「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(106ページ目) - Weblio英語例文検索

Further, the slurry is carried to the next polishing process, thus suppressing defects generated on a surface to be polished in the semiconductor wafer W by polishing using the slurry and suppressing stain and marks generated on the back.例文帳に追加

さらに、次の研磨工程にスラリーが持ち込まれて、このスラリーを用いた研磨により半導体ウェハＷの被研磨面に発生する欠陥や、裏面に発生するシミや傷を抑制できる。 - 特許庁

Thereby the rubber which is invaded between the shaft 80 and a hook 24 and constitutes an elastic belt 42 in a manufacturing process is made not to be pasted to an outer peripheral surface 80A of the shaft 80.例文帳に追加

これにより、製造工程において軸部８０と引掛部２４との間に侵入した弾性ベルト４２を構成するゴムが、軸部８０の外周面８０Ａに接着されないようになっている。 - 特許庁

In the roughening process, when a maximum height Rmax per the cured film surface 10×10 μm is set to be 15-35 nm, adhesion with the antireflection film on the cured film can be improved.例文帳に追加

粗面化処理の際に硬化膜表面の１０μｍ×１０μｍあたりの最大高さＲmax を、１５ｎｍ≦Ｒmax ≦３５ｎｍとすることで、この上の反射防止膜との密着性を高めることができる。 - 特許庁

In the terminal exposure process, light is emitted from the upper surface side of the mask sheet, thereby developing a negative photoresist outside of the part superposed on the light-shielding part for the protective film and the light-shielding part for the terminal to remain.例文帳に追加

端子露出工程では、マスクシートの上面側から光を照射して保護膜用遮光部及び端子用遮光部に重ねられた部分以外のネガ型フォトレジストを現像し残存させる。 - 特許庁

To provide a grinder device for a support grid that automatically grinds outer surface or corner parts of the support grid in the manufacturing process of an inconel support grid of nuclear fuel assembly, and a grinding method of a support grid.例文帳に追加

核燃料集合体のインコネル支持格子の製造過程で、支持格子の外面または角部を自動で研削する支持格子研削装置、及び支持格子研削方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing coal includes spraying a water-soluble tar aqueous solution by-produced in a process of carbonization or gasification of an organic material on the surface of the coal to suppress the low temperature oxidation.例文帳に追加

石炭の表面に有機物の炭化、ガス化の過程で副生する水溶性タール水溶液を散布して、低温酸化を抑制することを特徴とする石炭の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the first shot peening process, a first shot is projected to the spring element wire at a first projection speed, so that compressive residual stress occurs up to a deep position from a surface by high kinetic energy.例文帳に追加

第１のショットピーニング工程では、第１のショットが第１の投射速度でばね素線に投射され、高い運動エネルギーによって表面から深い位置まで圧縮残留応力が生じる。 - 特許庁

In a second etching process, the etching stopper film 14 is etched on the fuse layer 12 selectively for the first insulating film 13 to expose a surface of the firsts insulating film 13.例文帳に追加

次に、第２のエッチング工程として、ヒューズ層１２上で、エッチングストッパー膜１４を第１の絶縁膜１３に対して選択的にエッチングすることにより、第１の絶縁膜１３の表面を露出させる。 - 特許庁

To provide a method for producing a molded pulp product moldable to a form having appearance unattainable by conventional molded pulp production process and various surface properties.例文帳に追加

従来のパルプモールド成型物の製造方法では得ることのできなかった外観と種々の表面性状を有する形状に成型することができるパルプモールド成型物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer capable of suppressing film peeling by an oxide film thickness decline at a wafer outer periphery by CMP in a device process while keeping the high flatness of a wafer surface.例文帳に追加

ウェーハ表面の高平坦度を保ちつつ、デバイス工程におけるＣＭＰによるウェーハ外周部での酸化膜厚み低下による膜剥がれを抑制することができる半導体ウェーハを提供する。 - 特許庁

In the process from the landing to the leaving of the sole 22R(L), the sole 22R(L) can be turned around the axis in the direction in which the curved bottom surface 27R(L) is brought into contact with a floor.例文帳に追加

足平２２Ｒ（Ｌ）の着床から離床までに至る過程において、その足平２２Ｒ（Ｌ）を曲底面２７Ｒ（Ｌ）が接床する方向の軸回りに回転動作させることが可能である。 - 特許庁

To provide an adhesion evaluating method for correctly evaluating adhesion of mold powder to be added to the surface of a molten metal in a mold in a molten metal continuous casting process.例文帳に追加

溶融金属の連続鋳造工程にて鋳型内溶融金属湯面上に添加されるモールドパウダーの凝固シェルへの付着性を正確に評価するための付着性評価方法を提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device includes a vapor phase growth process of carrying out vapor phase growth of a semiconductor growing layer of a nitride in the trench 42 of a semiconductor base layer 10 of a nitride having the trench 42 formed at a surface layer portion.例文帳に追加

表層部にトレンチ４２が形成されている窒化物の半導体下地層１０のトレンチ４２内に、窒化物の半導体成長層を気相成長させる気相成長工程を備えている。 - 特許庁

To provide a coating nozzle for liquid capable of forming a uniform coating film with a small quantity of a coating liquid on a circular surface, preventing the physical staining in the forming process and processing for a shorter time.例文帳に追加

円形状の表面に少ない塗布液で均一な塗膜を形成し、その形成過程における物理的汚染を防止し、より短時間で処理することが可能な液体の塗布ノズルを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a winding bush capable of effectively using a lengthy material and simple in manufacturing process at the time of manufacturing the winding bush excellent in performance improved in rigidity by welding an abutting surface.例文帳に追加

突き合わせ面を溶接して剛性を高めた性能に優れる巻きブシュを製造するに際して、長尺素材の有効利用を図るとともに製造工程の簡素な巻きブシュの製造方法とする。 - 特許庁

An etching mask is formed on the surface of a silicon substrate 1, and after that, a required number of operations of applying etching are repeated so that a silicon recessed mold 4 with a recess of a desired shape can be formed (a first process).例文帳に追加

シリコン基板１表面にエッチングマスクを形成し次いでエッチングを施す操作を必要回数繰り返して所望形状の凹所を持つシリコンの凹型４を形成する（第１工程）。 - 特許庁

To produce cylindrical parts high in perpendicularity and flatness of end face in the axial direction and excellent in the surface roughness of the inner peripheral face of a through hole mainly by forging process.例文帳に追加

軸方向の端面の直角度や平面度が高く、且つ貫通穴の内周面の面粗さが優れた円筒状部品を、鍛造加工を主体とする加工によって製造できるようにする。 - 特許庁

A non-SiN-based insulating film, such as a P-SiO film having N-H groups on its surface generated by an HMDS process may be uses as the CU anti-diffusion layer and/or etching stopper layer.例文帳に追加

ＨＭＤＳ処理などにより表面にＮ−Ｈ基を生成したＰ−ＳｉＯ膜などの非ＳｉＮ系絶縁膜をＣｕの拡散防止層および／またはエッチングストッパー層として用いてもよい。 - 特許庁

Gaps between the supports 3, 4 and the process tube 1, and between the leading pipe 15 and the outer circumferential surface are blocked by a first high heatproof heat insulation member 5 and the second high heatproof heat insulation member 6.例文帳に追加

支持体３，４とプロセスチューブ１及び導入管１５の外周面との間の間隙は、第１の高耐熱断熱部材５及び第２の高耐熱断熱部材６によって閉塞される。 - 特許庁

The rear surface of a wafer 1 is subjected to grinding after a barrier metal 4 is formed through sputtering or the like, thereafter a bump resist 5 with an opening located on the semiconductor electrode 2 is formed, and a bump 6 is formed through a plating process.例文帳に追加

バリアメタル４をスパッタリング等で形成後にウェハ１のバックグラインドを実施し、その後、半導体電極２上を開口したバンプレジスト５を形成し、めっき工程でバンプ６を形成する。 - 特許庁

Therefore, the wafer is introduced into a bonding unit 10 which keeps the humidity of 30% or so, and residual moisture left on the wafer is kept constant, after the moisture absorbed to the surface of the wafer is removed, until a direct bonding process is carried out.例文帳に追加

その後、湿度が３０％程度に保持された接着ユニット１０内にウェハを移し、直接接着工程まで表面吸着水分除去後の残留水分を一定に保持する。 - 特許庁

Next, a portion other than the black color-based paint of the marking indication content 100 is painted with a paint of the background color so selected as to allow the surface of this black color-based paint to be exposed in the background color painting process.例文帳に追加

次に背景色塗装工程でマーキング表示内容100 の黒色系塗料以外の部分をこの黒色系塗料の表面が露出するように選定された背景色の塗料で塗装する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a surface sticky type light emitting diode of single-grain and its structure, wherein a lifetime is long, a production cost is cheap, a heat dispersion effect is excellent and a conventional production process can be used.例文帳に追加

寿命が長く、生産費用が安く、散熱効果に優れ、従来の生産プロセスが利用できる、単粒の表面粘着型発光ダイオードの製造方法と、その構造を提供する。 - 特許庁

A lightly-doped film 4 is formed on the heavily-doped film 3, by applying a dispersing agent with a dopant concentration which is lower than that of the earlier applied dispersant agent onto the entire light-receiving surface of the silicon substrate 1 by using a spin coating process.例文帳に追加

シリコン基板１の受光面全体にスピンコートによって、先に塗布した拡散剤よりもドーパント濃度の低い拡散剤を塗布して、低濃度膜４を高濃度膜３に重ねて形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the polarizing film is characterized in that a polyvinyl alcohol film, in which foreign matters of 20 μm or larger on the surface are not more than ten pieces per one square meter, is stretched by a dry process.例文帳に追加

フィルム表面に存在する２０μｍ以上の大きさの異物が１平方ｍ当たり１０個以下のポリビニルアルコールフィルムを乾式法で延伸することを特徴とする偏光フィルムの製造法。 - 特許庁

To improve manufacturing yield of disk media by eliminating the formation of a servo pattern which can uniformize a projection-to-depression ratio on a disk surface and requires a detailed physical process in particular.例文帳に追加

ディスク面上の凹凸比の均一化を図ることが可能で、かつ特に微細な物理的加工を要するサーボパターンの形成を省略することでディスク媒体の製造歩留まりを向上する。 - 特許庁

To provide a correction method for a seat pad which corrects surface defects generated in the manufacturing process of the seat pad simply and into excellent quality, and to provide the seat pad corrected by the method.例文帳に追加

シートパッドの製造工程において発生する表面欠点を簡単にかつ優れた品質で修正する、シートパッドの修正方法、及び同方法により修正されたシートパッドを提供する。 - 特許庁

The inspection method for the surface state of the elastic roller includes a process for adjusting load so that penetrated amounts of an inspection roller in the axial direction of the elastic body roller are made equal to each other.例文帳に追加

弾性体ローラの軸方向で検査ローラの侵入量が等しくなるように荷重を調整する工程を含むことを特徴とする弾性体ローラの表面状態の検査方法 - 特許庁

At assembly of the car frame 11, the controller box 16 can be integrated with the upper part frame 15, and thereby a process for independently attaching the controller box 16 on an upper surface of the car chamber 12 can be dispensed with.例文帳に追加

かご枠１１の組付時にコントローラボックス１６を上部フレーム１５と一体化しておくことができるため、コントローラボックス１６を別途かご室１２の上面に取り付ける行程が不用となる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an electrophotographic photoreceptor having a good coating surface and having no image trouble such as a white spot, a black spot and irregular density in forming an image by an electrophotographic process.例文帳に追加

良好な塗布面を有し、電子写真プロセスにより画像形成を行う際に、白ポチ、黒ポチ、濃度ムラ等の画像故障のない電子写真感光体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

By making the surface characteristics of the fixing belt and the intermediate transfer belt 10 coming into contact with respective sides of the recording paper at the fixation process equal to each other, the uniform quality is obtained in terms of the fixed images on both sides of the paper.例文帳に追加

定着時に記録用紙の各面に接する定着ベルトと中間転写ベルト１０の表面特性を同じにすることで、用紙両面での定着後の画像品質を同等にする。 - 特許庁

To provide a grinder capable of suppressing the resonance of a finger part of an in-process gauge, without having to adjust a plate spring or the length of a finger, to thereby accurately measure the dimensions of a grinding surface.例文帳に追加

板ばねの調整やフィンガー長の調整を行うことなく、インプロセスゲージのフィンガー部の共振を抑えることができ、これにより、正確な研削面の寸法が計測できる研削装置を提供する。 - 特許庁

In a crushing process for crushing a niobium crude powder by a crusher, a crusher is used which is equipped with crushing media having at least one of a tantalum layer, a niobium layer, and a tantalum-niobium layer on the surface.例文帳に追加

ニオブ粗粉末を粉砕機で粉砕する粉砕工程において、少なくとも表面にタンタル層、ニオブ層、タンタルーニオブ合金層のいずれかを有する粉砕メディアを備えた粉砕機を使用する。 - 特許庁

A process to form a silicon oxide film is carried out by a CVD method on a silicon structure processed by hole etching or trench etching and on which the silicon of at least the bottom surface of the hole or the trench is exposed.例文帳に追加

ホールエッチング又はトレンチエッチングされ、かつそのホール又はトレンチの少なくとも底面のシリコンが露出しているシリコン構造体上にＣＶＤ法によりシリコン酸化膜を形成する工程を行う。 - 特許庁

Thus, the stencil mask and its manufacturing method can be provided, which can improve the size precision in the stencil mask substrate surface by reducing the influence of microloading effect in the dry etching process.例文帳に追加

したがって、ドライエッチング工程におけるマイクロローディング効果の影響を低減させて、ステンシルマスク基板面内の寸法精度を向上させるステンシルマスクおよび製造方法を提供することができる。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition device capable of continuously and uniformly forming a mixed film composed of different elements and having prescribed compositional ratios and objective thickness on the surface of a film in the process of running.例文帳に追加

走行中のフィルム表面に異なる元素からなり、所定の組成比および目標厚みを有する混合膜を、連続的、且つ均一に形成できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

Then resist is subjected to an etch-back process on the entire surface under conditions of reducing a gap between adjacent lenses so as to transfer the resist pattern to the base lens material to form a lens array 22A having reduced gaps.例文帳に追加

この後、隣接するレンズの間隔を縮小させる条件で全面エッチバック処理を行い、レジストパターンを下地のレンズ材に転写し、ギャップを縮小したレンズアレイ２２Ａを形成する。 - 特許庁

The spherical head part 23 of the ball stud 18 is formed via a cutting process, and a processing mesh 45 formed on its outside surface extends in the substantially orthogonal direction to the rocking direction D1 of the ball stud 18.例文帳に追加

ボールスタッド１８の球頭部２３は、切削工程を経て形成されており、その外表面に形成された加工目４５は、ボールスタッド１８の揺動方向Ｄ１に略直交する方向に延びている。 - 特許庁

The method of manufacturing the toner supply roller includes a short fiber body formation process in which the short fiber is electrostatically planted onto the surface of the elastic porous layer formed on the periphery of the core.例文帳に追加

また、本発明のトナー供給ローラの製造方法は、芯材の周面に形成された弾性多孔質層表面に、短繊維を静電力により植毛する短繊維体形成工程を備える。 - 特許庁

In this resist film forming process, the resist agent is replenished to the liquid tank 20 to keep the level of the resist agent in the liquid tank constant while the resist agent 21 is applied to the coated surface.例文帳に追加

このレジスト膜形成工程において、被塗布面へのレジスト剤２１の塗布中は、前記液槽２０内へレジスト剤を補給しながら液槽内のレジスト剤の液面高さが一定になるように制御する。 - 特許庁

To provide a method for producing a polyvinyl chloride glove made by flocking piles on the internal surface of the glove, aiming at omitting a conventional process of soaking a gloves in a resin solution to bond piles thereto.例文帳に追加

手袋本体の内面にパイルを植毛して成る塩化ビニル製手袋の製造方法に関し、従来行なわれていたパイルを接着するための樹脂溶液に浸漬する工程を省くことである。 - 特許庁

To provide a ridge type semiconductor laser element, in which an electrode on the ridge section side can be installed stably on a fixed mounting surface surely without complicating a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程を複雑化することなくリッジ部側の電極を所定の取り付け面に安定かつ確実に取り付けることができる信頼性の高いリッジ型の半導体レーザ素子を提供することである。 - 特許庁

This production process comprises mixing natural aggregate consisting of natural stone with a calcium compound and subjecting the resulting mixture to heat treatment to react the calcium compound with the natural aggregate in its surface layer and to form a modified layer of the aggregate.例文帳に追加

天然石よりなる天然骨材とカルシウム化合物を混合し、この混合物を加熱処理して、天然骨材の表層においてカルシウム化合物を反応させて改質層を形成する。 - 特許庁

A microwave transceiver 140 generates a microwave signal, and the microwave signal is advanced along a termination 110 through a reference impedance discontinuous surface 155 and propagated into the interface 127 of a process product.例文帳に追加

マイクロ波トランシーバ１４０がマイクロ波信号を発生し、該マイクロ波信号は、基準インピーダンス不連続面１５５を介して、成端１１０に沿って進行し、プロセス製品の界面１２７内に伝播する。 - 特許庁

To provide a method for forming a polysilicon pattern which can suppress surface roughness in a conversion process from amorphous silicon into polysilicon by laser annealing, a thin film transistor, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

レーザアニールによるアモルファスシリコンからポリシリコンへの移行過程で表面が粗くなることを抑制するポリシリコンパターンの形成方法、薄膜トランジスタの製造方法及び薄膜トランジスタを提供すること。 - 特許庁