「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(63ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an apparatus and a method for processing substrates, which are capable of separating and removing a thin film uniformly from the one surface of a substrate.例文帳に追加

基板の一方面から薄膜を均一に剥離して除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a connecting bar which is formed by punching and easily manufactured without subsequent processing of a processed surface, with reduced man-hour and cost.例文帳に追加

打ち抜きにより形成でき、加工面の後加工が必要でなく、製造が簡単で、工数、コストが削減できる連接棒を提供する。 - 特許庁

To remarkably shorten the processing time of the step of adsorbing a dye by a porous semiconductor layer formed on a substrate surface to be processed.例文帳に追加

基板の被処理面に形成されている多孔質の半導体層に色素を吸着させる工程の処理時間を大幅に短縮すること。 - 特許庁

The image output unit comprises a sheet feed mechanism, an image print surface display region, an ink jet recording system and a print data processing part.例文帳に追加

少なくとも、紙送り機構、画像印字面表示領域、インクジェット記録システム及び印字データ処理パーツからなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an image processing method capable of easily expressing change of gradation on a boundary surface such as the surfaces of the sea and the ground.例文帳に追加

海面や地表面等の境界面における階調の変化を簡単に表現することが可能な画像処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curved surface image processor capable of performing rendering at higher speed and with higher quality in image processing using NURBS data.例文帳に追加

ＮＵＲＢＳデータを用いた画像処理において、より高速かつ高品質にレンダリングすることが可能な曲面画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a reflection spectrum measuring method and apparatus capable of performing non-destrictive measurement without processing the surface of a sample.例文帳に追加

試料の表面の加工を行うことなく、非破壊測定を行うことができる反射スペクトル測定方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

This allows, in the compound substrate 10, a desired metal pattern to be formed on a surface of the piezoelectric substrate by lift-off processing using photolithography.例文帳に追加

これにより、この複合基板１０では、フォトリソグラフィを用いたリフトオフ加工により所望の金属パターンが圧電基板の表面に形成される。 - 特許庁

The electron gun 10 emits electrons and is constituted so as to irradiate the electrons to the front surface of the processing sample gripped by the holder 50.例文帳に追加

そして、電子銃１０は、電子を放出し、ホルダ５０に把持された加工試料の表面に電子を照射するように構成される。 - 特許庁

To provide a potentially crimped yarn giving a fabric with flat surface touch feeling and excellent stretchability for use in clothing or the like after subjected to high-order processing.例文帳に追加

高次加工して、衣服などに使用する際、フラットな表面感、ストレッチ性に優れた布帛を得られる顕在捲縮糸を提供する。 - 特許庁

To provide a cylindrical outer surface scanner capable of checking the Y size of a press plate before a punching processing by a punch unit is performed, and its method.例文帳に追加

パンチユニットによるパンチング処理が行われる前に、刷版のＹサイズをチェックできる円筒外面走査装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

A dielectric member 60 is arranged on a discharge surface 42 facing an electric field applied electrode 30 of the earth electrode 40 of the plasma processing device.例文帳に追加

プラズマ処理装置の接地電極４０における電界印加電極３０を向く放電面４２上に誘電部材６０を配置する。 - 特許庁

SURFACE COATED CERMET CUTTING THROW-AWAY CHIP WHOSE HARD COATING LAYER EXERTS EXCELLENT CHIPPING RESISTANCE IN HIGH SPEED HEAVY CUT PROCESSING OF HIGH HARDNESS STEEL例文帳に追加

高硬度鋼の高速重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削スローアウエイチップ - 特許庁

The sleeve is obtained from cylindrical cast article 48' having the maximum outside diameter equal to the diameter of the cylindrical outer surface by mechanical processing.例文帳に追加

スリーブ５０は、円筒形外表面の直径に等しい最大外径を有する円筒形の鍛造品４８’から機械加工されて得られる。 - 特許庁

The plant processing method comprises forming a film of a liquid polysilazane-containing coating material on the surface of a plant base material and converting the polysilazane to silica, to form a coating layer.例文帳に追加

植物基材の表面に液状のポリシラザン含有コーティング材の膜を形成し、ポリシラザンをシリカ転化してコーティング層を形成する。 - 特許庁

Parts 13a and 13b are successively removed from the end surface 1a of the extremely fine wire 1 along a longitudinal direction by ion beam processing.例文帳に追加

イオンビーム加工により極細線１の端面１ａから長手方向に沿って該極細線１から部分１３ａ，１３ｂを順次除去する。 - 特許庁

Then, a metal film M1 is deposited on the main surface f1 of the silicon substrate 1 and thermal processing is performed, thereby forming the metal silicide film sc.例文帳に追加

その後、シリコン基板１の主面ｆ１上に金属膜Ｍ１を堆積し、熱処理を施すことで、金属シリサイド膜ｓｃを形成する。 - 特許庁

In the case of performing a printing operation to the optical disk medium, discrimination processing about whether or not the label surface side is set is performed.例文帳に追加

上記光ディスク媒体に対する印画動作を行うにあたり、レーベル面側がセットされているか否かについての判別処理を行う。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR CONVERTING IMAGE FOR DISPLAYING ON DISPLAY SURFACE, AND MEMORY FOR STORING DATA FOR ACCESS AND PROCESSING BY VIDEO PLAYBACK SYSTEM例文帳に追加

表示面に表示する画像を変換する方法及び装置、並びにビデオ再生システムによりアクセス及び処理されるデータを記憶するメモリ - 特許庁

To more accurately measure the volume of bubble that contacts an inner wall surface of a liquid receiving chamber without requiring complex image processing.例文帳に追加

液体収容室の内側壁面に接触している気泡の体積を、複雑な画像処理を必要とすることなくより正確に計測する。 - 特許庁

If the roundness is smaller than the threshold, the image processing part 24 identifies the vehicle light candidate area as a road surface reflection and removes it from the captured image.例文帳に追加

画像処理部２４は、円形度が閾値より小さい場合、その車灯候補領域を路面反射であるとして撮像画像から除去する。 - 特許庁

A groove formed by jetting abrasive grains has inner surface exhibiting high wettability to ink and no alkaline processing is required for decreasing the contact angle of ink.例文帳に追加

砥粒噴射加工による溝の内面はインクの濡れ性がよく、インク接触角を低減させるためのアルカリ処理等を必要としない。 - 特許庁

The surface of the common substrate 7 has undergone silane coupling processing so that it has been very powerfully bonded to the new ultraviolet curing resin 10.例文帳に追加

友取り基板７の表面はシランカップリング処理されているため新しい紫外線硬化型樹脂１０と非常に強く接着されている。 - 特許庁

To provide a substrate processing equipment of a small footprint which allows a surface treatment with ozone and that with a process liquid.例文帳に追加

オゾンによる表面処理と処理液による表面処理とを行うことができ、しかもフットプリントの小さな基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A large quantity of an etching liquid remains on the surface of the substrate W immediately after being carried out from a dip tank 20 for performing dipping etching processing.例文帳に追加

浸漬エッチング処理を行うディップ槽２０から搬出された直後の基板Ｗの表面には多量のエッチング液が残留している。 - 特許庁

To provide a polyoxymethylene molding composition which is stable during processing, and has negligible formaldehyde release, negligible surface defect, and high color fastness.例文帳に追加

加工中に安定で、無視できるホルムアルデヒド放出、表面欠陥、及び高い色堅牢度を有するポリオキシメチレン成形用組成物を提供する。 - 特許庁

A metal film 104 having a barrier film 106 is subject to an oxygen plasma processing to form an oxide film 110 on the surface of the barrie film 107.例文帳に追加

バリヤー膜１０６を有する金属膜１０４に対して酸素プラズマ処理を行い、バリヤー膜表面に酸化物膜１１０を形成する。 - 特許庁

The processing apparatus 1, furthermore, has an optical cable 13 for projecting ultraviolet rays upon the ozone water supplied to the surface of the object substrate 4.例文帳に追加

処理装置１は、被処理基板４の表面に供給されたオゾン水に向けて紫外線を照射する光ケーブル１３をさらに備える。 - 特許庁

To provide an image processing unit capable of reading the image of an object to be captured having a region, where roughness on a surface differs as in a print.例文帳に追加

版画のように表面の粗さが異なる領域を持つ被撮像物の画像を読み取ることができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of highly precisely controlling the temperature of a surface of a shower head facing a processing space to a setup value.例文帳に追加

処理空間に面するシャワーヘッドの表面の温度を設定温度に精度よく制御することができる成膜装置を提供すること。 - 特許庁

To reduce cost by easily processing and precisely finishing a peripheral surface requiring high precision.例文帳に追加

加工が容易で、高精度が要求される周面を精度良く仕上げることができ、コストダウンを図ることができる油圧式オートテンショナを提供する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional(3D) model processor capable of performing various kinds of deforming processing to the surface of a 3D model with a simple operation.例文帳に追加

容易な操作によって３次元モデルの表面に対する様々な変形処理を実行可能な３次元モデル処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a ball type constant velocity joint capable of reducing cost without processing a bottom surface of an outer ring, while limiting a joint angle.例文帳に追加

ジョイント角を制限しつつ、外輪の底面を加工しないことによる低コスト化を図ることができるボール形等速ジョイントを提供する。 - 特許庁

To provide a laser cutting processing method which can cut from a workpiece a master carrier for magnetic transfer comprising satisfactory cutting surface quality.例文帳に追加

被加工物から良好な切断面品質を有する磁気転写用マスター担体を切り出すことが可能なレーザ切断加工方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, composite processing device 4 compositely processes the binarization data, and can detect a defect on the surface of the inspecting object by light-dark detection.例文帳に追加

このため、複合処理装置４は、前記２値化データを複合処理し、明暗検出により、前記被検査物の表面の欠陥を検出できる。 - 特許庁

Inside its processing chamber, there is formed a downward airflow that passed from the air sucking port 42 to the surface of the substrate 1 so as to proceed to the air exhausting port 32.例文帳に追加

処理室内では、吸気口４２から基板１の表面を通り排気口３２へ向かう下向きの空気の流れが形成される。 - 特許庁

A dry gas is jetted to the substrate W in substantially parallel from the first nozzle 41 to the gas discharge section 43 near the surface level of the processing liquid.例文帳に追加

処理液の液面近傍で第１ノズル４１から排気部４３に向けてほぼ水平に乾燥気体が基板Ｗに送風される。 - 特許庁

Uniform plasma thus generated is jetted from one end of the tubular container and the surface of an article to be processed is processed uniformly at a high processing rate.例文帳に追加

得られた均一なプラズマは筒状容器の一端から噴射され、被処理物の表面を高処理速度で均一に表面処理する。 - 特許庁

To provide a pressure-welding semiconductor device, in which the deformation of an electrode layer 33, and a surface processing layer 34 to be pressured-welded is within the range of elastic deformation.例文帳に追加

圧接される電極層３３と表面処理層３４の変形が弾性変形範囲内である圧接型半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photographic processing device that can discharge or reduce static electricity electrified on the sensitization surface of a photosensitive material.例文帳に追加

感光材料の感光面に帯電する静電気を除電又は低減することができる写真処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A second film (220) is formed from a first film (211) by subjecting the first film (211) to slice etching processing so as to eliminate a corner part (212) formed of a top surface (211t) of the first film (211) and a side surface (211s) of the first film (211) which crosses the top surface (211t).例文帳に追加

第１膜（２１１）の上面（２１１ｔ）と、上面（２１１ｔ）に交差する第１膜（２１１）の側面（２１１ｓ）とによって構成された角部（２１２）をなくすように、第１膜（２１１）にスライスエッチング処理を施し、第１膜（２１１）から第２膜（２２０）を形成する。 - 特許庁

A recess 24 is formed by processing at the section to cover the opening surface of the housing recess section 18 on the embossed carrier tape 14 of the top cover tape 16, and the lower surface of the recess section of the top cover tape is brought into contact with or made to approach the top surface of the electronic component 12 in the housing recess section.例文帳に追加

トップカバーテープ１６の、エンボスキャリアテープ１４の収容凹部１８の開口面を被覆する部分に凹み２４を加工形成して、トップカバーテープの凹み部分の下面を、収容凹部内の電子部品１２の上面に当接もしくは近接させた。 - 特許庁

A substrate is prepared wherein the surface of an embedded wiring formed inside an interlayer dielectric is selectively covered with a wiring protective film, the surface of the substrate is pre-cleaning by wet processing using a cleaning liquid, and then an insulation film is formed on the surface of the pre-cleaned substrate.例文帳に追加

層間絶縁膜の内部に形成した埋込み配線の表面を配線保護膜で選択的に覆った基板を用意し、洗浄液を用いたウェット処理で基板の表面を前洗浄し、前洗浄後の基板の表面に絶縁膜を形成する。 - 特許庁

Thus, the present invention includes a step (S104) for eliminating the surface oxide film by cleaning the surface of the silicon core wire with a hydrofluoric acid solution following the step for eliminating processing strain of the surface by etching the silicon core wire using a mixed acid solution of hydrofluoric acid and nitric acid.例文帳に追加

そこで、本発明では、シリコン芯線をフッ酸と硝酸の混酸溶液でエッチングして表面の加工歪みを除去する工程に続いて、シリコン芯線の表面をフッ酸溶液で洗浄して表面酸化膜を除去する工程（Ｓ１０４）を備える。 - 特許庁

A signal processing part 60 obtains the distances to the one surface 6a and the other surface 6b of the measurement object and the distance to the reflector 5 with reference to the distance to the reference surface 31 on the basis of each interference signal detected by the detection part 20.例文帳に追加

信号処理部６０は、検出部２０により検出した各干渉信号に基づいて、参照面３１までの距離を基準にした測定対象物の一方の面６ａ及び他方の面６ｂまでの距離及び反射鏡５までの距離を求める。 - 特許庁