「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(62ページ目) - Weblio英語例文検索

To split a substrate after forming an internal crack by laser beam processing so that there is no remainder by the split along a predetermined line on the surface.例文帳に追加

レーザ加工によって内部亀裂を形成した後の基板を、表面の割断予定線に沿って割断残りのないように割断する。 - 特許庁

A data processing section 3 obtains a displacement of each measurement point on the surface of the print board, based on an output of the first sensing means.例文帳に追加

データ処理部３は、その第１のセンシング手段の出力に基づいてプリント板の表面における各測定点における変位を求める。 - 特許庁

Fluorine addition or dry lube addition which is coating processing can be applied to the surface of the grip part 142 using the EVOH material.例文帳に追加

さらに、ＥＶＯＨ材を用いたグリップ部１４２の表面に、被覆加工であるフッ素添加又はドライルーブ添加などを施すことができる。 - 特許庁

SURFACE COATED CEMENTED CARBIDE GEAR CUTTING TOOL WITH HARD COATED LAYER EXHIBITING EXCELLENT ABRASION RESISTANCE IN HIGH-SPEED GEAR CUTTING PROCESSING OF HIGH-RESPONSIVENESS CUTTING MATERIAL例文帳に追加

高反応性被削材の高速歯切加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製歯切工具 - 特許庁

Over the surface of the substrate W being moved, a developer is filled by liquid filling nozzles 20 and 30 without any gap, and development processing advances.例文帳に追加

移動される基板Ｗの面上に液盛りノズル２０，３０によって現像液が隙間無く液盛りされて、現像処理が進行する。 - 特許庁

To provide a method of cleaning for removing residue in semiconductor manufacturing processing, comprising contacting a surface to be cleaned with an aqueous formulation.例文帳に追加

洗浄される表面と水系配合物とを接触させることを含む、半導体製造プロセスにおける残渣を除去する洗浄方法 - 特許庁

To provide a heat insulator improved in heat insulation to suppress the dissipation of heat from an area to be heat insulated such as the outer wall surface of a processing container to the outside.例文帳に追加

処理容器の外壁面などの被断熱領域から外部への放熱を抑える断熱性に優れた断熱材を提供すること。 - 特許庁

To provide a workpiece processing device provided with an injector for uniform injection to the surface of the workpiece without reducing the temperature of pressurized steam.例文帳に追加

加圧蒸気の温度を低下させることなく、ワーク表面に均一に噴射することのできる噴射装置を備えたワーク処理装置の提供。 - 特許庁

To provide a metallic material having chromate-free-treated surface excellent in corrosion resistance, heat resistance, anti-fingerprint property, conductivity, coating property, and black deposit resistance during processing.例文帳に追加

耐食性、耐熱性、耐指紋性、導電性、塗装性および加工時の耐黒カス性に優れたクロメートフリー表面処理金属材を提供する。 - 特許庁

An operator starts heating processing to the surface 10S by the part 100 at a specified point of time in response to the warning.例文帳に追加

オペレータはその警告に応じて所定の時点で、加熱部１００による感光体ドラム表面１０Ｓに対する加熱処理を開始する。 - 特許庁

To improve elongation of a resin to enhance plasticity, and to effectively prevent separation of a resin film and generation of a rough surface, even in a high processing degree.例文帳に追加

樹脂の伸びを改善して可塑性を向上させ、高い加工度であっても樹脂膜の剥離、肌荒れの発生を有効に防止する。 - 特許庁

To provide a thermal recording material which has surface strength and water resistance suitable for printing processing, and is excellent in solvent barrier properties.例文帳に追加

本発明は、印刷加工に適した表面強度及び耐水性を有し、且つ溶剤バリア性に優れた感熱記録材料を提供する。 - 特許庁

The light passage part 44 is disposed to oppose to the surface processing part 30 when the endoscope 12 is accommodated in the accommodating part 32.例文帳に追加

この通光部４４は、内視鏡１２が収容部３２に収容された場合に表面処理部３０に対向するように配置されている。 - 特許庁

To provide a variable view angle type liquid crystal display device which facilitates alignment processing of a substrate internal surface of a view angle limiting element and is easy to manufacture.例文帳に追加

視野角制限素子の基板内面の配向処理を簡単にした製造の容易な視野角可変型の液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To attain the attenuation of a diffracted wave or unwanted wave by applying absorber processing to the electrode structure of a surface acoustic wave(SAW) element made into high density.例文帳に追加

高密度化する弾性表面波素子の電極構造に対応する吸音体処理を実現し、回析波、不要波の減衰を目的とする。 - 特許庁

To provide a resist processing apparatus for exfoliating, with low damage and high efficiency, a mask resist film where a surface layer is deteriorated in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

半導体製造工程において表層が変質したマスク用レジスト膜を低ダメージ・高効率で剥離するレジスト処理装置を提供する。 - 特許庁

When the sample S is put under etching process, an ion beam is irradiated, in a state of the shielding material M being intercalated near the processing surface SA.例文帳に追加

試料Ｓのエッチング加工時には、遮蔽材Ｍが加工面ＳＡの近傍に介在された状態でイオンビームが照射されて行われる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which can simultaneously clean the upper and lower surface of a semiconductor wafer, and moreover surely.例文帳に追加

この発明は半導体ウエハの上面と下面とを同時に、しかも確実に洗浄することができる基板の処理装置を提供することにある。 - 特許庁

In the head slider 15, a chemical adsorption layer 40 is formed on the medium facing surface 23 as water-repellent processing with parts around a magnetic head 33 exposed.例文帳に追加

ヘッドスライダ１５は、撥水処理として、媒体対向面２３に、化学吸着層４０が、磁気ヘッド３３付近を露出して形成される。 - 特許庁

A laser optical system radiates a laser beam 10 having a linear beam cross section of a given width on the surface of the processing substrate 2 held by the holding plate 14.例文帳に追加

レーザ光学系が、保持台に保持された処理基板の表面に、ある幅を持った線状のビーム断面を有するレーザビームを照射する。 - 特許庁

To improve uniformity of a resist residual film after development processing in a substrate surface and to suppress dispersion in a line width and a pitch of wiring patterns.例文帳に追加

基板面内における現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。 - 特許庁

The photographic processing device 10 forms a frame image, recorded on a film 16, onto the surface of printing paper 42 and performs correction-print on the back of it.例文帳に追加

写真処理装置１０は、フィルム１６に記録されたコマ画像を印画紙４２の表面に形成し裏面にコレクション印字する装置である。 - 特許庁

To suppress attachment of carrier to the surface of an image carrier when toner concentration in developer is lowered or when processing speed is slowed down.例文帳に追加

現像剤のトナー濃度が低下したとき、又はプロセススピードを低下させたときに、像担持体の表面にキャリアが付着するのを抑制する。 - 特許庁

A land form classification part 60 classifies the processing object area into a forest area and a ground surface area, etc., from the DSM and near infrared ray image data.例文帳に追加

地形分類部６０はＤＳＭと近赤外線画像データから処理対象地域を森林領域と地面領域等に分類する。 - 特許庁

To provide a processing device which restrains occurrence of a cut step on a material having a boundary surface different in cutting resistance.例文帳に追加

切削抵抗の異なる境界面を有する材料において、切削加工段差の発生を抑制することができる加工装置を提供する。 - 特許庁

An area camera 25 acquires an image of the surface of a semiconductor chip 1 after dicing, and outputs an image signal to an image processing/control apparatus 100.例文帳に追加

エリアカメラ２５は、ダイシング後の半導体チップ１の表面の画像を取得し、画像信号を画像処理／制御装置１００へ出力する。 - 特許庁

To provide a system which detects the contraction of the uterus by processing electromyogram (EMG) input signals from an abdominal surface, and a method therefor.例文帳に追加

腹部表面からの筋電図（ＥＭＧ）入力信号を処理することにより子宮の収縮を検出するシステム及び方法を提供する。 - 特許庁

A hydrophilic polymer film 10 is formed by doing graft polymerization processing to a resin surface coming into contact with the ink by a (meth)acrylate monomer.例文帳に追加

インクに接する樹脂表面に、（メタ）アクリル酸エステルモノマーでグラフト重合処理することにより親水性高分子膜１０を形成する。 - 特許庁

The etchant is used for a semi-additive processing method, and includes an oxidizing agent, an acid, a surface active agent and a lipophilic hydrocarbon.例文帳に追加

セミアディティブ工法用エッチング液であって、酸化剤と、酸と、界面活性剤と、親油性炭化水素類とを含むことを特徴とするエッチング液。 - 特許庁

To perform appropriate processing by arranging hole positions etc. assigned by a two-dimensional coordinate system without contradiction on a three-dimensional lens refraction surface.例文帳に追加

２次元座標系で指定された穴位置等を矛盾無く３次元のレンズ屈折面上に配置し、適切な加工が行えるようにする。 - 特許庁

To provide a zero point correcting device of an acceleration sensor which is capable of executing a processing necessary for zero point correction even when a vehicle stops on an inclined road surface.例文帳に追加

傾斜する路面に停車した場合でもゼロ点補正に必要な処理を実行可能な加速度センサのゼロ点補正装置の提供 - 特許庁

SURFACE-EMITTING SEMICONDUCTOR LASER, OPTICAL DEVICE, LIGHT IRRADIATION DEVICE, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, OPTICAL TRANSMITTER, OPTICAL SPACE TRANSMITTER, AND OPTICAL TRANSMISSION SYSTEM例文帳に追加

面発光型半導体レーザ、光学装置、光照射装置、情報処理装置、光送信装置、光空間伝送装置および光伝送システム - 特許庁

To provide an extraction method of a sample piece for analysis capable of obtaining a clean peeling surface free from processing strain in the fine sample piece.例文帳に追加

微小な試料片において、加工歪のない清浄な剥離面を得ることができる分析用の試料片抽出方法を提供する。 - 特許庁

Heating processing is executed while winding and rotating each photosensitive material piece 50A in a parallel state on the wide outer peripheral surface 62 of the heating drum 60.例文帳に追加

並列状態の各感光材料片５０Ａを加熱ドラム６０の幅広の外周面６２に巻き掛けて回転させながら加熱処理する。 - 特許庁

A sheet post-processing device 20 is detachably provided on the top surface of a printer 10 and a sheet storage part 11 is placed at the lower part.例文帳に追加

印刷装置１０の上面に脱着自在にシート後処理装置２０が設けられ、その下部にシート収容部１１が配置されている。 - 特許庁

To provide processing equipment excellent in workability, linear precision and precision, a posture adjusting device and a reference surface forming device.例文帳に追加

作業性と直線精度と精度に優れた加工設備及びそれに使用する姿勢調整装置並びに基準面形成装置を提供する。 - 特許庁

SURFACE-EMITTING TYPE SEMICONDUCTOR LASER, OPTICAL DEVICE, LIGHT IRRADIATION DEVICE, INFORMATION PROCESSING DEVICE, OPTICAL TRANSMITTER, OPTICAL SPACE TRANSMISSION DEVICE, AND OPTICAL TRANSMISSION SYSTEM例文帳に追加

面発光型半導体レーザ、光学装置、光照射装置、情報処理装置、光送信装置、光空間伝送装置および光伝送システム - 特許庁

The processing part finds the interaction between the probe and a protrusion/a sample surface (S208), based on the displacement of the probe in the set time.例文帳に追加

処理部は、設定された時間での探針の変位に基づき、探針及び突起と試料表面間の相互作用力を求める（Ｓ２０８）。 - 特許庁

To provide a method for molding an optical element capable of efficiently obtaining predetermined capacity even if mirror surface pieces of all of lens surfaces are not subjected to correction processing.例文帳に追加

全てのレンズ面の鏡面駒を補正加工しないでも、効率的に所定の性能が得られる光学素子の成形方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of drying efficiently the whole surface of two or more substrates, which were pulled up from process liquid, in a short time.例文帳に追加

処理液から引き上げられる複数の基板の全面を短時間で効率的に乾燥させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a turning processing method capable of suppressing "chattering and vibration," preventing deterioration of finishing accuracy of a processed surface and having high versatility.例文帳に追加

「びびり振動」を抑制することができる上、加工面の仕上げ精度を損ねることがなく、汎用性の高い旋削加工方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, particles are less attached to the silicon wafer subjected to the above processing than one having a surface that is turned hydrophobic through a conventional scrubbing method.例文帳に追加

そのため、スクラビングすることにより疎水性の面となる従来法に比べて、シリコンウェーハＷの表面にパーティクルが付着しにくい。 - 特許庁

For example, when the calculated movement speed exceeds a predetermined permissible speed, a retreat processing for making the lens apart from the surface of the optical disk is performed.例文帳に追加

例えば、算出された移動速度が、予め設定された許容速度を超えた場合に、光ディスクの表面から離す退避処理を行う。 - 特許庁

To obtain a perpendicular magnetic recording head which is free of curved parts near flare points after processing of a main magnetic pole and has little variation in a track width of a flying surface.例文帳に追加

主磁極加工後のフレアポイント近傍に湾曲部がなく、浮上面におけるトラック幅のバラツキが小さな垂直磁気記録ヘッドを得る。 - 特許庁

To provide a technique effective for reasonably processing an edge of a skin covering an outer surface of a sunvisor body in a sunvisor for a vehicle.例文帳に追加

車両用サンバイザにおいて、サンバイザ本体の外表面を覆う表皮の縁部を合理的に処理する上で有効な技術を提供する。 - 特許庁