| 例文 |
surface stepの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 6410件
A pixel 34 is formed on a light-emitting element forming surface of an element substrate 30 (a step S11), and an adhesion layer La is formed on the pixel 34 to adhere a support substrate 38 to the element substrate 30 (a step S12).例文帳に追加
素子基板30の発光素子形成面に画素34を形成し(ステップS11)、その画素34上に接着層Laを形成して支持基板38を素子基板30に貼着した(ステップS12)。 - 特許庁
After deposition of a first metal film M1 over the backside surface f2 of the silicon substrate in a first chamber ch1 (step s03), it is heat treated to form a metal silicide film E1 (step s04).例文帳に追加
まず、第1チャンバch1内でシリコン基板の裏面f2に第1金属膜M1を堆積(工程s03)した後、熱処理を施すことで金属シリサイド膜E1を形成する(工程s04)。 - 特許庁
The air supply step includes a pressing step to bias the sealing member 34 radially outside by an air pressure and press an outer peripheral part of the sealing member 34 to a wall surface 16a of the air injection port 16.例文帳に追加
空気供給ステップは、シール部材34が空気圧で径方向外側に付勢され、シール部材34の外周部が空気注入口16の壁面16aに押し付けられる押圧ステップを含む。 - 特許庁
The method of manufacturing an electronic component comprises a step for forming a photoresist layer on the surface of a substrate and the inner wall face of through-holes, and a step for obtaining a photoresist pattern by pattern exposing and developing the photoresist layer.例文帳に追加
この方法は、基板表面およびスルーホール内壁面に、フォトレジスト層を形成する工程と、フォトレジスト層をパターン露光して現像することによりフォトレジストパターンを得る工程とを有する。 - 特許庁
A method of forming the pattern includes a step of forming a resist film 102 on a substrate 101 and a step of exposing the surface of the formed resist film 102 with an aqueous solution 103 containing an acid compound having a hydrophilic group, such as, for example, an acetic acid.例文帳に追加
基板101の上にレジスト膜102を形成し、形成されたレジスト膜102の表面を、親水基を有する酸性化合物例えば酢酸を含む水溶液103にさらす。 - 特許庁
To provide an aliphatic polyester film which exhibits a good handleability in its production step, is free form printing displacement, wrinkles, etc., in the processing step and can be strongly bonded to a sealant film by specifying its refractive index, surface roughness, the number of projections and thermal shrinkage.例文帳に追加
製造段階でのハンドリング性が良好で、印刷やラミネート等の加工処理時に印刷ずれやしわ等を発生せず、しかも、良好な接着性の脂肪族ポリエステル系フィルムを提供する。 - 特許庁
In this manufacturing method of a wiring board 10, a through hole forming step of forming a hole 18 for a through hole and a drilling step of forming a first main surface side via hole 56 are firstly executed.例文帳に追加
本発明の配線基板10の製造方法では、まずスルーホール用孔18を形成するスルーホール形成工程と、第1主面側ビア穴56を形成する穴あけ工程とを行う。 - 特許庁
In a method of manufacturing the plastic form, the plastic members are laid at a first step with the projections thereof facing upward, and these projections are fitted to the projections on the lower surface of the plastic members at a second step.例文帳に追加
プラスチック製型枠の作成方法は、1段目に規格化したプラスチック製部材の突起を上面として部材を敷き並べ、次に2段目のプラスチック製部材の下面の突起に嵌合させる。 - 特許庁
The edge part in the side of the opening section 2 out of the upper surface of the bottom section 14 is formed with a recessed step section 31, and the bottom section 14 is formed with a communication hole communicating the inside of the step section 31 with the outside of the heating chamber 4.例文帳に追加
底部14の上面のうち開口部2側の縁部には窪み状の段差部31を形成し、底部14には段差部31内と加熱室4外とを連通させる連通孔部を形成する。 - 特許庁
The reflection plate is manufactured by forming a step-like layer having a cross section with a plurality of trapezoids or rectangles stacked one another on a substrate and coating the surface of the step-like layer with a reflection layer consisting of a reflective material.例文帳に追加
基板上に、複数の台形もしくは長方形形状が重なった階段層を形成し、階段層の表面を反射材料からなる反射層でおおうことにより反射板を形成する。 - 特許庁
At a third step, in the polishing device which has executed the second step, successively pure water is supplied, while a pure water process is carried out in which the semiconductor wafer is pushed against the rotating surface plate.例文帳に追加
第3工程として、第2工程を実行した研磨装置において、引き続いて純水を供給しながら、回転している定盤に半導体ウェハーを押し付ける純水処理を行う。 - 特許庁
The method comprises a fiber surface treatment step 10 and a matrix formation step 20, wherein the steps 10 and 20 include the steps of incorporating an antioxidant material 4 which vitrifies when oxidized into the interface layer and into the matrix, respectively.例文帳に追加
繊維表面処理工程10とマトリックス形成工程20が、インターフェース層及びマトリックスに、酸化してガラス質となる酸化防止材4を含有させる工程14、24をそれぞれ有する。 - 特許庁
From the speed variation thus determined, image information is corrected to create corrected image information (step S7) and a spot is formed on the scanned surface from the corrected image information (step S8).例文帳に追加
そして、求められた速度変動に基づいて、画像情報を補正して補正画像情報を生成する(ステップS7)とともに、該補正画像情報に基づいて被走査面にスポットを形成する(ステップS8)。 - 特許庁
The method for manufacturing the rack shaft which is used in a steering device and also has a tooth surface that is engaged with a pinion shaft includes the first step of forming the rack shaft and the second step of quenching the rack shaft.例文帳に追加
ステアリング装置に用いられるとともに、ピニオンシャフトと噛み合う歯面を有するラックシャフトの製造において、ラックシャフトを形成する第1工程と、ラックシャフトに焼入れを行う第2工程とを行う。 - 特許庁
In the sleeve 1, a step 1b formed at one end side, and an inner peripheral surface 1e forming continuously at the step 1b and extending axially in a straight line shape are formed by working method using a die.例文帳に追加
スリーブ1では、一端部側に設けられる段部1bと、段部1bに連続して軸方向に直線形状に延びる内周面1eとが、金型を用いた加工方法で形成されている。 - 特許庁
A flaw on the surface formed in a grinding step like CMP is removed in a simple step with a compact apparatus, and a high quality ground product can be provided at low cost.例文帳に追加
CMP等の研磨工程で形成された表面の微細な傷を、コンパクトな装置と簡単な工程で除去することが可能となり、低コストで高品位の被研磨製品を提供することができる。 - 特許庁
Then, minute droplets Ds are dropped to form a droplet Dm on the light-retrieving surface (a step S14), and a microlens is formed by hardening the drop Dm (a step S15).例文帳に追加
そして、光取出し面に微小液滴Dsを吐出して光取出し面上に液滴Dmを形成し(ステップS14)、その液滴Dmを硬化することによってマイクロレンズを形成した(ステップS15)。 - 特許庁
The fitting part is formed in the overlapping surface 15 of at least a pair of the tombstone material at the upper step side and the tombstone material at the lower step side of the tomb which is formed by stacking the tombstone materials of two or more steps.例文帳に追加
又、二段以上の墓石材を積み上げて成る墓の少なくとも一組の上位段側の墓石材と下位段側の墓石材との重なり面内に、嵌合部を設けたことを特徴とする。 - 特許庁
When the operation button 4 is turned to a position at which the notch part 4c and the upper step part 21b correspond to each other, a seal member 24 moves two steps of a step part (25a) on the surface of a shaft 25 per knock operation.例文帳に追加
操作ボタン4を切欠部4cと上段部分21bとが対応する位置に回動すると、操作ボタン4のノック操作ごとにシール部材24はシャフト25表面の段部(25a)2つ分移動する。 - 特許庁
In a second step, a paste material 3a containing silica particles by 15% by a volume ratio of the solid content excluding the solvent is applied on the surface of the film 2b formed in the first step.例文帳に追加
第二段階では、含まれるシリカ粒子が溶媒を除いた固形分の体積比で15%含有するペースト材料3aを、第一段階で形成した膜2b表面上に塗布する。 - 特許庁
The method also comprises the steps of rotating the brush 11 in a reverse direction (c) to the rotating direction (a) of the surface of the cylinder B and rubbing the cylinder B with the brush 11 in a cleaning step after the cleaning liquid coating step.例文帳に追加
洗浄液塗布工程の後の洗浄工程において、ブラシ11をブランケット胴Bの表面の回転方向aに対して逆方向cに回転させ、ブラシ11でブランケット胴Bを擦る。 - 特許庁
Preferably, the pressure bonding step includes an oxide removing step for removing the oxides of the pressure bonding surface of the first sheet and/or the second sheet before the first sheet and the second sheet are press-bonded.例文帳に追加
圧着工程において第1シートと第2シートが圧着される前に第1シート及び/又は第2シートの圧着面の酸化物を除去する酸化物除去工程を含むことが好ましい。 - 特許庁
Also, the optical wavefront detection method comprises a step which carries out light reception of the incident wavefront using the microlens array and a step which converts into a real image on the focal surface the image which appears from the microlens array.例文帳に追加
また、光学波面検知方法は、微小レンズアレイを用いて入射波面を受光するステップと、微小レンズアレイから現れるイメージをその焦点面上で実像に変換するステップを含む。 - 特許庁
The method of manufacturing the light emitting element includes a step of forming the nano-structure on a surface of the substrate; and a step of forming thereon a first conductive semiconductor layer, active layer, and a second conductive semiconductor layer.例文帳に追加
発光素子の製造方法は、基板表面にナノ構造体を形成し、その上に第1導電性半導体層、活性層、及び第2導電性半導体層を形成する段階を含む。 - 特許庁
The objective method for producing the optical thin film includes a step S2 for forming an optical thin film 2 on the surface of a substrate 1 and a step S3 for irradiating the formed optical thin film 2 with laser light 3.例文帳に追加
光学薄膜の製造方法において、基材1の表面に光学薄膜2を形成する工程S2と、形成された光学薄膜2にレーザー3を照射する工程S3とを含む。 - 特許庁
The nitriding quenching method comprises: a step of forming a plastic deformation layer by subjecting the surface of the steel member to plastic deformation; and a step of carrying out nitriding quenching by contacting at least the plastic deformation layer to a nitriding gas.例文帳に追加
鉄鋼部材の表層に塑性変形させた塑性変形層を形成する工程と、少なくとも該塑性変形層に、窒化処理ガスを接触させて浸窒焼入れを行う工程と、を含む。 - 特許庁
Subsequently, a second resist layer is formed partially on the surface of the groove filling ink and the die basic material (step S7) and second grooves shallower than the first grooves are made by etching (step S9).例文帳に追加
次いで、溝埋め用インクの表面と型基材の表面の一部とに第2のレジスト層を形成し(ステップS7)、再度エッチング加工を施して第1の溝より浅い第2の溝を形成する(ステップS9)。 - 特許庁
The method for impurity introduction comprises: a first step which includes irradiating a surface of a monocrystalline silicon substrate with neon plasma to form an amorphous layer; and a second step which includes introducing an impurity into the amorphous layer.例文帳に追加
不純物導入方法は、シリコン単結晶基板の表面にネオンからなるプラズマを照射してアモルファス層を形成する第1工程と、アモルファス層に不純物を導入する第2工程とを含む。 - 特許庁
The other objective method for making the refractory material comprises a step for making a refractory material 10b comprising a silicic material and a 2nd step for forming a thermally oxidized film 30b on the surface of the refractory material 10b.例文帳に追加
また、珪素質原料を含む耐火物10bを作製する工程と、この耐火物10bの表面に熱酸化膜30bを形成する工程とを有する耐火物10bの作製方法である。 - 特許庁
A step 11 is formed only at each corner of a can body 2 as a receiving part for stacking cans, and the external surface of the can body 2 on the horizontal extension line of the step 11 is made flat.例文帳に追加
段積み用受け部として缶胴体2のコーナー部分にのみ段差部11を形成し、段差部11の横方向延長線上にある缶胴体2の外表面部を平坦面とする。 - 特許庁
A pixel 34 is formed on a light-emitting element forming surface of an element substrate 30 (a step S11), and an adhesion layer La1 is formed on the pixel 34 to adhere a support substrate 38 to the element substrate 30 (a step S12).例文帳に追加
素子基板30の発光素子形成面に画素34を形成し(ステップS11)、その画素34上に接着層La1を形成して支持基板38を素子基板30に貼着した(ステップS12)。 - 特許庁
The process for producing the electrode of an electrochemical capacitor comprises a first step (S11) for forming an undercoat layer on a collector having a roughened surface, and a second step (S13) for forming a polarizable electrode layer on the undercoat layer.例文帳に追加
表面が粗面化された集電体上にアンダーコート層を形成する第1の工程(S11)と、アンダーコート層上に分極性電極層を形成する第2の工程(S13)とを備える。 - 特許庁
At the surface heating step S10, a temperature of the semiconductor substrate 12 at the depth 50 after the implantation step S8 is kept to be lower than a hydrogen ion outward-diffusion temperature, whereby the surface 12b of the semiconductor substrate 12 is heated until a temperature of the surface 12b of the semiconductor substrate 12 reaches a crystal defect disappearing temperature or higher.例文帳に追加
表面加熱工程S10は、注入工程S8後の前記深さ50の半導体基板12の温度を水素イオン外方拡散温度未満に維持しながら、半導体基板12の表面12bの温度が結晶欠陥消滅温度以上に昇温するまで半導体基板12の表面12bを加熱する。 - 特許庁
Laser light, reflected at a surface of a measured object, is initially received to photograph a surface profile of the measured object by an imaging part which moves by a predetermined step amount in a direction of photographing optical axis, and an optical cut image which contains a profile line image of the surface of the measured object is taken at each step position of the imaging part.例文帳に追加
まず測定対象物の表面で反射したレーザ光を受光して当該測定対象物の表面形状を、撮像光軸方向に所定ステップ量で移動する撮像部により撮像し、撮像部の各ステップ位置における測定対象物表面の形状線像を含む光切断画像を取得する。 - 特許庁
A method for producing a surface-treated metal oxide particle includes a surface treatment step of treating a metal oxide particle with a surface modifier containing a silicon compound having a 4-20C alkenyl group and a silicon compound having a 10-20C alkyl group, and a refining step of cleaning the treated material.例文帳に追加
炭素数4〜20のアルケニル基を有するケイ素化合物及び炭素数10〜20のアルキル基を有するケイ素化合物を含む表面修飾剤で金属酸化物粒子を処理する表面処理工程、ならびに、得られた処理物を洗浄する精製工程を含む、表面処理した金属酸化物粒子の製造方法。 - 特許庁
The method for manufacturing a thin film includes: a step of placing a substrate 20 in a raw material solution which is a material of a thin film formed on a first main surface 20a of the substrate 20; and a step of forming a thin film on the first main surface 20a of the substrate 20 by lighting the substrate 20 from the first main surface 20a side.例文帳に追加
薄膜製造方法であって、基板20の第1主面20a上に形成させる薄膜の原料溶液中に、基板を配置する配置工程と、第1主面20a側から光を照射することにより、基板20の第1主面20a上に薄膜を形成する形成工程とを有する。 - 特許庁
The footrest for the driver includes: a fixation base 50a vertically arranged on a floor surface 200 of a driver's seat; a top plate 30a fixed on the fixation base 50a in a horizontal posture; a step surface pedal plate 10a fixed on the top of the fixation base 50a in a manner to slope down toward a chair; and a step surface plate 40a for the height adjustment.例文帳に追加
運転士用足載せ台は、運転席の床面200に立設される固定台50aと、固定台50aに水平の姿勢で固定される天板30aと、椅子に向けて降傾斜する様態で固定台50aの上部に固定された踏面ペダルプレート10aと、高さ調整用踏面プレート40aから構成されている。 - 特許庁
The surface modification method is comprised of a step for spraying a flame of a fuel gas containing an alkylsilane compound and/or an alkoxysilane compound to the surface of the resin moldings and a step for forming a modified layer by applying a resin composition containing an organosilane to the surface of the resin moldings.例文帳に追加
上記の課題は、アルキルシラン化合物および/またはアルコキシシラン化合物を含む燃料ガスの火炎を樹脂成形体表面に放射する工程、該樹脂成形体表面にオルガノシランを含む樹脂組成物を塗工し、改質層を形成する工程を備えることを特徴とする表面改質方法により解決される。 - 特許庁
To provide a joint structure and a joining method that can easily make a multilayer of fiber reinforced resin layers and metal layers which alternately overlap through a step shape joining surface within a thin total thickness, needless to say on multistaging of the step shape joining surface and also can compose a shape having a plane or an arbitrary curved surface.例文帳に追加
ステップ状接合面を多段化することはもちろん、ステップ状接合面を介して交互に重なる繊維強化樹脂層及び金属層を薄い総厚内でも多層化することが容易であり、平面や任意の曲面をもった形状を構成することもできる接合構造及び接合方法を提供する。 - 特許庁
A sacrificial oxide film 29 is formed on a silicon substrate 2, and then coated with a surface film 11 having an opposite part 17 opposed to one surface of the silicon substrate 2, a step part 19 formed on the one surface of the silicon substrate 2, and a side part 18 connecting the opposite part 17 and step part 19.例文帳に追加
シリコン基板2上に犠牲酸化膜29を形成し、犠牲酸化膜29を、シリコン基板2の一方面に対向する対向部17と、シリコン基板2の一方面に形成された段差部19と、対向部17と段差部19とを連設する側部18とを有する表面膜11で被覆する。 - 特許庁
The image forming method includes at least a step of applying or printing an ink composition to the recording surface of a recording medium and a step of applying or printing a white ink composition containing hollow resin particles, curling preventive agent and water on the opposite surface of the recording surface of the recording medium.例文帳に追加
記録媒体の記録面にインク組成物を塗布または印刷する工程と、当該記録媒体の記録面とは反対面に中空樹脂粒子とカール防止剤と水とを含んでなる白色インク組成物を塗布または印刷する工程と、を少なくとも有することを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁
The substrate manufacturing method includes a step of bringing a treatment liquid containing an aminotetrazole compound, an aminotriazole compound and an alkylamine derivative into contact with at least one surface side of a surface of copper or the copper alloy, and a step of depositing a resist layer on the surface of the copper or the copper alloy with the treatment liquid being brought into contact therewith.例文帳に追加
本発明の基板の製造方法は、アミノテトラゾール化合物とアミノトリアゾール化合物及びアルキルアミン誘導体を含む処理液を、銅または銅合金表面の少なくとも一面側に接触させる工程と、前記処理液を接触させた銅または銅合金表面にレジスト層を形成する工程を含む。 - 特許庁
The escalator 10 is characterized by comprising the escalator moving step 1 on which the photocatalyst is applied onto the foot surface 5 and a light source 2 installed in a structure that the escalator moving step 1 moves with its surface facing downward and emitting ultraviolet onto the foot surface 5.例文帳に追加
また、光触媒が乗降面5に塗布されたエスカレータ移動踏み段1と、エスカレータ移動踏み段1がその表面を下に向けた状態で移動する構造物内に設置され、乗降面5に対して紫外線を照射する光源2とを有することを特徴とするエスカレータ10が提供される。 - 特許庁
The method includes a step where an initiator that is configured to shadow a portion 58 of a surface 34 of a substrate 36 is provided; and a step where a laser 30 is directed toward the surface 34 of the substrate 36 to effect ablation of a non-shadowed portion of the substrate, thus structures 66 are formed on the surface 34 of the substrate 36.例文帳に追加
基板36の表面34の一部58を保護するように構成されたイニシエータ56を準備するステップと、基板36の表面34にレーザー30を向けて、基板のうちの保護されていない部分の削磨を行い、基板36の表面34上に構造体66を形成するステップが方法には含まれる。 - 特許庁
The surface treatment method for the ornament has a process step (2b) for forming a ground surface layer 40 in at least a portion (1b) on the surface of a base material 2 and a step (3b) for forming a film 3 composed of an Au-In alloy containing In 0.1 to 15 wt.% by a wet plating process.例文帳に追加
本発明の装飾品の表面処理方法は、基材2の表面の少なくとも一部に(1b)、下地層40を形成する工程(2b)と、湿式めっき法により、0.1〜15wt%のInを含むAu−In系合金で構成される被膜3を形成する工程(3b)を有することを特徴とする。 - 特許庁
The film deposition method includes a heating step of heating a substrate at the predetermined temperature of substantially 200°C, and a reaction step of performing the film deposition by exposing the surface of the substrate to the alternate surface reaction of a reactive object such as TMA in vacuum while maintaining the surface of the substrate at the predetermined temperature, and growing a thin film on the substrate.例文帳に追加
成膜方法では、基板を所定の温度である略200℃に加熱する加熱工程と、基板の表面を当該所定の温度に維持しながら真空中でTMA等の反応物の交互表面反応に曝して基板上に薄膜を成長させて成膜する反応工程とを行う。 - 特許庁
The manufacturing method includes the step (1) of acquiring a surface-modified workpiece by modifying the surface of a workpiece having a predetermined specification with the use of a vacuum sputtering device, and the step (2) of coating or painting the surface-modified workpiece to finish it into the metallic product.例文帳に追加
バキューム・スパッタリング・デバイスによって所定の仕様のワーク・ピースの表面に表面改質を実施することによって改質されたワーク・ピースを取得するステップ(1)と、改質されたワーク・ピースに対しコーティング加工やペインティング加工などを実施することによって金属製品を製造し出すステップ(2)とを包含している。 - 特許庁
This lens cleaning method comprises a step to immerse the lens in a cleaning liquid and a step to apply an ultrasonic vibration having the megahertz frequency band to the surface of the lens through the cleaning liquid from an oscillation source which has the oscillation surface at an equal distance from every surface of the lens and emits the ultrasonic wave having the megahertz frequency band.例文帳に追加
レンズを洗浄液中に浸漬し、このレンズのあらゆる表面から等距離にメガヘルツ周波数帯の超音波発振源の発振表面を設置し、前記洗浄液を介して前記レンズ表面に前記メガヘルツ周波数帯の超音波振動を作用させることを特徴とするレンズ洗浄方法。 - 特許庁
The method for manufacturing a laminated body, includes: a preparation step of bringing the substrate having a polar surface into contact with a treatment liquid containing cations; and a film formation step of applying a coating liquid containing an anionic group-containing organic compound on the surface of the substrate to form an optical film on the surface of the substrate.例文帳に追加
積層体の製造方法は、表面が極性を有する基材に、陽イオンを含む処理液を接触させる前処理工程と、前記基材の表面に、陰イオン性基を有する有機化合物を含むコーティング液を塗工し、基材の表面に光学膜を形成する製膜工程と、を有する。 - 特許庁
The surface modification method for the carbon aggregate comprises a step wherein the surface of the aggregate obtained by aggregating the powdery carbon grains is impregnated with a resin containing a particle compatible with a fluororesin and a step wherein a powder or a film of a thermoplastic fluororesin is further placed on the resultant surface of the aggregate and subsequently heated and melted.例文帳に追加
また、カーボン凝結体の表面改質方法は、カーボンの粉粒を凝結して成る凝結体の表面にフッ素樹脂と相溶する粒子を含有する樹脂を含浸する工程と、さらに熱可塑性フッ素樹脂の粉末またはフィルムを載置した後に加熱溶融する工程と、を有する。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|