further does not break a laminate i.e. a negative of the surface protection plate on production.例文帳に追加

プラスチックフィルムと接着層との間に浮きや剥がれを生じず、型抜きのための刃の磨耗を抑えた、厚みを薄くしつつ腰が強い表面保護板を簡易に製造することができ、さらに製造時に表面保護板の原板となる積層板が割れることもない表示装置用表面保護板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an acicular diamond regular arrangement with a large surface in which fine acicular diamond structures are regularly arranged, at a low cost without adopting a conventional well-known complicated process.例文帳に追加

従来公知の煩雑な工程を採用することなく、微細な針状構造が規則的に配列した針状ダイヤモンドの規則配列を大面積で、安価に作製する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a hot-rolled steel sheet for reducing the rising amount of rolling load caused by cooling in the process of finish rolling at hot-rolling and manufacturing the steel sheet excellent in surface properties without scale defects.例文帳に追加

熱間圧延時の仕上圧延過程において、冷却による圧延の負荷上昇量が小さく、スケール疵のない表面性状に優れた熱延鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the IC-tag-attached sheet is further provided with a process to adjust surface roughness of the electric conductor 22 on the non-electric conductor sheet 20 before arranging the IC chips 26 on the electric conductor 22.例文帳に追加

ＩＣタグ付シートの製造方法は、ＩＣチップ２６を導電体２２上に配置する前に、非導電体シート２０上の導電体２２の表面粗さを調整する工程をさらに備えている。 - 特許庁

The ball contacting member contacting the prize balls in storage of the prize balls and the process of delivering them among members constituting the back mechanism BM is produced by resin with a metal layer formed on a surface.例文帳に追加

この裏機構ＢＭを構成する部材のうち、賞品球の貯留、払い出し処理に際して賞品球に接触する球接触部材が、表面に金属層が形成された樹脂により作られる。 - 特許庁

To provide diversification of a polishing object and polishing backing, to improve a polishing amount, to improve polishing performance such as fineness enhancement of a polishing surface, to shorten a production process and to increase a pad life.例文帳に追加

本発明は研磨対象物や研磨基材の多様化、研磨量の向上、研磨面の繊細化等の研磨性能の改良と生産工程の短縮化、パッドライフの増大を目的とする。 - 特許庁

Regarding the method, non-toxicity and non-contamination are achieved, an electrolytic bath and an operational process can be easily controlled, and production cost is low, thus an adhesive base having excellent corrosion resistance is obtained on the surface of the aluminum product.例文帳に追加

該方法は、非毒性であると共に汚染がなく、電解浴および操作プロセスを制御しやすく、生産コストが低いので、アルミニウム素材の表面に、耐食性に優れた接着下地を得る。 - 特許庁

The locking device has a wave shape and /or polygonal shape cross section at least in the belt-shaped or circumference direction on at least one plain surface crossing squarely in the discharge process direction.例文帳に追加

本発明によれば、ロック装置は、吐出行程方向に直交する少なくとも１つの平面上に、少なくとも帯状または円周方向に波形及び／または多角形の断面を有する。 - 特許庁

To provide a manufacturing process and an image formation device of a recorded matter which can be transferred at a high transfer rate by forming a good image on an intermediate transfer matter having an inking surface layer.例文帳に追加

撥インク性の表面層を持つ中間転写体上に、良好な画像を形成し、高い転写率で転写可能な記録物の製造方法および画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a means by which a material becoming lightweight by a foaming process can be applied for a more extensive range of use through increasing its bending strength and surface strength while making the most of the lightweight properties.例文帳に追加

発泡することのよって軽量化された材料を、その軽量化を生かしながらその曲げ強度、表面強度を増加し、より広範な用途に使用できる手段の提供にある。 - 特許庁

Neither the internal wall of a vacuum container 5 of a vapor- phase chemical reaction device 1 which forms a film nor the surface of a shower head 2 which faces a wafer 4 changes in state, so the reproducibility of a process of film forming can be maintained.例文帳に追加

成膜を行う気相化学反応装置1の真空容器5の内壁及びシャワーヘッド2のウェハ4と対向する面の状態が変化しないため、成膜のプロセスの再現性を維持できる。 - 特許庁