「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(67ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a polishing method that achieves high flatness of a polished surface of a polishing body after CMP processing, and further reduces the defect density of scratches or the like on the polishing surface of the polishing body compared with the conventional one.例文帳に追加

ＣＭＰ処理後に、被研磨体の研磨面が高い平坦性を有するとともに、被研磨体の研磨面におけるスクラッチなどの欠陥密度を従来に比して低減させることができる研磨方法を提供する。 - 特許庁

A middle paper 20 is so constructed by forming a weak adhesive agent layer 12 through a permeation preventing agent layer 11 on the under surface 4 of one end part 2 of the sheet material 1 and by forming a release processing layer 15 on the upper surface 3 of one end part 2.例文帳に追加

シート材１の一端部２の下面４に、浸透防止剤層１１を介して弱接着剤層１２を形成し、一端部２の上面３に、剥離加工層１５を形成して、中用紙２０を構成する。 - 特許庁

To provide a glass plate whose surface is strengthened when the glass plate is produced to such an extent that the surface does not adversely affect the efficiency of processing treatment after glass forming and is not easily scratched, and to provide a method for producing the glass plate.例文帳に追加

ガラス板の製造の際に、ガラス成形後の加工処理の効率に悪影響を与えず、ガラス表面に傷が付き難い程度にガラス表面が強化されたガラス板と、ガラス板の製造方法を提供する。 - 特許庁

This etching processing method of a piezoelectric wafer forms masks 18 having openings 16 on an one surface 12 of the piezoelectric wafer and the other surface 14 thereof, and etches the openings 16 to form a through-groove.例文帳に追加

圧電ウエハのエッチング加工方法は、圧電ウエハの一方の面１２および他方の面１４に開口部１６を有するマスク１８を形成し、前記開口部１６をエッチングして貫通溝を形成するものである。 - 特許庁

The wallpaper is produced by coating a processing liquid obtained by mixing the hydrophilic stainproof chemical and the dry soil-preventing chemical on a surface layer in a wallpaper obtained by laminating the surface layer on a base material layer, and drying the coated product.例文帳に追加

基材層に表面層を積層した壁紙において、前記表面層上に、親水性防汚薬剤と、ドライソイル防汚薬剤とを混合した加工液を塗布し、乾燥したことを特徴とする壁紙。 - 特許庁

In the semiconductor ion sensor, the polarity of the resin on the surface of the resin coating 11 is heightened by processing the resin coating by gas in the ionized state, and the elution quantity of the ionophore from the surface of the resin coating 11 into a test solution is reduced.例文帳に追加

樹脂皮膜を電離状態のガスで処理することによって、樹脂皮膜１１の表面の樹脂の極性を高め、樹脂皮膜１１の表面から被検液へのイオノフォアの溶出量を低減する。 - 特許庁

To enable a final processing of development steps with new clean developer, and changing a surface of a substrate into a cleaned state when the development is finished, by supplying the new developer to the surface of the substrate terminating the development.例文帳に追加

現像を終了した基板の表面に新しい現像液を供給して、新しい清浄な現像液によって現像工程の最後を処理でき、現像終了時の基板の表面を清浄な状態にする。 - 特許庁

The packaging substrate has a double-layer conductive pattern structure, has signal wiring patterns and power supply wiring patterns 300-307 for connecting the memory device to the data processing device on the first surface, and has a ground pattern on a second surface.例文帳に追加

前記実装基板は２層の導電パターン構造を有し、第１面にはメモリデバイスとデータ処理デバイスを接続する信号配線パターンと電源配線パターン（３００〜３０７）を有し、第２面にはグランドパターンを有する。 - 特許庁

In such a constitution, the wafer surface is not oxidized by atmospheric exposure so that the wafer surface status on the way of a series of processing may be monitored thereby making it possible to control the manufacturing steps using the clustered device.例文帳に追加

ウエハ表面が大気暴露などにより酸化されることがなく、一連の処理の途中におけるウエハの表面状態をモニターできるので、クラスタリングされた装置を用いた製造工程の管理が可能になる。 - 特許庁

The tera-hertz wave processing apparatus includes: a tera-hertz wave generating device 10 generating a prescribed tera-hertz wave; and an optics optical surface provided to the front surface in the travelling direction of generated tera-hertz wave and comprising a high functional resin.例文帳に追加

所定のテラヘルツ波を発生するテラヘルツ波発生装置１０と、発生されたテラヘルツ波の進行方向の前面に設けられた高機能樹脂により構成されたオプティクス光学面とを有している。 - 特許庁

Membranes of a GMR element 21 and a piezoelectric element 22 are formed in the upper surface of a diaphragmed sensor chip 20, and a wiring 23 made of aluminum and a processing circuit 24 are provided for the upper surface of the sensor chip 20.例文帳に追加

ダイヤフラム加工されてなるセンサチップ２０の上面には、ＧＭＲ素子２１及び圧電素子２２がそれぞれ薄膜形成されるとともに、アルミよりなる配線２３及び処理回路２４がそれぞれ設けられている。 - 特許庁

Consequently, the rinse liquid on the substrate surface Wf is replaced with the high-temperature IPA liquid with high replacement efficiency to suppress the amount of a rinse liquid remaining on the substrate surface Wf small before spin drying processing.例文帳に追加

このため、基板表面Ｗｆ上のリンス液が高い置換効率で高温ＩＰＡ液に置換されてスピン乾燥処理前に基板表面Ｗｆ上に残存するリンス液の量を抑制することができる。 - 特許庁

Even with the presence of ruggedness on the wafer surface, the distance between the wafer surface and the optical system unit 45 is made uniform; therefore, the laser beam is evenly emitted to the wafer, to perform the processing with high intra-plane uniformity.例文帳に追加

ウエハ表面に凹凸がある場合でも、ウエハ表面と光学系ユニット４５との距離が揃えられるので、レーザー光が均一にウエハに照射されて、面内均一性の高い処理を行うことができる。 - 特許庁

In the ground pattern formed by this way, the taste of the ground pattern appearing on the surface of the workpiece is varied by adjusting the incident angle of the abrasive to the surface of the workpiece and other processing conditions.例文帳に追加

このようにして形成される地模様は，被加工物の表面に対する研磨材の入射角，その他の加工条件の調整によって，被加工物の表面に現れる地模様の趣を変化させることができる。 - 特許庁

When the current date has elapsed beyond the validity time, an image processing section 14 outputs the same pattern as that of the extra image, while compositing it with the entire surface of background of the document image (entire surface of the output region) from a printing section 15.例文帳に追加

画像処理部１４は、現在日時が有効期間を経過しているとき、付加画像と同じパターンを原稿画像の背景全面（出力領域全面）に合成して印刷部１５から出力する。 - 特許庁

The air in the chamber 10, therefore, is exhausted from a position lower than the surface of the substrate 1 in the processing chamber 10 which forms airflow moving downward from the surface of the substrate 1, thus preventing the stagnation of airflow above the substrate 1.例文帳に追加

処理室１０の基板１の表面より低い位置から排気を行うことにより、基板１の表面から下方に向かって気流の流れが生じ、基板１の上方に気流のよどみが発生しない。 - 特許庁

The information terminal 1 is provided with a white light source 2a and an excitation light source 2b as a lighting system in the front side surface of a case and an antenna 4a being a loop antenna for RFID processing inside the front side surface.例文帳に追加

情報端末装置１は、筐体の前側面に照明装置としての白色光源２ａと励起光源２ｂとを備え、前側面の内側にＲＦＩＤ処理用のループアンテナであるアンテナ４ａを備える。 - 特許庁

To reduce the load of a processing apparatus in the case of changing a video in a display device for reducing and displaying an image on a part of a display surface without displaying the image on the whole display surface.例文帳に追加

像を表示面全体に表示せず縮小して表示面の一部に表示する表示装置であって、映像に変化を与える場合に、処理装置の負荷を軽減することができるものを提供する。 - 特許庁

Moreover, a holder for the sound generating means is made tiltable to a front/rear surface direction angle and a left/right surface direction angle for creating a more-effective sound field, when the sounds whose sound field processing has been performed are emitted from the plurality of sound generating means.例文帳に追加

さらに、音場処理した音を複数の音発生手段から発する際に、より効果的な音場を作り出す前後面方向角度、左右面方向角度に、音発生手段保持具を傾斜可能とした。 - 特許庁

To provide a surface defect detector capable of reducing cost of the device, simplifying the system constitution and quickly judging good or bad of a body to be tested by shortening the processing time of the whole surface of the body to be tested.例文帳に追加

装置のコストダウン及びシステム構成のシンプル化を図り、かつ被検体表面全体の処理時間を短縮して被検体表面の良否判定を迅速に行える表面欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁

Subsequently, an optical element (second optical element) is molded using a corrected mirror surface piece 17 obtained by the correction processing of the temporary mirror surface piece 4 (S05) and the second optical element is subjected to humidity conditioning treatment to be evaluated (S06).例文帳に追加

次にこの仮鏡面駒４を修正加工した修正鏡面駒１７を用いて光学素子（第２の光学素子）の成形を行い（Ｓ０５）、その第２の光学素子について調湿下で評価する（Ｓ０６）。 - 特許庁

A hole 7 having a cross-sectional shape of a tapered or a curved surface is processed in a plate 1 of a rigid body, and an elastic body 2 of processing the taper or the curved surface on the outer periphery and opening a bolt hole in the center, is incorporated in its hole 7.例文帳に追加

剛体の板１に断面の形状がテーパー又は曲面の穴７を加工し、その穴７に外周にテーパー又は曲面が加工され中央にボルト穴の開いた弾性体２を組込む。 - 特許庁

Each of the screw single bodies 5a, 5b, 5c of the telescopic screw 5 is constituted by mold-processing a resin as a raw material and making the thickness of a conveying surface A for compressing and conveying the cereal grains as thicker than that of the non-conveying surface at the rear of it.例文帳に追加

該伸縮螺旋５の各螺旋単体５ａ、５ｂ、５ｃは、樹脂を素材として成形加工し、穀粒を押圧して搬送する搬送面Ａを、その裏側の非搬送面Ｂより肉厚を増して構成した。 - 特許庁

In an objectivizing method for a (surface) inspection method by image processing, information z (x, y) is derived on each image point (x, y) in a measurement region on the surface of the sample, and a resultant amount is calculated from them.例文帳に追加

本発明は画像処理による（表面）検査方法の客観化方法は、検査試料表面の測定域の各像点（ｘ，ｙ）に対し情報ｚ（ｘ，ｙ）を求め、これから結果量を算出する。 - 特許庁

To provide a surface protective film without occurring unevenness on the surface in a heating process conducted for processing a material to be protected such as a plastic optical material or the like and even though in the case of being left under a high temperature environment in transporting or the like.例文帳に追加

プラスチック光学材料等の被保護物を加工時に行う加熱工程、及び、輸送時等に高温環境下に置かれた場合であっても、浮きが発生することのない表面保護フィルムを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEPARATOR OF SOLID POLYMER ELECTROLYTE TYPE OF FUEL CELL, METHOD FOR INVESTIGATING DEFECT OF THE SEPARATOR, METHOD FOR HEATING AND PROCESSING SEPARATOR, SURFACE COATING METHOD OF THE SEPARATOR, AND METHOD FOR INVESTIGATING SURFACE COATING DEFECT OF THE SEPARATOR例文帳に追加

固体高分子電解質型燃料電池のセパレータの製造方法、そのセパレータの欠陥検査方法、そのセパレータの加熱処理方法、そのセパレータの表面被覆方法、そのセパレータの表面被覆欠陥検査方法 - 特許庁

The receiving module performs receiving processing to a signal received by the antenna layer, and is disposed so as to be superimposed with the antenna layer, on an opposite surface to a surface on which the reflection plate is attached, of both surfaces of the antenna layer.例文帳に追加

受信モジュールは、アンテナ層で受信される信号に対して受信処理を施すものであり、アンテナ層の両面のうち、反射板が取り付けられる面と反対側の面に、アンテナ層と重なるように配置される。 - 特許庁

It is estimated that the intrusion and diffusion properties of the element at the time of the surface treatment such as nitridation treatment can be improved by carrying out the prescribed strong processing as described above before conducting the surface treatment such as nitridation treatment.例文帳に追加

つまり、窒化処理等の表面処理工程の前に所定の強加工を行うことで、窒化処理等の表面処理時の元素侵入および拡散の特性を向上させることができるものと推定される。 - 特許庁

A coated plate is formed by applying distortion to the surface treated steel plate by overhang processing and then applying chemical conversion and electro-deposition coating to it, and a test strip is formed by scratching the surface of the coated plate with a broken stone for a road.例文帳に追加

表面処理鋼板に張り出し加工によりひずみを付与した後、化成処理および電着塗装を施し塗装板とし、次いで、該塗装板の表面に道路用砕石により傷を付与し試験片とする。 - 特許庁

This lane position detecting system 20 determines the road surface condition on the basis of the information from a sensor loaded on the vehicle, and changes frequency characteristics of a filter used in the filtering processing on the basis of the determined road surface condition.例文帳に追加

車線位置検知システム２０は、車両に設置されたセンサの情報に基づいて路面状況を判定し、判定された路面状況に基づいて、フィルタ処理に用いられるフィルタの周波数特性を変更する。 - 特許庁

This method uses an aspheric surface processing machine turning and machining the work surface of the work by moving the cutter in two directions in parallel with and orthogonal to the spindle in synchronization with the rotation of the work around the spindle according to data calculated previously.例文帳に追加

予め算出されたデータにしたがい、主軸回りのワークの回転に同期して前記主軸と平行および直交する二方向にバイトを移動させてワークの加工面を旋削する非球面加工機を用いる。 - 特許庁

To provide a vacuum sucking device not causing inconvenience due to a step on a surface to suck a sucked article and not generating spotting, etc. on the sucked surface even in the case of performing wet processing.例文帳に追加

被吸着物を吸着する面に段差による不都合が生じず、かつ湿式加工を行う場合でも被吸着物の被吸着面にシミ等が発生しない真空吸着装置を提供すること。 - 特許庁

To accurately finish an end surface of a boss part and an inner diameter surface thereof through lathe cutting processing at one chuck operation by allowing a workpiece with boss such as a sintered sprocket to be seized with an outer diameter chuck while preventing bending.例文帳に追加

焼結スプロケットなどのボス付きワークを、撓みを防止しながら外径チャックで掴めるようにし、ボス部の端面と内径面をワンチャックでの旋削加工で高精度に仕上げられるようにすることを課題としている。 - 特許庁

To provide a computer aided design system which selects a surface element and a back surface element needed to find creeping distance correctly, improves processing time and carries out also computing of creeping distance itself correctly and quickly.例文帳に追加

沿面距離を求める必要がある表面要素と裏面要素を正確に選定し処理時間を改善し、また、沿面距離自体の演算も正確且つ迅速に実施されるコンピュータ支援設計システムを提供する。 - 特許庁

Subsequently, after metal wiring material 45 is formed on the entire surface and the surface is graded or polished by a CMP processing, a metal wiring film 45W is obtained in the state where it is buried in the concave portions or the groove portions (41, 42).例文帳に追加

その後、金属配線材料４５を全面に形成し、ＣＭＰ処理で表面を研削または研磨すると、凹部または溝部４１，４２に埋め込まれた状態の金属配線膜４５Ｗが得られる。 - 特許庁

In this method, mechanical processing such as boring, napping and decoloring is performed for a surface of the workpiece 8 to be machined by colliding solid particles 1 obtained by pulverizing shells of scallop against the surface of the workpiece 8.例文帳に追加

ホタテの貝殻を粉砕して得た固体粒子１を加工すべき被加工物８の表面に衝突させて、その被加工物８の表面を穴開け、起毛、脱色などの機械的加工処理することを特徴とする。 - 特許庁

A processing tank 3 has a housing space S, at least the inside of which is enclosed with a dielectric, and the container 2 to be sterilized is arranged in the housing space S so that the outer peripheral surface 2a and the bottom surface 2b of the container 2 are enclosed with the dielectric.例文帳に追加

少なくとも内面側が誘電体にて囲まれた処理槽３内の収容スペースＳに殺菌対象の容器２を配置して該容器２の外周面２ａ及び底面２ｂを誘電体にて覆う。 - 特許庁

Subsequently, ALD processing is performed continuously on the surface of the silicon oxide film or the silicon oxide nitride film subjected to plasma nitriding so that the surface is not exposed to the atmosphere, and a silicon nitride film is deposited thereon (step S3).例文帳に追加

そして、プラズマ窒化処理後のシリコン酸化膜表面またはシリコン酸窒化表面を大気に曝露させないようにプラズマ窒化処理に連続してＡＬＤ処理を施し、その上にシリコン窒化膜を堆積する（ステップＳ３）。 - 特許庁

To provide a surface processing method of AlN crystal for forming a surface of proper morphology efficiently in AlN crystal, in order to efficiently obtain an AlN crystal substrate for use in a semiconductor device.例文帳に追加

本発明は、半導体デバイスに用いることができるＡｌＮ結晶基板を効率的に得るため、効率よくＡｌＮ結晶にモフォロジーの良好な表面を形成するＡｌＮ結晶の表面処理方法を提供する。 - 特許庁

In a state where an N- or P-type silicon substrate subjected to dopant processing is not subjected to oxidation treatment but subjected to hydrogen termination treatment, surface treatment is performed by a silane coupling reagent to obtain a surface modification semiconductor silicon substrate.例文帳に追加

ドーパント処理されたＮ−またはＰ−型シリコン基板を、酸化処理せず、水素終端化処理されている状態でシランカップリング試薬による表面処理を行い、表面修飾半導体シリコン基板を得る。 - 特許庁

The medical material contains the amnion as the placental tissue, a polymer membrane which is bonded on one surface of the amnion and undergoes the crosslinking connection processing and the cells adhering onto the other surface of the amnion.例文帳に追加

胎盤組織である羊膜と、前記羊膜の一方の表面に張り合わせて架橋結合処理されている高分子膜と、前記羊膜の他方の表面に付着した細胞とを含む医療用材料。 - 特許庁

To provide a resin composition for calender processing capable of forming a good surface appearance without generating dent on the surface of a sheet obtained by calendering and insuring good impact resistance and heat resistance.例文帳に追加

カレンダー成形して得られるシートの表面に窪みが発生することがなくて良好な表面外観を形成できると共に、優れた耐衝撃性及び耐熱性を確保できるカレンダー加工用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an ion milling device capable of easily manufacturing a sample without performing parallel processing in the case where the mask surface side and loading surface of the sample are non-parallel, and to provide an ion milling method.例文帳に追加

本発明の目的は、試料のマスク面側と搭載面とが非平行の場合に、平行に加工する必要が無く試料作製を容易に行うことができるイオンミリング装置及びその方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a surface inspection device for executing accurate inspection by eliminating the influence of worked parts existing on the surface of an inspecting object on judgment of the existence of defects, and for speeding up processing.例文帳に追加

被検査物の表面に存在する加工部が欠陥の有無の判別に与える影響を排除して正確な検査を実施でき、かつ処理の高速化を図ることが可能な表面検査装置を提供する。 - 特許庁

When a both surface copying is conducted after the ACC computation process, image processing is conducted using the held ACC data as feedback values and image forming to each surface of a recording medium P is conducted.例文帳に追加

こうしてＡＣＣ演算処理が行われた後で両面コピーが行われる際には、保持されたＡＣＣデータをフィードバック値として使用して画像処理を行い、記録媒体Ｐの各面への画像形成が行われる。 - 特許庁