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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > surface processに関連した英語例文

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surface processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 9599件



例文

Further, while cooling a protection tape T is indirectly cooled via the wafer W cooled in a process for sticking the protection tape T to the wafer W, the protection tape T is made to stick to the surface of the wafer W.例文帳に追加

さらに、ウエハWに保護テープTを貼付ける過程で冷却されたウエハWを介して保護テープTを間接的に冷却しながらウエハWの表面に保護テープTを貼付けてゆく。 - 特許庁

To provide an incubator enabling observing cell culture process continuously for a long time if the culture fluid temperature on the stage of a microscope can be kept at 37°C and the carbon dioxide concentration in a liquid surface atmosphere at 5%.例文帳に追加

顕微鏡ステージ上で培養液温度を37℃、液面雰囲気の二酸化炭素濃度を5%に保持することができれば、細胞培養過程を長時間連続して観察することが可能となる。 - 特許庁

To provide a preparation process of a porous film which has a uniform thickness, a large strength, a high specific surface area and a large pore volume and also a high ion permeability and an excellent high-speed charge-discharge property.例文帳に追加

厚みが均一で、高強度、高比表面積及び高細孔容積を有し、かつイオン透過性及び高速充放電特性にも優れる多孔質フィルムの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a process for producing a light transmitting electromagnetic wave shielding film in which uneven black gloss does not occur even if contact, scratch, or the like, takes place on the surface of a blackening treatment layer during production.例文帳に追加

製造時に黒化処理層表面に接触や擦過等が起こった場合にも、黒色の光沢ムラが発生しない光透過性電磁波シールド性フィルムの製造方法を提供すること。 - 特許庁

例文

To facilitate a bonding process for mounting an antenna integrated element on a flat surface of a silicon hemispherical lens, to improve the positioning accuracy of the antenna integrated element, and to avoid an influence of a stress at the time of the mounting.例文帳に追加

アンテナ集積素子をシリコン半球レンズの平面上に実装するボンデイング工程を容易にする、アンテナ集積素子の位置決め精度を向上させる、実装時の応力の影響を回避する。 - 特許庁


例文

To provide a method of cleaning a substrate which can clean the surface of the substrate by an easy and efficient process and which does not have a harmful effect on the substrate.例文帳に追加

本発明は、容易かつ効率的な工程で基板表面を洗浄することが可能であり、また基板に悪影響を与えない基板の洗浄方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a sample plate being a functional sample plate which has a sample fixed to its surface and ionizes the sample by applying energy to the sample, simplified in manufacturing process and flexibly altered in its constitution.例文帳に追加

表面に固着されるサンプルにエネルギーを与えることによりこれをイオン化させる機能性サンプルプレートであって、製作工程が簡略化され、構成を柔軟に変更可能なサンプルプレートを提供する。 - 特許庁

To provide a surface plasmon resonance sensor apparatus that can continuously measure and process a number of samples, is simple in configuration and can travel relatively easily, has improved measurement accuracy, and is inexpensive.例文帳に追加

多数の試料を連続して計測処理することのできると共に、構成が単純で相対移動が容易であり、測定精度が良く、安価である、表面プラズモン共鳴センサ装置を提供する。 - 特許庁

The second etching process can be performed continuously, by only changing the flow rate ratio between etching gases and the etching can be performed stably under the condition that the silicon surface is not damaged.例文帳に追加

第2のエッチング処理工程は、エッチング用のガスの流量比を変えるだけで連続して行なえ、安定した条件で、シリコン面にダメージを与えない条件でエッチング処理を行なえるようになる。 - 特許庁

例文

To provide boiled soybean for Natto (soybean fermented with Bacillus Natto) having moderate softness and produced by removing the coloring components attached to the surface of the soybean during the boiling process without causing the peeling and crushing of the soybean.例文帳に追加

大豆の皮剥けや潰れを引き起こすことなく、かつ蒸煮工程で付着した大豆表面の着色成分を除くと共に、適度な柔らかさを有する納豆用蒸煮大豆を提供すること。 - 特許庁

例文

Both traction surfaces 17a, 17b are machined by fixing the inside peripheral surface 17f of an output disk 17 on a mandrel 40, and by utilizing the mandrel 40 as a rotation datum without unchucking the mandrel 40 in the machining process.例文帳に追加

出力ディスク17の内周面17fを芯金40に固定し、芯金40を加工時の回転基準として、途中でアンチャックすることなく両方のトラクション面17a,17bを加工する。 - 特許庁

The beam is guided to a second exposure object W2 during the stage transfer time for the first exposure object W1, to perform the second exposure process on the surface of the second exposure object W2.例文帳に追加

第1露光対象物W1に対するステージ移送時間の間、光を第2露光対象物W2に誘導して、第2露光対象物W2の表面に第2露光工程を行う。 - 特許庁

To obtain a process for producing a thin-film magnetic head which substantially does not cause a problem of readhesion even if the thickness of magnetic films having a high saturation magnetic flux density disposed on a surface opposed to a gap film is increased.例文帳に追加

ギャップ膜対向面に備えられる高飽和磁束密度の磁性膜の膜厚を厚くしても、再付着の問題を、殆ど生じることのない薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

In this way, uniform dealing not dependent on the shape of the free-form surface 20 is made possible, a design process can be simplified and the shape of reflection plane is made appropriate.例文帳に追加

これによって、自由曲面20の形状に依存しない統一的な取り扱いが可能になるので、設計工程が簡単化されるとともに、得られる反射面形状を好適化することができる。 - 特許庁

In a manufacturing process of the solenoid spill valve 6, a single body characteristic check value of a opening valve response time of the solenoid spill valve 6 is quantified, to discriminate and display it on a surface of a valve body 33 of the solenoid spill valve 6.例文帳に追加

電磁スピル弁6の製造工程では、電磁スピル弁6の開弁応答時間の単体特性チェック値を数値化して、電磁スピル弁6のバルブボデー33の表面に識別表示する。 - 特許庁

To provide a cinerary box storing a cinerary urn on a wall surface of the body fitly, maintaining the structure not to be out of alignment afterward, and performing the storing process of the cinerary urn safely and easily.例文帳に追加

骨壷を骨箱本体の壁面にぴったり収納でき、後からズレたりしない構造を維持しつつ、骨壷の収納作業を安全かつ容易に実施できるようにした骨箱を提供する。 - 特許庁

Since the state of the molding material is made sparse in the feed zone, the frictional resistance between the inside surface of the heating cylinder 11 and the molding material can be reduced in a metering process.例文帳に追加

供給部においては、成形材料の状態が疎にされるので、計量工程において加熱シリンダ11の内周面と成形材料との間の摩擦抵抗を小さくすることができる。 - 特許庁

To provide a machine for machining electronic components and a machine for machining and amounting electronic components, which machine the leads of insertion mounting type electronic components to form electronic components which are mountable in the same mounting process as that of the surface mount type electronic components.例文帳に追加

挿入実装用電子部品のリード線を加工して、表面実装用電子部品と同じ実装工程で実装できる電子部品とする加工機及び加工搭載機を提供する。 - 特許庁

In the final floating surface polishing process of a rover 50, a resistance value of the ELG 2 and a resistance value of the real element 1 are detected (measured) in an area where the resistance value of the real element 1 is detectable (step 100).例文帳に追加

ローバー50の最終浮上面研磨工程において、実素子1の抵抗値が検知可能な領域で、ELG2の抵抗値と実素子1の抵抗値を検知(測定)する(ステップ100)。 - 特許庁

To provide a recycling method of a cathode ray tube capable of minimizing waste quantity by culletizing surface deposit by certainly and speedily peeling and removing them in a simplified process and by using an inexpensive blast material.例文帳に追加

簡略化された工程で表面付着物を確実迅速に剥離除去してカレット化し、しかも、安価なブラスト材を使用し、廃棄物量を最少にし得るブラウン管のリサイクル方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resistance measuring method for accurately measuring an electrical resistance of a plate material formed with a film on its surface, and a component inspecting process to which the resistance measuring method is applied.例文帳に追加

表面に膜が形成された板材の電気抵抗の測定を正確に行なうことができる抵抗測定方法およびその抵抗測定方法が適用された検査部品プロセスを提供する。 - 特許庁

To provide a developing device capable of preventing the surface of a developing roller from being dirtier when image formation in which toner consumption is small is continued for a long period even when a process line speed is fast and the quantity of toner is large.例文帳に追加

プロセス線速が速くトナー量を多くした場合でも、トナーの消費が少ない作像が長く続いたときに地汚れが悪化するのを防ぐことができる現像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a uniform transportation reaction tube of raw material gas for semiconductor wafer vapor-phase growth, capable of uniformly supplying a raw material gas to the surface of a semiconductor wafer in a vapor-phase growth process of semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェハの気相成長工程において、原料ガスを半導体ウェハの表面へ均一に供給できる、半導体ウェハ気相成長用の原料ガス均一輸送反応管を提供する。 - 特許庁

In the novel process for the preparation of the supported metallic catalysts, a metallic phase is deposited in the form of agglomerates of nanoparticles of metallic oxide and forms a layer of fine thickness at the surface of a support.例文帳に追加

担持金属触媒の新規な調製方法であって、金属相が、金属酸化物のナノ粒子の凝集体の形態で沈着させられ、担体の表面に微細な厚さの層を形成する、方法。 - 特許庁

Since the microlens array for the CCD is coated with the TiO_2 film having the hydrophilic property in the dicing process, the microlens array has an excellent affinity with pure water for a washing, and cutting chips are made to flow out from the surface of the microlens array.例文帳に追加

ダイシング工程ではCCDのマイクロレンズアレイは、親水性のTiO_2膜に覆われているために、洗浄用の純水とよくなじみ、切削屑はマイクロレンズの表面から流去される。 - 特許庁

To provide a member for semiconductor heat treatment, which will not generate a slip on a semiconductor wafer by preventing the rear surface of wafer from generating a flaw and which is suitable for a manufacturing process which requires high cleanliness.例文帳に追加

ウェーハ裏面の傷の発生を防止して半導体ウェーハにスリップを発生させることがなく、かつ高清浄度を必要とする製造工程に適する半導体熱処理用部材を提供する。 - 特許庁

(b) The defects detected in the process (a) are classified into a group detectable by observing secondary electrons emitted when an electron beam is entered into a surface thereof, and an undetectable group.例文帳に追加

(b)工程aで検出された欠陥を、表面に電子ビームを入射させたときに放出される2次電子を観測することにより検出できる群と、検出できない群とに分類する。 - 特許庁

To provide a radius shape in the body part of a plug for reducing flaws on the inside surface of a steel tube when manufacturing a seamless steel tube by Mannesmann process and a manufacturing method for the seamless steel tube using the same plug.例文帳に追加

マンネスマン法による継目無鋼管製造時の鋼管内面のキズを低減するプラグの胴部のR形状およびそのプラグを使用した継目無鋼管の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing a thermoplastic resin composition by which a thermoplastic resin composition having improved impact resistance without deteriorating mechanical characteristics and processability and having excellent surface appearance can be produced in a simple manner with a high productivity.例文帳に追加

機械特性および加工性を低下させずに、耐衝撃性が向上し、表面外観に優れた熱可塑性樹脂組成物を簡便かつ高生産性で製造できる製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a laminated substrate capable of simplifying a process and obtaining the high degree of freedom in electrode design without being affected by the thickness of an electrode, and enabled in flattening a surface.例文帳に追加

工程の簡略化が可能であり、電極の厚さの影響を受けることがなくて表面の平坦化を図れ、電極設計の自由度が高い積層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In forming a polymer compound in wet process, functionality-imparting particles are supported on the surface of a formed produoct by using a slurry as a solidifying solution obtained by dispersing functionality-imparting particles into a solidifying solution.例文帳に追加

高分子化合物を湿式成型する際に、凝固液として機能性付与粒子を凝固液中に分散させたスラリーを用いることにより、成型品の表面に機能性付与粒子を担持させる。 - 特許庁

Next, while rotating the roughly ground spectacle lens L by rotatingly driving a shaft member, rough grinding is performed by allowing the pair of rotating grinding wheels to abut on the outer peripheral end surface of the spectacle lens L (a rotary rough grinding process).例文帳に追加

次に、軸部材を回転駆動して、粗加工された眼鏡レンズLを回転させながら、眼鏡レンズLの外周端面に、回転する一対の砥石を当接させて粗加工する(回転粗加工工程)。 - 特許庁

To prevent an adhesive seeped out of an adhesion surface from adhering to an orifice and an ink channel to cure and from turning the discharge precision of an ink lowered in the process of pasting an orifice plate and a liquid discharge head together.例文帳に追加

オリフィスプレートと液体吐出ヘッドの張り合わせ工程において、接着面からはみ出した接着剤がオリフィスおよびインク流路に付着して硬化し、インクの吐出精度を下げることを防ぐ。 - 特許庁

To provide an FRP (fiberglass-reinforced plastic) molded article having symmetrical surface pattern more excellent in quality than prior art and a process more simple than the prior art for molding it with good efficiency.例文帳に追加

従来のものよりも品質的に優れた左右対称な表面模様を有するFRP成形品と、それを効率良く成形するための従来よりも簡単な方法を提供すること。 - 特許庁

After foreign matters stuck to the substrate 100 in the polishing are eliminated, the surface of the ARL film 110 is polished by using an abrasive agent of the same kind as the polishing process of the copper films 113 and 114.例文帳に追加

その後、研磨時に基板100に付着した異物を除去した後、銅膜113及び114の研磨工程と同じ種類の研磨剤を用いてARL膜110の表面を研磨する。 - 特許庁

To provide an ink container which is prevented from being thermally deformed in a manufacture process, and which prevents ink from being leaked from an air communicating port passing along a surface of an ink isolating layer formed part in the ink container.例文帳に追加

製造過程においてインク容器の熱変形等がなく、インク容器内のインク遮断層形成部表面を伝って、インクが大気連通口から漏れることが無いインク容器を実現すること。 - 特許庁

Whereby, in the same process, the bump 7 spreads melted solder over the surface of the metal powder 16 wetting it, and the melted solder reaches the electrode 12a and can harden the resin 17.例文帳に追加

これにより、同一工程においてバンプ7が溶融した溶融半田を金属粉16の表面を伝って濡れ拡がらせて電極12aに到達させるとともに、樹脂17を硬化させることができる。 - 特許庁

A method has an etching process wherein a specimen 21 with a resist pattern 30 formed on its top surface is subjected to plasma-aided dry etching for the formation of a layer with its cross section having protrusions.例文帳に追加

上面にレジストパターン30が形成された試料21に対して、プラズマによるドライエッチングを行なうことにより、試料21の上部に断面凸状部を形成するエッチング工程を有している。 - 特許庁

The pattern 8 for process monitor formed to change the dimensions or shapes appearing on the polished surface in correspondence to the abrasion wear are formed in prescribed positional relations with the MR elements 6.例文帳に追加

研磨量に対応して研磨面に現われる寸法または形状が変化するよう形成された加工モニタ用パターン8を磁気抵抗効果素子6に対して所定の位置関係で形成する。 - 特許庁

To provide a means which effectively and efficiently executes a process for cleaning a surface layer of a CVD-SiC film of a goods such as a member for semiconductor manufacture by oxidizing and acid cleaning.例文帳に追加

半導体製造用部材などの物品のCVD‐SiC膜の表層を酸化と酸洗浄とにより清浄化する工程が、より効果的にかつより効率良く行える手段を提供する。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin pellet which causes no welding to the wall surface of a dryer in the pellet-drying process, shows a greatly reduced quality irregularity of the product, and hence permits production of the product of a stabilized quality.例文帳に追加

ペレット乾燥工程での乾燥機壁面への融着をなくし、製品の品質ムラを大幅に低減して、品質の安定した生産が可能となる熱可塑性樹脂ペレットを提供する。 - 特許庁

To improve the accuracy of a process by a means for compensating surface topography in designing a mask and to provide a method for performing optical proximity correction (OPC) of the mask before forming the mask.例文帳に追加

マスク設計時に表面トポグラフィを補償する手段によってプロセスの精度を向上させること、およびマスクを作成する前にマスクの光学的近接補正を行う方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wet processing technique in the cleaning and drying process of a semiconductor substrate wafer easy of drain disposal, by suppressing the cohesion of foreign matter or impurities on the main surface of a semiconductor substrate wafer.例文帳に追加

半導体基板ウェハ主面での異物や不純物の凝集を抑制し、排水処理も容易な半導体基板ウェハの洗浄及び乾燥工程におけるウェット処理技術を提供する。 - 特許庁

In the stone-filling process, an empty cage 3 made of metal netting is filled up with a plurality of stones at a place of work and a stone-filled cage 4 is fabricated by lastly attaching a top surface netting 3a as a lid.例文帳に追加

石詰め工程 では、予め作業所にて、金属製の網からできた空のカゴ3に複数の石を詰め込み、最後にフタ用の上面網3aを取り付けて石詰めカゴ4を製作する。 - 特許庁

An outer surface of the medical tool base substance is coated with a liquid containing a colored fluororesin or powdered fluororesin so that the colored medical tool base substance could be manufactured in the manufacturing process for the colored medical tool base substance.例文帳に追加

着色医療用具基体製造工程では、医療用具基体の外面に、着色フッ素樹脂含有液またはフッ素樹脂の粉体が塗装されて着色医療用具基体が製造される。 - 特許庁

In a process (a), after forming an insulation film 2 and a diffusion layer 3 on a silicon substrate 1, a gate oxide film is formed on the surface of the diffusion layer 3 to form thereon a gate electrode 4 by its patterning.例文帳に追加

工程(a)は、シリコン基板1上に絶縁膜2と拡散層3とを形成し、拡散層3の表面にゲート酸化膜を形成してパターンニングにより前記ゲート電極4を形成する。 - 特許庁

To provide a color cathode-ray tube equipped with a shadow mask capable of being formed with high definition and having sufficient mask curved- surface strength and providing good image quality, and a production process thereof.例文帳に追加

高精細化が可能であるとともに十分なマスク曲面強度を有したシャドウマスクを備え、画像品位の良好なカラー陰極線管およびその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

A palette 8, on which a cathode ray tube 10 is mounted, is made common and a panel surface 10a of the cathode ray tube 10 is directed downward to perform an aging/knocking treatment and a characteristic inspection within the same process.例文帳に追加

陰極線管10を載置するパレット8を共通にし、前記陰極線管10のパネル面10aを下向きにして同一の工程内でエージング及びノッキング処理と、特性検査を行う。 - 特許庁

The release film is used in a prepreg pressing process at the time of production of a conductive foil laminate and constituted by providing an antistatic layer on at least the single surface of a resin film.例文帳に追加

導体箔積層体製造時のプリプレグプレス工程において使用される離型フィルムであって、該離型フィルムが、樹脂フィルムの少なくとも片面に帯電防止層を有することを特徴とする。 - 特許庁

例文

To provide a developer carrying member having an electric hard plating layer free from an abnormal metal deposition part and having very accurate surface roughness, and prevented from causing a tailing phenomenon even in high-speed printing process.例文帳に追加

異常な金属析出部のない高い精度の表面粗さを持つ電気硬質メッキ層を有し、高速プリントプロセスでも尾引き現象を生じない現像剤担持部材を提供することにある。 - 特許庁




  
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