| 例文 |
surface processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9599件
The image forming device has a conveyance path for both-surface image formation, and a transfer material is carried to a transfer part at a normal process speed to transfer a toner image and further carried to a fixing unit to perform fixation (S1 to S6).例文帳に追加
両面画像形成の搬送経路を有し、通常のプロセススピードで転写材を転写部に搬送してトナー画像を転写し、さらに定着器まで搬送して定着を行なう(S1〜S6)。 - 特許庁
To provide an optical semiconductor device adaptable to surface mounting which suppresses the mounting area min. and can be manufactured at a low cost, without lowering reliability of the device or increasing the number of manufacturing process steps.例文帳に追加
実装面積を最小限に抑え、装置の信頼性を損なわず、生産工程を増加させることなく、しかも安価に作製することができる面実装対応型の光半導体装置を提供する。 - 特許庁
In the process of regulating the flow of air, an airflow regulation plate 21 arranged at a position facing the surface of the wafer W is rotated in the same direction as the rotational direction of the wafer W.例文帳に追加
また、上記の空気の流れを調整する工程では、ウエーハWの表面と向かい合う位置に配置された気流調整板21を、ウエーハWの回転方向と同じ方向に回転させる。 - 特許庁
On the subsequent process, the coarse particles screened from the vibration apparatus is transferred to a rinsing apparatus 5 (for example, a spiral classifier), clean water is supplied and the oil is floated up from the surface of the coarse particles.例文帳に追加
次の工程において、振動装置から篩い分けた粗粒分を濯ぎ装置(例えば、スパイラル分級機)5に移し、清浄水を供給して粗粒分表面から油分を浮き上がらせる。 - 特許庁
To provide a box for housing an electric appliance of a latch-lock type, wherein a box body can be installed closely to a wall surface or the like while waterproofing-process is not required between a door and a latch device.例文帳に追加
扉とラッチ装置との間に防水処理を施す必要がなく、箱本体を壁面等に密着設置することができるラッチ鎖錠式の電気機器収納用箱を提供する。 - 特許庁
After heating and cooking, the cooking machine 1 carries the cooked food W from the opening surface 58 for carry-away to the outside of the heating chamber 60 by the carrying means 71 and sends it out to the next process by a carry-away side roller conveyor 4.例文帳に追加
加熱調理後、調理機1は調理後の食品Wを搬出用開口面58から加熱室60外に搬送手段71で搬出し、搬出側ローラコンベヤ4で次工程に送り出す。 - 特許庁
To prevent occurrence of defective sounding and defect such as a short-circuit resulting from solder deposited on a yoke in a manufacture process in a small-size thin profile electromagnetic sounder of surface mount type.例文帳に追加
小型薄型の表面実装型等の電磁発音体において、その製造過程において半田がヨークに付着することによる発音不良、ショート等の不良の発生を防止することを課題とする。 - 特許庁
In a process in which the sun gear 1 is inserted between the planet gears, even if the edge of the cog in each planet gear and the sun gear 1 are abuts against each other, the sun gear 1 is inserted in partway by the action of the taper surface 11a.例文帳に追加
プラネットギヤの間にサンギヤ1が挿入される工程では、各プラネットギヤとサンギヤ1との歯先が互いに当接しても、テーパ面11aの作用でサンギヤ1は途中まで挿入される。 - 特許庁
To provide a process for producing a stretched thermoplastic polyester resin sheet, capable of stably producing the same that is flat and free of wrinkle-like irregularities on the surface.例文帳に追加
本発明は、表面にしわ状の凹凸のない平滑な延伸熱可塑性ポリエステル系樹脂シートを安定的に製造することができる延伸熱可塑性ポリエステル系樹脂シートの製造方法を提供する。 - 特許庁
While a base material 1 with grooves 4 formed at positions facing to each other is heated/extended, a wire 5 is embedded in the grooves 4 in process of extension or after the extension with a part of its circumferential surface projected outward.例文帳に追加
相対向する位置に溝4を形成した母材1を加熱・延伸しながら、線材5を、周面の一部が外方に突出した状態で、延伸途中又は延伸後の溝4に埋め込む。 - 特許庁
A preliminary process for forming a resin layer 35a by spin- coating a resin agent 35 before forming a support structure of an optical element on a surface 34a of a sacrifice layer 34 for forming an actuator 6 is provided.例文帳に追加
アクチュエータ6を形成するための犠牲層34の表面34aに光学素子のサポート構造を成形する前に、樹脂剤35をスピンコートして樹脂層35aを形成する準備工程を設ける。 - 特許庁
To provide a decorative body which suppresses a phenomenon of producing a fine split at an end part of a molded part made of a material constituting a designed surface and demonstrates good design effect and to provide its manufacturing process.例文帳に追加
意匠面を構成する材料からなる成形部分の端部にささくれが生じる事象を抑え、且つ良好な意匠的効果を発揮する装飾体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
This method treats the magnesium alloy sheet 1 through 'a combined process of pickling with a pickling liquid 3 such as a sulfuric acid solution and mechanical surface grinding with a rotating brush 4 or the like', as shown in fig. 1, for instance.例文帳に追加
例えば図1に示すように、マグネシウム合金板1に“硫酸水溶液等の酸洗液3による酸洗と回転ブラシ4等による機械的表面研削とを併用した処理”を施す。 - 特許庁
The process for producing the electrode of an electrochemical capacitor comprises a first step (S11) for forming an undercoat layer on a collector having a roughened surface, and a second step (S13) for forming a polarizable electrode layer on the undercoat layer.例文帳に追加
表面が粗面化された集電体上にアンダーコート層を形成する第1の工程(S11)と、アンダーコート層上に分極性電極層を形成する第2の工程(S13)とを備える。 - 特許庁
In one embodiment, segragations of at least one of Cu, Ni, Co, and Mo are formed on the surface of the sheet by controlling heat history in mainly hot rolling and annealing steps in the production process for the steel sheet.例文帳に追加
さらに鋼板の製造工程における主として熱延および焼鈍工程での熱履歴を制御することにより、鋼板表面にCu、Ni、Co、Moの濃化部を形成させる。 - 特許庁
During the steaming process, the rice container 8 is raised upwards so that it floats from the surface of the pot and the gelatinization is stimulated by vaporizing excessive water in a short time without burning at high temperature by high heating power.例文帳に追加
蒸らし工程では米収納容器8を鍋肌から浮かすように上方移動させ、高温高火力により焦がさず、短時間で余分の水分を蒸発させ、糊化を促進させる。 - 特許庁
Gas blow-out ports 63, 73 of the upper side introduction tube and/or side surface side introduction tube 7 can be provided closer to the substrate 10 than the gas blow-out port 53 of the process gas introduction tube 5.例文帳に追加
上面側導入管および/または側面側導入管7のガス噴出口63,73は、プロセスガス導入管5のガス噴出口53よりも基板10に近く設けることができる。 - 特許庁
The drop-shaped copper powder is directly obtained by a wet process without using a physical means, and has a drop-shape whose surface is provided with fine ruggedness.例文帳に追加
物理的手法を用いることなく湿式法で直接得られる銅粉であって、当該銅粉は、粉粒表面に微細な凹凸を備えるドロップ形状であることを特徴としたドロップ状銅粉を採用した。 - 特許庁
Since the thermally depolymerizable or decomposable film is thermally depolymerized and removed by firing in the sintering process, the film is easily and completely removed and thereby a ceramic substrate having the surface free from defects can be obtained.例文帳に追加
熱解重合可能/分解可能なフィルムは、焼結工程中に熱解重合し、燃焼し去るため、容易に完全に除去され、これにより表面に欠陥のないセラミック基板が得られる。 - 特許庁
During the process, wiring parts 51, 71, a substrate mount terminal 28 and an alignment mark 55 formed in a protruding region 25 are covered with a protective layer 90, while the surface of a driving IC 13 is exposed.例文帳に追加
その際、張り出し領域25に形成されている配線部分51、71、基板実装端子28、アライメントマーク55を保護層90で覆うが、駆動用IC13の表面は露出させておく。 - 特許庁
In addition, as to the axial direction wall surface 4c1, variations of machining allowances are made small by performing grinding process or hardened steel cutting operation, after the heat treatment (carburizing and quenching, and tempering) of the cage 4.例文帳に追加
さらに、軸方向壁面4c1については、該保持器4の熱処理(浸炭焼入れ焼戻し)後に、研削又は焼入れ鋼切削等を行って、加工代のバラツキが小さくなるようにしている。 - 特許庁
At the completion of a construction process of the earth retaining wall 10, each geothermal heat exchange pipe unit 20 is embedded in the earth retaining wall 10 in a state of its end openings 21 being exposed to the ground surface GL.例文帳に追加
土留壁10の構築工程完了時には地熱熱交換パイプユニット20がその端部開口21を地表面GLに向けて露出させた状態で土留壁10に埋設される。 - 特許庁
In a fitting process, a fitting auxiliary-material 81 and the rotary shaft 30 are housed in a barrel 80 and fitted by rotation to make PTFE adhere strongly to the surface of the rotary shaft 30.例文帳に追加
擦り合わせ工程では、擦り合わせ補助材81と回転軸30とをバレル80に収納し、回転させて両者を擦り合わせ、回転軸30の表面のPTFEを強固に付着させる。 - 特許庁
The bladder 1 is used in a process of manufacturing a tire and provided with a skeleton member formed by a shape memory alloy 10 and the outer surface of the skeleton member is coated by a rubber material 11.例文帳に追加
タイヤ製造工程で使用されるブラダ1であって、形状記憶合金10により形成される骨格部分を備え、この骨格部分の外表面がゴム素材11により被覆される。 - 特許庁
The slice pieces are thus heated to make the temperature of the inside thereof is higher than that of the surface, and animal collagen which is gelatinized in the inside heating process is seized and held inside the slice pieces.例文帳に追加
このようにして、スライス片は表面部よりもが内部が高い温度に加熱されることになり、この内部加熱工程においてはゼラチン化した動物性コラーゲンはスライス片の内部に捕捉される。 - 特許庁
To provide an adhesive tape for processing wafer which is laminated on the wafer surface in order to protect the luminous layer or the circuit surface and to allow for grinding the backside of the wafer to a predetermined finish thickness with no problem, in a process of grinding the backside of a brittle wafer, especially a sapphire wafer.例文帳に追加
本発明は、脆性ウェハ、特にサファイアウェハの裏面を研削する工程において、該ウェハ表面に貼合することにより発光層や回路面を保護するとともに、該ウェハの裏面を所定の仕上げ厚さまで問題なく研削することを可能とする、ウェハ加工用粘着テープを提供する。 - 特許庁
The two fluids which have the gas and the liquids are supplied from the two-fluid nozzle 21 throughout along the substrate width of the surface, which crosses in the substrate conveyance direction, and the processing liquid of the last process which still remains on the substrate front surface is removed.例文帳に追加
そして、このリンス液が供給された後の基板Wの表面に対して、2流体ノズル21から、基板搬送方向に交差する基板幅の全域に亘って、気体と液体とからなる2流体を供給して、基板表面になお残存する前工程の処理液を除去する。 - 特許庁
In this case, the discharge of a global warming gas in the inner surface treatment process S10 for the quartz tube 10 is suppressed since the inner surface 10a of the quartz tube 10 is treated with the chlorine while heating the quartz tube 10 to ≥1,800°C without using a global warming gas.例文帳に追加
この場合、地球温暖化ガスを使用せずに、1800℃以上に石英管10を加熱することで塩素により石英管10の内面10aを処理しているので、石英管10の内面処理工程S10で知勇温暖化ガスの排出が抑制される。 - 特許庁
In a plastic container having a thin film formed on the surface through a plasma CVD process, a carbon film (1) is formed as a first layer on the surface of a plastic base material (4) and a silicon oxide film (2) is formed on the first layer as a second layer.例文帳に追加
プラズマCVD法により、容器表面に薄膜が形成されたプラスチック容器において、プラスチック基材(4)表面に第1層として炭素膜(1)が形成され、その上に第2層として酸化ケイ素膜(2)が形成されていることを特徴とする薄膜被覆されたプラスチック容器である。 - 特許庁
To improve productivity of a ridge type optical waveguide, to improve the stability of its optical characteristics and the stability of its shape, to prevent a process degenerating layer on the surface of the optical waveguide, and to control the angle of the flank of the ridge type optical waveguide to the main surface of a substrate.例文帳に追加
リッジ型光導波路の生産性を向上させ、その光学特性の安定性と形状の安定性とを向上させ、光導波路の表面の加工変質層を防止し、基板の主面に対するリッジ型光導波路の側面の角度を制御すること。 - 特許庁
In the manufacturing process of toasted and seasoned laver, a seasoning liquid 2a containing soy sauce and sugar is applied on one surface side 1a of the laver 1 moving on a transferring means, and a seasoning liquid 2b containing no soy sauce nor sugar is applied on the other surface side 1b.例文帳に追加
味付け海苔の製造工程において、搬送手段(A)上を移動する海苔(1)の片面(1a)に、醤油や砂糖を含む調味液(2a)を塗布し、他の面(1b)に醤油や砂糖を含まない調味液(2b)を塗布することを特徴とする味付け海苔の製造方法。 - 特許庁
In addition, a second vertical hole 36 with a larger diameter than the first vertical hole 30 is excavated through a second excavation process where the second vertical hole 36 is excavated from an upper side of the boundary surface 34 between the contaminated layer 20 and an upper layer 18 thereof to the lower side of the boundary surface 28 between the contaminated layer 20 and the impermeable layer 22.例文帳に追加
次に、第2掘削工程により、汚染層20と汚染層20の上層18との境界面34の上方から、汚染層20と不透水層22との境界面28の下方まで、第1縦穴30より大径の第2縦穴36が掘削される。 - 特許庁
To provide a fixing device capable of controlling the surface temperature of a heating member highly accurately by reducing variation in the surface temperature of the heating member regardless of the type of a recording medium subjected to a fixing process, image density, and so on, and to provide an image forming apparatus using the fixing device.例文帳に追加
定着処理を行う記録媒体の種類や画像密度等によらずに、加熱部材の表面温度にバラツキが発生するのを抑制し、当該加熱部材の表面温度を高い精度で制御することが可能な定着装置及びこれを用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method for continuous molding and a mold which allow preventing the occurrence of restrictive breaking out accidents even when the content of gas components such as hydrogen gas contained during the process of steel being melted is high, to obtain mold pieces with good surface quality free from bubble-like faults occurring on their surface portions.例文帳に追加
溶鋼中に含有される水素ガスなどのガス成分の含有率が高い場合にも、拘束性ブレークアウトの事故の発生を防止でき、表層部に気泡性欠陥の発生のない表面品質の良好な鋳片を得ることができる鋼の連続鋳造方法および鋳型の提供。 - 特許庁
To reduce threading dislocation density and surface roughness, and prevent roughness of a surface and an interface from being deteriorated in the case of heat treatment in a device manufacturing process or the like, in the method for a semiconductor substrate, the method for manufacturing a field effect transistor, a semiconductor substrate and a field effect transistor.例文帳に追加
半導体基板の製造方法及び電界効果型トランジスタの製造方法並びに半導体基板及び電界効果型トランジスタにおいて、貫通転位密度が低く、表面ラフネスが小さいと共に、デバイス製造工程等の熱処理時における表面や界面のラフネスの悪化を防ぐこと。 - 特許庁
The method of manufacturing the element has a process of printing an aqueous solution or aqueous dispersion having, for example, an electronic functional substance, such as the conductive polymer, such as PEDOT-PSS, and a surface tension-lowering agent, on the hydrophobic surface formed by, for example, a ferroelectric high-polymer layer.例文帳に追加
例えば、PEDOT−PSSなどの導電性高分子などの電子機能物質と、表面張力低下剤とを有する水溶液又は水分散液を、例えば強誘電高分子層によって形成される疎水性表面上に印刷する工程を有する、素子の製造方法である。 - 特許庁
In a process of the injection, a medical nursing staff pushes an injection needle 45 after the injection with the end portion of a plunger 20 to advance a piston 31 of a driving component and simultaneously thereto a cut surface 231 of the end portion and a cut surface 412 of a needle seat mutually receive a pressure to become a separated state.例文帳に追加
注射の過程において、医療看護人員は注射後の注射針45を、プランジャー20の端部分で押して駆動部品のピストン31を前進させると同時に、端部分の切断面231と針座の切断面412が相互に圧力を受け、離脱状態になる。 - 特許庁
Consequently, in a partition wall obtained after a development process, area on the side facing a second substrate of the partition wall is larger than area of the contact surface in which the opposite surface and the partition wall of the first substrate 18 are made in contact with each other and the adverse effect of the partition wall exerted on the display is reduced.例文帳に追加
したがって、現像工程後に得られる隔壁は、第一基板18の対向面と隔壁とが接触する接触面の面積よりも隔壁の第二基板と対向する側の面の面積の方が大きく、表示に及ぼす隔壁の悪影響を低減できる。 - 特許庁
In the separating process of the electrocast portion 4 from a master 10, the master 10 is drawn off in such a direction that the shaping part 12 passes the separation surface 15 of the portion 4 from the master 10, whereby a projection 12a on the shaping part 12 deforms part of the separation surface 15 of the electrocast portion 4 plastically.例文帳に追加
電鋳部4とマスター10との分離工程において、マスター10を、電鋳部4のマスター10との分離面15を成形部12が通過する向きに引き抜くことで、成形部12の突起部12aが電鋳部4の分離面15の一部を塑性変形させる。 - 特許庁
In a wrapping process to thermally bond a wrapping sheet 2 to the surface of a material 1 to be wrapped, cool air is blown to the wrapping sheet 2 bonded to recesses 7, 8 in the surface of the material 1 to quench the wrapping sheet 2, with the help of a superlow temperature air generators 4, 4, immediately after the bonding of the wrapping sheet 2.例文帳に追加
被ラッピング材(1)の表面に、ラッピングシート(2)を加熱しながら貼り合わせるラッピング工程において、ラッピングシート(2)の貼り合わせ直後に、超低温空気発生器(4)(4)を用いて、被ラッピング材(1)の表面凹部(7)(8)に接着したラッピングシート(2)に対して冷気を当てて急冷する。 - 特許庁
In a through-hole boring process of boring a through-hole in a copper-plated board having two or more copper layers with a UV laser beam, the backup sheet is arranged on the surface of the outermost copper layer of the copper-plated board opposed to its other surface which is irradiated with a laser beam, and composed of a metal foil and a resin layer formed on the foil.例文帳に追加
UVレーザーを使用する、少なくとも2層以上の銅の層を有する銅張板の貫通孔あけ加工において、レーザーが照射される銅張板の面とは反対側の最外層銅層面に配置するバックアップシートが、金属箔に樹脂層が形成されているシートである。 - 特許庁
A detection rate is calculated in every of the defects based on whether the same defect is detected in a plurality of differential images or not, based on a result in a process for detecting the defect on a surface of the silicon wafer, and the shape of the defect is identified in the every defect on the surface of the silicon wafer, according to the detection rate.例文帳に追加
シリコンウエハ表面上の欠陥を検出する工程の結果から、同一の欠陥が複数の差分画像から検出されたかにより欠陥毎に検出率を算出し、前記検出率に従って前記シリコンウエハ表面上の欠陥毎に該欠陥の形状を識別する。 - 特許庁
Consequently, at the process until the cutting cutter 15 reaches the recessed surface part 6b of the female mold 6b, the movement of the cutting cutter 15 is not disturbed by the portion of the basic pattern pad 20 projecting toward the flat surface part 6a of the female mold 6, and also, the track of the cutting cutter 15 is not vibrated during cutting.例文帳に追加
このため、切断カッター15が雌型6の凹面部6bに達するまでの過程で、切断カッター15の動きが雌型6の平坦面部6aにはみ出た原型パッド20の部分に邪魔されることもなく、切断カッター15の切断時の軌道が振れ動くこともなくなる。 - 特許庁
Thereafter, the surface of the insulating film is irradiated with reactive plasma having an action of chemically etching the insulating film, and the surface of the insulating film irradiated with the plasma is irradiated with inert gas ion for sputter etching to process a cross section of the connection hole into a forward tapered shape.例文帳に追加
その後、絶縁膜の表面に、絶縁膜を化学的にエッチングする作用を有する反応性プラズマを照射し、プラズマが照射された絶縁膜の表面に不活性ガスのイオンを照射してスパッタエッチングすることにより、接続孔の断面を順テーパーに加工する。 - 特許庁
A manufacturing method for a plastic optical member includes a process of forming a resin layer containing at least a polymer on a surface of a plastic molded body, by spraying polymer droplets containing heated and melted fluorine by an inert gas heated more than a melting temperature on a surface of the optical member.例文帳に追加
プラスチック光学部材の表面に、加熱溶融したフッ素を含むポリマーの液滴を溶融温度以上に加熱した不活性ガスで噴霧し、前記プラスチック成形体の表面に前記ポリマーを少なくとも含有する樹脂層を形成する工程を含むプラスチック光学部材の製造方法である。 - 特許庁
To effectively weaken the electrostatic adherence between a carrier adhering to a photoreceptor surface and the photoreceptor surface and to enhance carrier collecting efficiency, with respect to an image forming apparatus for forming an image by an electrophotographic process using a two-component developer comprising a toner and carrier.例文帳に追加
トナーとキャリアを含むいわゆる二成分現像剤を用いて電子写真方式によって画像を形成する画像形成装置に関し、感光体表面に付着したキャリアと感光体表面の静電付着力を効果的に弱め、キャリアの捕集効率を高める。 - 特許庁
In a first process, by irradiating electron beam to the surface of a group III-V compound semiconductor substrate 1 in vacuum, a natural oxide film 2 on the surface of the substrate 1 is replaced with group III oxide 3 which is chemically stable, forming a reformed mask part 3 periodically.例文帳に追加
第1工程では、真空中でIII−V族化合物半導体基板1の表面に電子ビームを照射することにより、当該基板1の表面の自然酸化膜2を化学的に安定なIII族酸化物3に置換させ、改質マスク部3を周期的に形成する。 - 特許庁
The process for producing the surface treated silica particles includes a step of providing plasma treatment to the surface of silica particles and a step of mixing 30-40 pts.mass compound including an epoxy resin and a curing agent with 100 pts.mass plasma-treated silica particles.例文帳に追加
シリカ粒子の表面にプラズマ処理を施す工程と、前記プラズマ処理が施されたシリカ粒子100質量部に対して、エポキシ樹脂及び硬化剤を含む配合物30〜40質量部を混合する工程とを備えることを特徴とする表面処理シリカ粒子の製造方法を用いる。 - 特許庁
By such improvement processes, the optical template can immediately reinforce pigment adhesion force to its surface when it passes through the process for lowering the contact angle on its surface, the graphic printed on the optical template is not easily removed and graphic printing with high quality is performed.例文帳に追加
この改良工程により、光学型板は、その表面の接触角の低下させる工程を経ると、直ちにその表面に対する顔料付着力を増強することができ、光学型板の上に印刷された図形を簡単に除去されるなく、品質の高い図形印刷ができる。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a membrane electrode assembly which can offer the high-performance membrane electrode assembly by ensuring good contact state on a laminated surface between an electrolyte film and catalyst film without the need for a softening process with heating on the top surface of the electrolyte film.例文帳に追加
電解質膜の表面に対して加熱による軟化処理を行うことなく、電解質膜と触媒層との積層面における良好な接触状態を確保し、高性能の膜電極接合体を得ることを可能とする膜電極接合体の製造方法を提供すること。 - 特許庁
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