「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(114ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent a producing trouble in a process from occurring and to perfectly prevent adverse influence to the image quality performance of a 35 mm photographic film to be used while calligraphic characteristic is excellent by quantitatively specifying the surface roughness of the outside peripheral surface of a 135 type film cartridge.例文帳に追加

１３５型フィルムパトローネの外筒表面の表面粗さＲａを定量的に規定することにより、筆記性に優れ、工程上での生産トラブルの発生が無く、且つ、使用する３５ｍｍ写真フィルムの画像品質性能への悪影響を全く与えないようにする。 - 特許庁

To provide a fluid dynamic pressure bearing and a forming method for a dynamic pressure generating groove, which contribute to the enhancement of productivity and process performance because the dynamic pressure generating groove can be excellently and quickly formed in the thrust bearing surface or the radial bearing surface of the fluid dynamic pressure bearing by means of a laser processing method.例文帳に追加

レーザ加工法により、流体動圧軸受のスラスト軸受面またはラジアル軸受面に動圧発生溝を迅速かつ良好に形成することができ、生産性の向上、加工性能の向上に寄与する、流体動圧軸受及び動圧発生溝の形成方法を提供する。 - 特許庁

The washing method of an electrophotographic type electrifying member electrifying a body to be electrified by being pressed to the surface of the body to be electrified, is characterized in that it contains a process to wash the surface of the electrifying member at least more than once by acidic water solution.例文帳に追加

被帯電体表面に押圧させて前記被帯電体を帯電させる電子写真方式の帯電部材の洗浄方法であって、前記帯電部材の表面を、少なくとも１回以上、酸性水溶液で洗浄する工程を含むことを特徴とする帯電部材の洗浄方法。 - 特許庁

A gas passage 50 is formed between the outer peripheral surface 12b of the electrode 11 of the inner electrode structure 10 and the inner peripheral surface 22b of the electrode 21 of the outer electrode structure 20, and a process gas flowing through the gas passage 50 is ionized into plasma by an electric field applied across the electrodes 11 and 21.例文帳に追加

内側電極構造１０の電極１１の外周面１２ｂと外側電極構造２０の電極２１の内周面２２ｂとの間にガス通路５０が形成され、電極１１，２１間に印加される電界により、ガス通路を流れる処理ガスをプラズマ化する。 - 特許庁

To provide a protecting film of a lens preventing adhesion of chips of the protecting film onto the surface of the lens and improving working efficiency, process yields and quality when the lens with the surface covered with the protecting film is processed in a lens shape, and a manufacturing method of the protecting film of the lens.例文帳に追加

表面を保護膜で被覆した被加工レンズを玉型形状に加工する際に、保護膜の切り子がレンズの表面に付着することを防止し、作業性、歩留まり、及び品質を向上させることができるレンズ保護膜とレンズ保護膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method for fabricating the diamond substrate, an SiC layer is formed on the lower surface of a diamond film layer for preventing the diamond film layer from being deformed in the process of forming the diamond substrate, and then a semiconductor layer is formed on the diamond film layer or directly formed on the lower surface of the SiC layer.例文帳に追加

ダイヤモンド基板を形成する工程でダイヤモンド・フィルム層の変形を防止するためダイヤモンド・フィルム層の下部表面にＳｉＣ層が形成され、次に半導体層がダイヤモンド・フィルム層の上に形成されるか、またはＳｉＣ層の下部表面に直接形成される。 - 特許庁

In the method for manufacturing the substrate for an information recording medium including a process of polishing the surface of the substrate for an information recording medium, the surface of a glass magnetic disk substrate 1 as the substrate for an information recording medium is polished in the environment prepared by controlling the humidity in the polishing room to ≥65%.例文帳に追加

情報記録媒体用基板の表面を研磨する工程を含む情報記録媒体用基板の製造方法において、研磨加工室の湿度を６５％以上とした環境下で情報記録媒体用基板であるガラス磁気ディスク基板１の表面を研磨するようにした。 - 特許庁

The buried repellent-mixed soil 54 is pressed by a rolling compaction roller 2 rotating and moving on the surface of the levee 51 in the process of the groove-forming machine 1 traveling in the arrow direction X and the surface of the levee 51 flatly leveled by allowing the position risen by the repellent-mixed soil 54 to be pressed.例文帳に追加

埋め戻された忌避剤混合土５４は、作溝機１を矢印Ｘ方向へ進行させる過程で畔地５１表面で転動する転圧ローラ２により押圧され、忌避剤混合土５４の盛り上がりが押し潰されて畔地５１表面がほぼ平坦に整地される。 - 特許庁

In this method for manufacturing the flexible printed circuit board, a process in which the flexible printed circuit board drilling sheet is arranged on an upper part of the flexible printed circuit board so that a thermoplastic resin film surface may be an upper surface and drilling is performed by a drill from an upper side is included.例文帳に追加

また、本発明は、フレキシブルプリント配線板の上部に、上記フレキシブルプリント配線板穴あけ加工用シートを熱可塑性樹脂フィルム面が上面となるように配置し、上方よりドリルによって穴あけをする工程を含む、フレキシブルプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a scanning probe microscope capable of rapidly performing measurement of high precision by causing no fine change of potential in the surface fine region of a sample by properly holding the potential difference between the surface of the sample and a probe when the sample due to the probe is measured in an inspection process.例文帳に追加

検査工程での探針による試料測定時に試料の表面と探針との間の電位差を適切に保ち、試料表面の微細領域での微細な電位変化を生じさせず、迅速にかつ高い精度の測定を行うことができる走査型プローブ顕微鏡を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having high surface hardness, high wear and scuffing resistances and retaining stable electrophotographic characteristics even at high temperature and high humidity in repetitive use because it has a surface layer as a coating film having considerably improved homogeneity and precision to uniform film thickness and to provide a process cartridge with the photoreceptor and an image forming device.例文帳に追加

表面硬度が高く、耐摩耗性、耐傷性が高く、繰り返し使用時の電子写真特性が高温高湿下でも安定で、しかも塗膜の均質性、均一膜厚性に対する精度が格段に改善された表面層を有する電子写真感光体を提供すること。 - 特許庁

For the production of this surface-treated copper foil, there is employed, for example, a process comprising subjecting a glossy surface of copper foil to electrolysis in a black cobalt plating solution containing cobalt sulfate (heptahydrate) at a current density of 2A/dm^2 or higher so as to form a rustproof treated layer and thereafter carrying out water washing and drying.例文帳に追加

また、当該表面処理銅箔の製造は、銅箔の光沢面上に、硫酸コバルト（７水和物）を含む黒色コバルトメッキ液を用いて、２Ａ／ｄｍ^２以上の電流密度で電解し、防錆処理層を形成し、水洗し、乾燥する手法等を採用する。 - 特許庁

A projection part formation step for forming a projection part on a rear side face of the substrate, and an electron element forming step for forming the electron element on the surface of the substrate while the substrate is supported by the projection part are included in a process for forming the semiconductor device, in which the electron element is formed on the surface of the substrate.例文帳に追加

基板の表面上に電子素子が設けられた半導体装置を製造する工程中に、基板の裏面側に凸部を形成する凸部形成ステップと、凸部により基板を支持した状態で、基板の表面上に電子素子を形成する電子素子形成ステップとを設けた。 - 特許庁

A process for forming an electric conductor pattern on a surface of a glass plate is provided which comprises forming a pattern of the toner on the surface of the glass plate by an electronic printing system using the developer for electronic printing, and heating the glass plate to a predetermined temperature to convert the pattern of the toner by firing to a pattern of an electric conductor.例文帳に追加

該電子印刷用現像剤を使用し、ガラス板面に電子印刷方式で該トナーからなるパターンを形成した後、ガラス板を所定温度に加熱することにより前記トナーパターンを焼成して導電体パターンに変換する導電体パターンをガラス板面に形成する方法。 - 特許庁

To provide a set for manufacturing a water-based dispersing element for chemical-mechanical polishing which suppresses surface defects such as dishing, erosion, and scratches in a process of flattening a polished surface by chemical-mechanical polishing, and which excels in long-time stability even in a concentrated state.例文帳に追加

化学機械研磨による被研磨面の平坦化工程においてディッシング、エロージョンないしスクラッチをはじめとした表面欠陥が抑えられ、かつ、濃縮状態においても長期安定性に優れる化学機械研磨用水系分散体を調製するためのセットを提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of two-component developer for suppressing creation of a bound substance of a water molecule and a discharge product generated on the surface of a photoreceptor through an image formation process, and producing a resin coat carrier that stably maintains charging characteristics of the surface of a photoreceptor for a long period.例文帳に追加

画像形成により感光体表面に発生する放電生成物と水分子の結合物の生成を抑えて、感光体表面の帯電性を長期にわたり安定維持させる樹脂コートキャリアを作製する二成分現像剤の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a set for adjusting a water-based dispersing element for chemical-mechanical polishing which can suppress surface defects such as dishing, erosion, and scratches in a process of flattening a polished surface by chemical-mechanical polishing, and which excels in long-time stability even in a concentrated state.例文帳に追加

化学機械研磨による被研磨面の平坦化工程においてディッシング、エロージョンないしスクラッチをはじめとした表面欠陥が抑えられ、かつ、濃縮状態においても長期安定性に優れる化学機械研磨用水系分散体を調製するためのセットを提供すること - 特許庁

The plated copper alloy material can be manufactured by forming a Ni-plated layer on the surface of the copper alloy base material, then forming a Sn-plated layer and thereafter executing a reflow treatment or a heating process or by forming the Ni-plated layer on the surface of the copper alloy base material and thereafter executing melted Sn plating on top of it.例文帳に追加

銅合金基材の表面にＮｉめっき層を形成し、続いてＳｎめっき層を形成した後、リフロー処理又は加熱処理を行うか、銅合金基材の表面にＮｉめっき層を形成した後、その上に溶融Ｓｎめっきを行うことにより製造できる。 - 特許庁

The surfaces of super-abrasive grains 1 are covered with metal covering layers 11 consisting of copper, and a chemical agent such as Mech-Etch Bond (trade mark) is applied to the surface of each covering layer 11 followed by a chemical etching process so that a surface is formed where a number of micro-projections 11a remain.例文帳に追加

超砥粒１の表面を銅からなる金属被覆層１１で被覆し、金属被覆層１１の表面にメックエッチボンド（商標）等の薬剤を塗布して化学的にエッチング処理し、多数の微細な突起１１ａ…の残存した表面を形成して金属被覆砥粒１０を構成する。 - 特許庁

To provide a molded article 20 of a fiber reinforced plastic being excellent in mechanical characteristics of strength, rigidity, etc., and electromagnetic wave shielding characteristics and applicable also to a smooth surface decorating process such as high-brightness coating and having an outward appearance of the smooth surface free of indentation and exposure of fibers, and also provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

強度・剛性等の機械特性、電磁波遮蔽特性に優れ、かつ高輝度塗装等の滑らかな表面加飾工程にも適用可能な、凹凸や繊維露出のない平滑な表面外観を備えた繊維強化プラスチック製成形品２０と、その製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for the heat treatment of a parent material for optical fibers that can remove ununiformity due to scratches, unevenness and contaminants on the surface of the parent material as well as the residual strain inside the parent material and the cloudiness caused by glass fine particles sticking to the surface on the parent material.例文帳に追加

光ファイバ母材表面の傷、凹凸、不純異物による不均一性の除去、光ファイバ母材内部の残留歪みの除去、および母材表面に付着したガラス微粒子による曇りの除去ができる、光ファイバ母材の熱処理方法を提供する。 - 特許庁

According to such configuration, the surface treatment is performed by regulating the respective electric constants between the respective surfaces to be treated of the member to be treated and the corresponding electrodes so as to make the constants approximately equal to each other and therefore the respective surfaces to be treated can be subjected to the uniform surface treatment by the one process.例文帳に追加

かかる構成によれば、被処理部材の処理すべき各面と対応する電極間の各電気定数が略同等になるように調整して表面処理を行うので、１のプロセスで各被処理面に対して均一な表面処理を施すことが可能となる。 - 特許庁

Each process unit 16 detached from the main body casing 2 can be stably placed in a vertical state by having a first contact portion 48a brought into contact with an installation surface and can be stably placed in a horizontal state by having second contact portions 48b and 39 brought into contact with the installation surface.例文帳に追加

また、本体ケーシング２から取り外された各プロセスユニット１６は、第１当接部４８ａを載置面に当接させることにより縦置きの状態で安定して載置でき、第２当接部４８ｂおよび３９を載置面に当接させることにより横置きの状態で安定して載置することができる。 - 特許庁

In the lighting inspection process 17 of carrying out this aging, while heating the light-emitting tube in the heating furnace so that the surface lowest temperature of the light-emitting tube becomes more than 180°C, the light-emitting tube is detained in the heating furnace for a required period of time according to the surface lowest temperature.例文帳に追加

このエージングをする点灯検査工程１７で、発光管の表面最低温度が１８０℃を超える温度となるように発光管を加熱炉で加熱しながら、表面最低温度に応じて定められた所要時間の間発光管を加熱炉に滞在させる。 - 特許庁

When a solid sample 1 having a rough on its surface is subjected to a lithography processing, the incident light 2 is inclined within the range of 10° to 60° relative to the normal direction of a substrate surface of the solid sample 1 for exposure, in an exposure process in which a resist is applied for patterning.例文帳に追加

表面に凹凸のある立体サンプル１にリソグラフィー加工を行う際に、レジストを塗布してパターニングを行う露光工程において、入射光２を立体サンプル１の基板面の法線方向に対して、１０°以上６０°以下の範囲で傾斜させて露光する。 - 特許庁

To disclose a manufacturing method by which, even if a defect 8 in material is present in the rear surface 7 of a veneer laminate 1, a smooth-surfaced composite base material 10 can be obtained that has no transfer trace remaining on the surface of a composite body 4b located beneath the defect 8 in the manufacturing process.例文帳に追加

単板積層板１の乙板（裏面）７に材料欠点８が存在する場合であっても、製造過程において下位に位置する複合体４ｂの表面にその転写痕が残らない表面が平滑な複合基材１０を得ることができる製造方法を開示する。 - 特許庁

To provide a thin film surface acoustic wave device for preventing the damage of a board circuit by a surface acoustic wave element forming process and reducing variation in a parasitic capacity, and to provide a method for manufacturing the device, and a hybrid integrated circuit device.例文帳に追加

弾性表面波素子の形成プロセスによる基板回路の損傷を防止するとともに、寄生容量のばらつきを低減することのできる薄膜弾性表面波デバイス、薄膜弾性表面波デバイスの製造方法及びハイブリッド集積回路装置を提供する。 - 特許庁

In the paddle development process of a rectangular substrate, a plurality of developer flowing-out tubes are provided, the plurality of developer flowing-out tubes are displaced so as to scan sharing a rectangular substrate surface equally and the time difference necessary for placing a developer on the substrate surface is reduced as much as possible.例文帳に追加

長方形の基板のパドル現像工程において、複数の現像液流出管を設け、該複数の現像液流出管が長方形の基板表面を均等に分担して走査するように移動させ、基板表面に現像液を載置するのに要する時間差を極力少なくする。 - 特許庁

To provide a hole processing method capable of shortening the process for processing a hole and stabilizing the drill locating accuracy even in case the elevating/sinking direction of a drill for processing the hole is not perpendicular but aslant to the processing surface of a work to be processed or in case the processing surface is a curved.例文帳に追加

穴加工をするためのドリルの昇降方向と加工対象物の加工面とが垂直状態でなく傾斜していたり加工面が曲面状態の場合であっても、穴の加工工程の短縮及びドリルの位置決め精度の安定化が図れる穴の加工方法の提供。 - 特許庁

A work piece 15 is placed on a lower electrode 3 with a dielectric body 42 in between down with the surface on which a circuit pattern is formed, and plasma is generated in a vacuum chamber 1 to which the lower electrode 3 is provided, so that a stress layer on the surface on which a mechanical grinding process is performed is etched to remove.例文帳に追加

回路パターンの形成面を下面にして誘電体４２を介在させてワーク１５を下部電極部３上に載置し、下部電極部３が設けられた真空チャンバ１内にプラズマを発生させることにより、機械研削処理が施された表面のストレス層をエッチングして除去する。 - 特許庁

In this manufacturing method, the polishing cloth is manufactured by heating and drying the substrate after impregnating the substrate in resin solution, and a pressurization processing of at least a surface side (a side to be a polishing surface) of the substrate is performed by using flat-plate shaped press members 2 and 3, for instance, after the heating and drying (process S10).例文帳に追加

その製造方法では、基材を、樹脂溶液に含浸した後、加熱乾燥して研磨布を製造するが、加熱乾燥後に、基材の少なくとも表面側（研磨面となる側）を、例えば、平板状のプレス部材２，３を用いて加圧処理（工程Ｓ１０）する。 - 特許庁

To form an excellent image without causing faulty transfer around a rising part on the surface of an image forming article and other evils even when obtaining the image forming article having the rising part on its surface, which is good in design and the feel of touch, as the output object of an image forming apparatus by an electrophotographic process.例文帳に追加

電子写真プロセスによる画像形成装置の出力物として、デザイン性及び触感性に優れた、表面に隆起部のある画像形成品を得る際にも、隆起部周辺における転写不良や、その他弊害を発生させず、良好な画像を形成することを目的としている。 - 特許庁

To provide a method of surface treatment by which an antiglare layer is formed with a short processing time without necessitating a complicated process, an apparatus for plasma discharge treatment, an antiglare film and an antiglare low reflection film formed by the method of surface treatment and the apparatus for plasma discharge treatment.例文帳に追加

処理時間が短い煩雑な工程を必要としない防眩性を有する層を生成する表面処理方法、及びプラズマ放電処理装置、また、これら表面処理方法及びプラズマ放電処理装置により形成された防眩性フィルム及び防眩性低反射フィルムの提供。 - 特許庁

Plating process is performed to form plating on a material surface of an un-mask part 1b after supplying ink 12 containing fluororesin to an outer circumference surface 2a1 of material 2a' of a shaft member and forming a masking pattern 1 corresponding to a shape of a dynamic pressure generation part by an aggregate of minute ink.例文帳に追加

軸部材の素材２ａ’の外周面２ａ１に、フッ素樹脂を含有したインク１２を供給して、微量インクの集合体で動圧発生部の形状に対応したマスキングパターン１を形成した後、めっき処理を行い、非マスク部１ｂの素材表面にめっきを形成する。 - 特許庁

Then, the lubricant coating means and the substance supply means are controlled so that the surface of the image carrier may be coated with the lubricant and the substance may be supplied to the surface of the image carrier by the time image forming operation is started after exchanging the process cartridge for the new one.例文帳に追加

そして、上記プロセスカートリッジを新品に交換した後、画像形成動作が開始されるまでに、上記像担持体表面へ潤滑剤を塗布し、また、該物質を上記像担持体表面に供給するように、上記潤滑剤塗布手段と、該物質供給手段とを制御する。 - 特許庁

After a treatment including a process for making chemical or abrasive liquid function is performed for the surface of a substrate, the substrate is rotated and rinse treatment for removing chemical or contaminant from the surface is applied by means of substrate rinse liquid consisting of ultra-pure water comprising chelating agent of free acid or ammonium salt.例文帳に追加

基板の表面に薬液乃至砥液を作用させる工程を含む処理を行なった後、該基板を回転させその表面から薬液及び汚染を除去するリンス処理を遊離酸又はアンモニウム塩のキレート剤を含む超純水からなる基板用リンス液によって行なう。 - 特許庁

A toner image being a mirror image is formed on a transparent substrate by an electrophotographic process using a toner produced by a wet method and containing wax or a wax-containing toner having the wax substantially not exposing on the particle surface, and a light reflector is stuck on the image carrying surface of the transparent substrate.例文帳に追加

湿式法により製造されワックスを含有するトナー又は粒子表面にワックスが実質的に露出しないワックス含有トナーを用いて電子写真法により鏡像のトナー像を透明基体上に形成し、透明基体の像担持体面に光反射体を貼り合わせる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a substrate for a semiconductor integrated circuit which can suppress surface defects such as dishing by progressing polishing at a sufficient polishing speed, in a planarizing process of a polishing target surface by chemical mechanical polishing, and can sufficiently suppress cost in actual usage.例文帳に追加

化学機械研磨による被研磨面の平坦化工程において十分な研磨速度で研磨進行し、ディッシング等の表面欠陥が抑えられ、現実の使用においてもコストを十分に抑える事が出来る半導体集積回路用基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The process for fabricating a nitride-based semiconductor laser element comprises a step for etching the backside (nitrogen surface) of an n-type GaN substrate 1 having wurtzite structure by RIE, and a step for forming an n-side electrode 8 on the backside (nitrogen surface) of the etched n-type GaN substrate 1.例文帳に追加

この窒化物系半導体レーザ素子の製造方法は、ウルツ鉱構造を有するｎ型ＧａＮ基板１の裏面（窒素面）をＲＩＥ法によりエッチングする工程と、その後、エッチングされたｎ型ＧａＮ基板１の裏面（窒素面）上に、ｎ側電極８を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

To provide a method for treating the surface of inorganic powder, by which the surface-treated inorganic powder having good compatibility with non-reactive silicone oils and not having problems such as nasty smells can easily be produced in a simple process.例文帳に追加

無機粉体が分散された水性懸濁液に加水分解性基を有する有機ケイ素化合物を添加することにより該水性懸濁液中で加水分解された前記化合物の加水分解物が前記無機粉体の表面を被覆してなることを特徴とする表面処理無機粉体。 - 特許庁

To provide rolled newsprint paper having high surface peeling strength (pitch breakage) capable of reducing the generation of surface peeling due to an adhesive material in a print process in a rotary press with a steel belt in spite of its main raw material of a recycled pulp.例文帳に追加

古紙パルプを主原料とした新聞用巻取紙であるにもかかわらず、表面の剥離強度が強く、スチールベルトを有する輪転機での印刷時における粘着物に起因する表面の剥離（ピッチ破れ）等の発生を低減できる新聞用巻取紙を提供することを目的とする。 - 特許庁

This manufacturing method includes: a photoelectric conversion unit forming process for forming a photoelectric conversion unit divided into a plurality of photoelectric conversion cells on the main surface of a substrate; and a neighboring region forming step of forming a neighboring region by removing the photoelectric conversion unit formed at the peripheral edge of the main surface.例文帳に追加

基板の主面上に、複数の光電変換セルに分割された光電変換ユニットを形成する光電変換ユニット形成工程と、前記主面の周縁部に形成された前記光電変換ユニットを除去して、周囲領域を形成する周囲領域形成工程と、を具備する。 - 特許庁

The piezoelectric element plate whose surface process layer is removed through chemical etching and whose frequency is adjusted with precision, a media whose main component is amorphous alumina, chrome oxide as an abrasive, and a surface active agent are put in a cylindrical plastic container and this container is filled with water.例文帳に追加

円筒形プラスチック容器に、化学的エッチングによって圧電素板片の表面加工層が除去され、かつ周波数が精度良く調整された圧電素板片と不定形のアルミナを主体とするメディアと、研磨材として酸化クロム、及び界面活性剤を容器に投入し、水で容器を満たす。 - 特許庁

The measurement object 15 is configured to be tiltable, and adjustments of the levelness values or the tilt angles of the flat surface to be measured 15a in the two directions which are the longitudinal and cross directions relative to the process measurement surface 12, are shared on sides of the first support leg 13 and the second support leg 14.例文帳に追加

被計測部材１５を傾動可能に構成し、加工計測面１２に対する被計測平面１５ａの長手方向及び幅方向の２方向の水平度あるいは傾斜角度を、第１支持脚１３側と第２支持脚１４側とに分担して調整するように構成する。 - 特許庁

A thermal oxidation process is carried out in a dry atmosphere, whereby a silicon oxide film 161 of thickness 3 nm is formed on the surface of the first region 11a of the silicon board 11, and a silicon oxide film 171 of thickness 6 nm is formed on the surface of a second region 11b of the silicon board 11 where no nitrogen ions are implanted.例文帳に追加

乾燥雰囲気中で熱酸化を行い、第１の領域１１ａのシリコン基板１１の表面には厚さ３ｎｍのシリコン酸化膜１６_1 が形成され、窒素イオンが注入されていない第２の領域１１ｂには厚さ６ｎｍのシリコン酸化膜１７_1 が形成される。 - 特許庁