「thickness pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of forming the resist patterns includes cleaning the resist pattern with a rinse liquid having a surface tension of ≤67×10^-3 N/m after selectively exposing and developing resist films formed on a substrate and having a film thickness of ≤50 nm.例文帳に追加

基板上に形成された、その膜厚５０ｎｍ以下であるレジスト膜を選択的に露光し、現像した後、表面張力が６７×１０^−３Ｎ／ｍ以下のリンス液で洗浄することを含むレジストパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a method for producing a split wavelength plate filter excellent in pattern accuracy, uniform thickness and in-plane uniformity and having high reproducibility and high productivity so as to accurately handle the pixel part of a stereoscopic picture display device.例文帳に追加

立体画像表示装置の画素部に対して正確に対応するように、パターン精度や均一厚み、面内均一性に優れ、かつ再現性及び量産性の高い分割波長板フィルターの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device for more appropriately measuring the thickness of a polished and planarized insulating film, a design method of a mask pattern for exposure used for the manufacturing method, and a program for the design method.例文帳に追加

研磨・平坦化された絶縁膜の膜厚をより適切に測定することができる半導体装置の製造方法、この製造方法に用いる露光用のマスクパターンの設計方法及びそのためのプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a light guide plate for planer light source device, in which the ratio of a light diffusion pattern to the other rough surface part can be easily adjusted even if the plate thickness of the light guide plate is reduced, and uniform planar lighting can be performed.例文帳に追加

導光板の板厚を薄くしても、光拡散パターンとその他の粗面部との比率の調整が容易にでき、均一な面照明を可能にする面光源装置用の導光板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve the pattern accuracy of a bit line and wiring having different film thickness, to make shallow a through-hole which is to be formed between bit lines through self-alignment, and to reduce the resistance of the bit line and wiring, concerning a semiconductor device provided with a COB type DRAM.例文帳に追加

ＣＯＢ型ＤＲＡＭを備えた半導体装置に関し、膜厚の異なるビット線と配線のパターン精度を高くし、セルフアラインでビット線間に形成されるスルーホールを浅くし、ビット線と配線を低抵抗化すること。 - 特許庁

The optimum position of a focus sensor which does not cause a focus error for the amount of thickness of the lower pattern can be selected, by comparing the measured result of the dummy patterns 1 with the measured results of the focus sensor positions (1)-(6), and performing the abstraction work of several steps.例文帳に追加

ダミーパターン１の測定結果とフォーカスセンサ位置 〜 の測定結果を比較し，数ステップの抽出作業を行うことより，下層パターンの膜厚分の焦点誤差を生じない最適なフォーカスセンサ位置を選択することができる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition and a photosensitive element which suppress thickness reduction of a pattern and allow production of a liquid crystal display capable of displaying a high-quality image free of display unevenness, and a method for producing liquid crystal spacers.例文帳に追加

パターンの膜減りを抑制し、表示ムラのない、高品位な画像を表示することができる液晶表示装置の製造が可能な感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びに液晶スペーサーの製造方法を提供する。 - 特許庁

The thickness of the copper-plated film 13 at the central region of the wide wiring groove is increased by the slit groove pattern 5b, thus suppressing the decrease (dishing) in the film of the copper- plated film at the central region of the wide groove wiring 15 in the CMP polishing.例文帳に追加

スリット溝パターン５ｂにより広幅配線溝中央部領域の銅めっき膜１３の厚さが増加し、ＣＭＰ研磨における広幅溝配線１５中央部領域の銅めき膜１３の膜減り（デッシング）が抑制できる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multilayer substrate on which conductor patterns causing no disconnection or short circuit, particularly, a portion for connecting end portions of respective conductor pattern layers, can be formed with a required thickness and line width and favorable location accuracy.例文帳に追加

断線やショ—トを生じることのない導電体パタ—ン、特に導電体パ夕—ン各層の端部接続部を所望の厚みおよび線幅にかつ位置精度よく形成することができる多層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a printed board of good conductivity for forming a circuit pattern of a high density and turning a conductor layer formed inside a via hole and a through-hole to a sufficient thickness.例文帳に追加

高密度の回路パターンを形成することを可能とすると共にビアホール内及びスルーホール内に形成する導体層を十分な厚みにすることができる、電気的導通の良好なプリント基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for semiconductor elements which is capable of obtaining a uniform plating thickness by an electroless plating that is used in a bump manufacturing process and a bonding pad rearrangement pattern manufacturing process in the manufacturing process for a semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子の製造工程中にバンプ製造工程及びボンディングパッドの再配置パターンの製造工程などに用いられる無電解メッキで均一なメッキ厚さを得ることができる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition which avoids cracking of a resist pattern in plating, without having to add any plasticizer, and can obtain a wrinkle-free uniform film thickness when a resist film is formed of the photoresist composition.例文帳に追加

可塑剤を添加しなくてもメッキ時に、レジストパターンにクラック等が生じないフォトレジスト組成物であって、当該フォトレジスト組成物でレジスト膜を形成する場合、しわのない均一な膜厚を得ることができるフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Since two resin layers 33 are spaced apart through a gap "g" in the thickness direction in the fringe region Q of the conductor pattern 34, magnetic saturation of a magnetic circuit due to the magnetic flux is suppressed, and the inductance can be enhanced.例文帳に追加

２つの樹脂層３３は、第１導体パターン３４の外縁領域Ｑにおいて厚み方向にギャップ「ｇ」を有して離隔しているため、この磁束による磁気回路の磁気飽和は抑制され、インダクタンスを高くすることができる。 - 特許庁

To provide an antenna device and an electronic device which can be made small in size and thin in thickness, and can easily be packaged with respect to the antenna device and the electronic device which are formed on a substrate and in which elements are formed with an opened pattern.例文帳に追加

基板上に形成され、開放されたパターンによりエレメントが形成されたアンテナ装置及び電子装置に関し、小型、薄型化でき、実装を容易に行えるアンテナ装置及び電子装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The film thickness measuring device has an imaging part 32 which acquires a plurality of monochromatic images corresponding to a plurality of wavelengths, respectively, and a plurality of reference monochromatic images which indicate a pattern on a reference substrate are acquired by the imaging part 32.例文帳に追加

膜厚測定装置は、複数の波長にそれぞれ対応する複数の単色画像を取得する撮像部３２を有し、撮像部３２により参照基板上のパターンを示す複数の参照単色画像が取得される。 - 特許庁

The composite diaphragm structure is realized in this way, electrodes 103, 104 to stimulate thickness vibration are formed to this diaphragm part, and the crystal vibrator on which pattern electrodes of lead-out electrodes 105, 106 are formed can be realized.例文帳に追加

このように複合ダイヤフラム構造を実現し、このダイヤフラム部に厚み振動を励振する電極１０３，１０４を形成し、さらに引出し電極１０５，１０６のパターン電極も形成された水晶振動子を実現する。 - 特許庁

Thereby, the gap between the antenna element 6 and the ground can be expanded by maximally utilizing the thickness of the housing 2, and a band wider than that in utilizing the ground pattern 7 of the circuit board 3 can be achieved.例文帳に追加

これにより、携帯無線機１の筐体２の厚みを最大限有効に活用してアンテナ素子６とグランドとの間隔を広げることが可能となり、回路基板３のグランドパターン７を利用する場合と比べて広帯域化が図れる。 - 特許庁

To form a circuit pattern of a micro semiconductor element by a method wherein the thickness of a photoresist is made thin, and a high etching selectivity ratio is made possible between the photoresist and the lower thin film to be etched.例文帳に追加

フォトレジストの厚さを薄くし、フォトレジストとエッチングされる下部薄膜との間で高いエッチング選択比を実現することで微細な半導体素子の回路パターンを形成することができる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a contrast improvement filter 10 obtained by an inventive manufacturing method, a dark color convex pattern layer 2, instead of a dark color strip part, is printed and formed on a transparent base material 1 preferably via a primer layer 3 of a unique thickness shape.例文帳に追加

本発明の製造方法で得られるコントラスト向上フィルタ１０は、透明基材１上に好ましくは特有の厚み形状のプライマ層３を介して、暗色条部の代わりに暗色凸状パターン層２を印刷形成する。 - 特許庁

In the inkjet recording medium with one or more ink receiving layers coated on one surface of a substrate, a sheet of paper, wherein a watermark pattern obtained by partially changing thickness is formed on a non-coating surface side of the ink receiving layer, is used as the substrate.例文帳に追加

基材の片面に一層以上のインク受容層が塗設されたインクジェット記録媒体において、該基材として、該インク受容層の非塗設面側に、厚みを部分的に変化させてなる透かし模様が形成された紙を用いる。 - 特許庁

To form a pattern of a core so as not to increase thickness of plating in both end parts in a width direction of a belt-shaped work by concentration of a current to the core in these parts when electroplating a surface of the core provided on the belt-shaped work.例文帳に追加

帯状ワークに設けられたコアの表面に電解メッキを施す際に、帯状ワークの幅方向の両端部でコアに電流が集中してその部分のメッキが厚くならないように、コアのパターンを形成する。 - 特許庁

To prevent the flowing of an adhesive for bonding a slider out of a fixed part, and to prevent the tilting of the slider cased by the thickness of a wiring pattern during bonding regarding a head slider support.例文帳に追加

本発明はヘッドスライダ支持体に関し、スライダを接着するときの接着剤が固定部外に流出しないようにすると共に、接着の際にスライダが配線パターンの厚みによって傾かないようにすることを目的とする。 - 特許庁

An end part 4a of a frame body 4 for soldering the frame body 4 and a conductive pattern 2 of a printed wafer 1 by solder 5 are formed thinner than a plate thickness of the frame body 4 for cutting the solder 5 and miniaturization or weight reduction of the printed wafer 1 is realized.例文帳に追加

枠体４とプリント基板１の導電パターン２とを半田５付する枠体４の端部４ａを枠体４の板厚より細く形成し、半田５を減少させると共に、プリント基板１を小型化又は軽量化させた。 - 特許庁

To provide an application method by which an application speed pattern can be determined in a simple manner and dripping can reliably be prevented regardless of physical properties of the coating solution, the aimed coating thickness, or the application apparatus while the treatment efficiency being kept stably.例文帳に追加

簡便な方法で塗布速度パターンを決定することができ、処理効率を維持しつつ、塗布液の物性、目的とする膜厚及び塗布装置の構成によらずダレを確実に防止することが可能な塗布方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for producing a positive photosensitive resin composition which is developed with an alkaline aqueous solution in a short time, is produced in commercial production facilities, and forms a pattern having high resolution and high film thickness retention.例文帳に追加

アルカリ水溶液による短時間での現像が可能であり、量産設備で製造が可能で、かつ高解像度で膜厚保持率の高いパターンを形成できるポジ型感光性樹脂組成物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

When determining the film thickness optically by using visible light, since an object pattern has the size of about one-tenth of a detection wavelength after 45 nm node to be below a resolution, the measuring object can be assumed as a uniform layer structure, and the film thickness measurement in a short time can be realized by using an assumed model.例文帳に追加

可視光を用いて光学的に膜厚を求める場合、４５ｎｍノード以降では対象パターンが検出波長の１０分の１程度の大きさとなり解像度以下となるため、被計測対象を均一な層構造と仮定することができ、仮定したモデルを用いることにより短時間での膜厚計測を実現することができる。 - 特許庁

The decorative sheet is constituted by arranging at least a pattern layer 2 and a biaxially oriented transparent polyester resin sheet 4 on a thermoplastic resin base material 1 in this order, wherein thickness of the thermoplastic resin base material is 80 to 110 μm and thickness of the biaxially oriented transparent polyester resin sheet is 75 to 110 μm.例文帳に追加

熱可塑性樹脂基材上１に絵柄層２と２軸延伸透明ポリエステル樹脂シート４とを少なくともこの順に設けてなることを特徴とする化粧シートにおいて、前記熱可塑性樹脂基材の厚みが８０〜１１０μｍ、前記２軸延伸透明ポリエステル樹脂シートの厚みが７５〜１１０μｍであることを特徴とする。 - 特許庁

In the master information carrier 2 wherein a magnetic section having the pattern corresponding to the information and consisting of a ferromagnetic thin film is provided onto a transfer surface for magnetically transferring the information to the magnetic recording medium 1, the film thickness on the outer peripheral side is thicker than the film thickness on the inner peripheral side with respect to the ferromagnetic thin film.例文帳に追加

磁気記録媒体１に対して情報を磁気転写するための転写面に対して前記情報に対応したパターンで強磁性薄膜からなる磁性部が設けられているマスター情報担体２であって、前記強磁性薄膜に関して外周側における膜厚が、内周側における膜厚よりも大きくされている。 - 特許庁

To provide an optical imprint method that measures a remaining film thickness of a dummy pattern so as to recognize a remaining film amount after imprint without cutting an effective region, to allow the same substrate, whose remaining film thickness is actually measured, to advance to etching being the next process, to feedback the remaining film amount to the etching conditions, and consequently, to reliably achieve stable processing.例文帳に追加

本発明は、ダミーパターンの残膜厚さを測定することで、有効領域を切断することなくインプリント後の残膜量を把握することができ、残膜厚さを実際に測定した同一基板を次工程であるエッチングに進めることができ、残膜量をエッチング条件にフィードバックさせることが可能であり、確実に安定した加工を実現できる。 - 特許庁

To provide a card having a magnetic stripe and a method for manufacturing the same which prevent a pattern from becoming distorted due to a heat press mark in heat molding, during manufacturing of the card with a magnetic stripe, preventing a mounted contact type IC module from being observed through, and minimizing thickness and variation in thickness for preventing separation between layers.例文帳に追加

磁気ストライプ付カードの製造において、熱成形時の熱プレス跡により絵柄が歪まないようにし、接触型ＩＣモジュールを配置しても透けずに、かつできる限り薄くし、厚みばらつきを小さくし、層間剥離を起こさないような磁気ストライプを有するカード及びその製造方法を提供する事を目的とするものである。 - 特許庁

Then the insulating material layer is removed secondarily by a normal wet etching method or a dry etching method, to a prescribed protruded thickness from the surface of the semiconductor substrate, namely a thickness equal to the insulating material layer which is removed at intermediate treatment process, after removing the CMP cut-off pattern and before forming a gate oxide film is left.例文帳に追加

次に、半導体基板の表面から所定の突出した厚さ、すなわち、ＣＭＰ遮断パターンを除去してからゲート酸化膜を形成する前までの中間処理工程時に除去される絶縁物質層の厚さに該当する厚さが残るまで絶縁物質層を通常のウェットエッチング法またはドライエッチング法により２次的に除去する。 - 特許庁

This method of manufacturing display device includes a step of patterning a resist layer 2 having a thickness excluding the thickness of the thickest resist film of a plurality of resist films having different film thicknesses in an area 13 other than a display area in a photoengraving process in which the plurality of resist films are provided for forming the pattern of the display device on the surface of a substrate 5.例文帳に追加

基板５表面上に表示装置のパターンを形成するために、複数のレジスト膜厚を設ける写真製版工程において、表示領域以外の領域１３に、前記複数のレジスト膜厚のうち、最も厚いレジスト以外の厚さを有するレジスト層２をパターン形成する工程を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 特許庁

A coating quantity of a paint 3a per unit area of the panel base material 1a by a flow coater coating portion 2 is changed continuously, by which a flow coater coating layer 3 is formed by changing continuously the coating thickness to allow the gradation pattern to appear on a decorative coating layer 4 responding to the continuous change of the coating thickness of the flow coater coating layer 3.例文帳に追加

フローコーター塗装部２によるパネル基材１ａの単位面積当たりの塗料３ａの塗布量を連続的に変化させることで、フローコーター塗装層３の塗装厚みを連続的に変化させて形成し、上記フローコーター塗装層３の連続した塗装厚みの変化に応じたグラデーション模様を化粧塗装層４に現出させる。 - 特許庁

Hole 104 of the depth less than the thickness of a screen 103 are formed on one face of the screen, while holes 107 formed of the depth less than the thickness of the screen and forming a printed pattern are formed on the other face, and a printing material 109 is applied on a body 108 to be printed by a squeegee 110 through holes 104 and 107.例文帳に追加

スクリーン１０３には、その厚さ未満の深さに孔１０４が一方の面に形成され又、前記厚さ未満の深さで印刷パターンを形成する孔１０７が他方の面に形成されており、印刷材料１０９はスキージ１１０によって、前記孔１０４、１０７を介して被印刷体１０８に被着される。 - 特許庁

By using a photomask or a reticle provided with an auxiliary pattern made of a diffraction grating pattern or a semi-permeable membrane and having a function of light intensity reduction, a partition wall having portions with different film thickness is formed on a pixel electrode (also called first electrode) in a display region and around a pixel electrode layer without any increase of processes.例文帳に追加

回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることにより、工程を増やすことなく、表示領域における画素電極（第１の電極とも呼ぶ）上、及び画素電極層周辺に膜厚が異なる部分を有する隔壁を形成する。 - 特許庁

An acceleration sensor includes: a front pattern composed of a weight part 1A, a frame part 2 and a beam part 3 formed by etching a semiconductor substrate from the front by the thickness of the beam part 3; a back pattern formed by etching from the back with the beam part 3 left; and a through hole penetrating the semiconductor substrate between the weight part 1A and the frame part 2.例文帳に追加

加速度センサは、半導体基板を表面から梁部３の厚さだけエッチングして形成された錘部１Ａ、枠部２及び梁部３からなる表面パターンと、裏面から梁部３を残すようにエッチングして形成された裏面パターンと、錘部１Ａと枠部２の間に半導体基板を貫通する貫通孔を有している。 - 特許庁

A method of manufacturing the surface emitting laser element includes: laminating a transparent dielectric layer 111a with an optical thickness of λ/4 on an upper surface of a laminated body; forming, on an upper layer thereof, a first resist pattern 120a defining an outer shape of a mesa structure and a resist pattern 120b protecting a region corresponding to a low reflection rate part included in an emitting region; and etching the dielectric layer 111a.例文帳に追加

積層体の上面に、光学的厚さがλ／４の誘電体層１１１ａを積層し、その上面に、メサ構造体の外形を規定するレジストパターン１２０ａ及び出射領域における反射率が低い部分に対応する領域を保護するレジストパターン１２０ｂを形成・硬化させた後、誘電体層１１１ａをエッチングする。 - 特許庁

The adhesive seal capable of coloring is provided with an adhesive layer outer peripheral edges of which are formed by being fitted to an outer peripheral shape of a desired pattern, a colorant supporting layer formed on the adhesive layer and a contour line which is formed on a surface of the colorant supporting layer, defines contour lines of the pattern and has desired thickness and desired width.例文帳に追加

ぬり絵可能な粘着シールは、外周縁が所望の図柄の外周形状に合わせて形成された粘着層と、該粘着層の上に形成された着色材支持層と、該着色材支持層の表面に形成されていて図柄の輪郭を画成する輪郭線であって、所望の厚さ及び所望の幅を有する輪郭線とを備え - 特許庁

The pattern forming method includes a stage of forming an oxygen blocking film 120 on a photosensitive resin film 110, a stage of exposing the photosensitive resin film 110 where the oxygen blocking film 120 is formed to a light pattern, and a stage of developing the exposed photosensitive resin film 110, wherein the oxygen blocking film is 0.01 to <0.1 μm in thickness.例文帳に追加

感光性樹脂膜１１０上に酸素遮断膜１２０を形成する工程と、酸素遮断膜１２０が形成された感光性樹脂膜１１０に対して光パターンを露光する工程と、露光された感光性樹脂膜１１０を現像する工程と、を備え、酸素遮断膜の膜厚が０．０１μｍ以上０．１μｍ未満である。 - 特許庁

To provide a multilayer wiring substrate which is electromagnetically superior and also superior in heat dissipation and has via holes with high connection reliability, by controlling the thickness of a second insulating layer on the wiring patterns, while taking into account the area ratio of the second insulating layers for buring wiring patterns and all the wiring patterns having a signal pattern and a dummy pattern, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

配線パターンを埋め込むための第２の絶縁層と、シグナルパターンとダミーパターンとを有する配線パターン全ての面積率を考慮し、配線パターン上の第２の絶縁層の厚みを制御することで電磁気的・放熱的に優れ、かつ高い接続信頼性を有するビアホールを備えた多層配線基板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photomask blank which is capable of shortening the dry-etching time by increasing the dry-etching speed of a light shielding film, reducing the film reduction of a resist film, improving resolution and pattern accuracy (CD accuracy) by reducing the thickness of the resist film, and forming a light shielding film pattern having a good cross-sectional shape due to the reduction of the dry-etching time.例文帳に追加

遮光膜のドライエッチング速度を高めることで、ドライエッチング時間が短縮でき、レジスト膜の膜減りを低減することができ、レジスト膜を薄膜化して解像性、パターン精度（ＣＤ精度）を向上でき、ドライエッチング時間の短縮化による断面形状の良好な遮光膜のパターンが形成することができるフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁

To provide a column spacer composition enabling simultaneous formation of a saturated pattern and a semi-transmissive pattern as column spacer patterns having different shapes, whose difference in thickness is controllable as desired although the sensitivity is slightly reduced, through a slit or semi-transmissive mask by varying the kind and amount of the radical polymerization inhibitor.例文帳に追加

本発明は、カラムスペーサの中でもスリットや半透過マスクを用いて同時に２つの異形状のカラムスペーサを作製する特殊な場合において、ラジカル重合禁止剤の種類や量を変更することにより、感度は小幅減少しても２つのパターン(飽和パターン、半透過パターン)の差を自由に調節できるカラムスペーサ組成物を提供することができる。 - 特許庁

Consequently, in the light guide plate 2 formed by the manufacturing method, even if the plate thickness is reduced, progress of light propagating from an incident surface 4 side toward a tip side 21 is hardly disturbed by the minus protrusions 14b of the rough surface pattern 14, and the formation ratio of the rough surface pattern 14 to the rough surface part 15 can be easily adjusted.例文帳に追加

その結果、本発明の製造方法によって形成される導光板２は、その板厚を薄くしたとしても、入射面４側から先端側２１へ向かって伝播する光の進行が粗面パターン１４のマイナス突起１４ｂで邪魔されることが少なく、粗面パターン１４と粗面部１５の形成比率を調整することが容易になる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electric solid device by which even when an aperture pattern is formed by dry-etching an overlay conductive film on an insulating film, an insulating film with an appropriate film thickness can be left in a region overlapping the aperture pattern, and to provide an electric solid device and a liquid crystal device having the electric solid device as an element substrate.例文帳に追加

絶縁膜上で上側導電膜にドライエッチングを行って開口パターンを形成する場合でも、開口パターンと重なる領域に適正な膜厚の絶縁膜を残すことのできる電気的固体装置の製造方法、電気的固体装置、および該電気的固体装置を素子基板として備えた液晶装置を提供すること。 - 特許庁

The thin and long masks 5 and the mask 4 having the pattern are used as an etching mask, and anisotropic etching of which etching speed in a widthwise direction is higher than that in a thickness direction is adopted to form a specified pattern in the ZnO layer 3 to be left, and then the ZnO layer 3 to be removed is removed and the square masks 5 are peeled.例文帳に追加

複数の細長のマスク５及び上記パターンのマスク４とをエッチングマスクとして、厚さ方向のエッチング速度よりも幅方向のエッチング速度が速い異方性エッチングにより、残存対象のＺｎＯ層３に所定のパターンを形成するとともに、除去対象のＺｎＯ層３を除去して複数の矩形マスク５を剥離する。 - 特許庁