「thickness pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

A second MR element 22 of a plurality of test patterns TEG is provided with the same material, film thickness and track width Tw as those of a first MR element in a thin film magnetic head with the height h formed differently depending on each test pattern TEG.例文帳に追加

複数のテストパターンＴＥＧの第２ＭＲ素子２２は、薄膜磁気ヘッド１０における第１ＭＲ素子３と同一の材料、同一の膜厚及び同一のトラック幅Ｔｗであって、それぞれのテストパターンＴＥＧによってハイトｈが異なるように形成される。 - 特許庁

To provide a multilevel gradation photomask to be used for manufacturing a TFT substrate or the like, wherein even when fluctuation in the residual film thickness of a resist exposed through a transflective part is adjusted by a photoirradiation amount, less influence is given to the pattern in another part.例文帳に追加

ＴＦＴ基板等の製造に用いられる多階調フォトマスクにおいて、半透光部を介して露光されたレジストの残膜厚のバラつきを光照射量で調整しても、他の部分のパターンに影響の少ないものを提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide printing quality controlling method and device in multiple type page imposed printing in which the ink supply or printing pressure in the multiple type page imposed printing can be automatically adjusted in response to the result of measurement obtained by measuring the thickness of an ink film and the amount of embossing of a picture pattern having embossing parts.例文帳に追加

エンボス部を有する図柄のインキ皮膜厚さやエンボス量を測定し、測定結果に応じて多面付け印刷でのインキ供給量や印圧を自動調整し得るようにした多面付け印刷の印刷品質管理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having an electric resistance measurement pattern which is suitable for specifying places where a film thickness is thinned in a wiring of a Cu wiring or the like, for example, by a CMP treatment without increasing any chip size, and also to provide a method of manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

チップサイズを増大させることなく、Ｃｕ配線等の配線における例えばＣＭＰ処理による膜厚の薄膜化が起こった箇所を特定するのに好適な電気抵抗測定パターンを有する半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the semiconductor chip 15 is packaged on the wiring pattern 14 having satisfactory connectivity, the reliability of wiring is improved, the entire thickness is reduced, the degree of freedom is applied to the location of external terminals 18 and it is possible to meet the demand for size reduction of the semiconductor device.例文帳に追加

接続性が良好な配線パターン１４上に半導体チップ１５を搭載することで、配線の信頼性を向上し、全体の厚みを縮小し、且つ、外部端子１８の配置に自由度を与え、半導体装置のサイズ縮小の要求に応える。 - 特許庁

In the pattern correction method, correcting ink 7 is heated by a heater 10 to make the thickness uniform, after applying the correcting ink 7 onto a white defect 6a of a pixel 6 of a liquid crystal color filter substrate 1, and a viscosity of the correcting ink 7 is reduced.例文帳に追加

このパターン修正方法では、液晶カラーフィルタ基板１の画素６の白欠陥６ａに修正インク７を塗布した後、修正インク７の厚みが均一になるように、加熱装置１０によって修正インク７を加熱し、修正インク７の粘度を低下させる。 - 特許庁

This microbial carrier 1 is obtained by laminating sheetlike water-permeable members 2 until a prescribed thickness is attained heating and pressing the resultant laminate with a forming mold having protruding parts 3a of a prescribed pattern and mutually fixing the sheetlike water- permeable members 2 in sites pressed with the protruding parts 3a.例文帳に追加

シート状通水性部材２を所定の厚さになるまで積層し、これを所定の模様の凸部３ａを有する成形型で加熱とともに押圧し、前記凸部３ａで押圧される部位でシート状通水性部材を互いに固着させ、微生物担体１とする。 - 特許庁

To provide a processing method for a plastic material, which enables the faithful formation of a fine pattern with a high aspect ratio and which can make the thickness of a molded article extremely uniform, the molded article formed by the processing method, and processing equipment.例文帳に追加

微細でハイアスペクト比のパターンを忠実に形成することができ、さらに成形品の厚みを極めて均一にすることが可能なプラスチック材料の加工方法及びその加工方法により形成された成形品並びに加工装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an offset print method, where machinable dimensional precision following the creation of a plate in an offset print method, or the like does not become any problems, and pattern precision does not become uneven if print pressure and a blanket thickness vary when transferring ink to a press plate.例文帳に追加

オフセット印刷方法等における版作成にともなう加工可能な寸法精度が問題にならないとともに、刷版へのインキ転写の際、印圧やブランケットの厚さにバラツキがあるとパターン精度にムラも生じないオフセット印刷方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a laminated body of a conductive layer/a polyimide film/an adhesive with high heat resistance, a narrow pitch wiring pattern, a small diameter via hole, a uniform insulation layer thickness and an appropriately low linear expansion coefficient, which is suitable for manufacturing a highly reliable multi-layered printed-wiring board.例文帳に追加

高耐熱性、挟ピッチ配線パターン、小径ヴィアホール、均一な絶縁層厚み、適度に低い線膨張係数を有し、信頼性の高い多層プリント配線板製造に適した導体層／ポリイミドフィルム／接着剤積層体を提供することを目的とする。 - 特許庁

A mold 1 with a rugged pattern formed is pressed against an ultraviolet ray setting resin 3 which is applied to a substrate 2, so that a projection 3a and a flat base 3b having a first predetermined thickness are formed on the resin 3 and then cured.例文帳に追加

凹凸パターンが形成された型１を基板２上に塗布された紫外線硬化型樹脂３に押し付けて、その樹脂３に凸部３ａと第１の所定の厚さを有する平らなベース部３ｂとを成形し、凸部３ａ及びベース部３ｂを硬化させる。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device capable of executing complete patterning by preventing the remainder of polyimide due to deficient exposure at thick parts of a positive photosensitive polyimide film and occurrence of pattern disturbance due to over-exposure at thin parts in the patterning of the positive photosensitive polyimide film whose thickness is ununiform.例文帳に追加

厚みの異なるポジ型感光性ポリイミド膜のパターニングにおいて、厚い箇所での露光不足によるポリイミド残りと浅い箇所での過露光によるパターン乱れを防止して、完全なパターニングができる半導体装置の製造方法を提供すること - 特許庁

To provide a measuring apparatus which can precisely, simply, and quickly specify measuring pattern species, measure a film thickness and process end points in a film eliminating process and a film forming process, for a substrate having a pattern structure constituted of various pattern species, a substrate in an STI(shallow trench isolation) process and a substrate in a Cu process in which a barrier metal layer exists.例文帳に追加

様々なパターン種から構成されるパターン構造を有する基板、更にＳＴＩ工程の基板及びバリアメタル層の存在するＣｕ工程の基板に対しても、測定しているパターン種（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ）の特定、膜厚の測定、膜の除去工程、成膜工程に於ける工程終了点の測定を精度良く、簡便、且つ高速に行うことができる測定装置及び測定方法及びこの測定装置を用いた研磨装置及びこの測定方法を用いた研磨方法を提供すること。 - 特許庁

In the method for producing the tire molding mold by way of a casting/reversing process from a pattern to a rubber mold, from the rubber mold to a casting mold, and from the casting mold to a casting, the rubber mold 12 in which a rubber layer 21 is made to have a uniform thickness T in general and a thickness T+ΔT locally is used.例文帳に追加

原型からゴム型、ゴム型から鋳型、鋳型から鋳物の注型・反転工程を経てタイヤ成形用金型を製造する方法において、ゴム型１２として、ゴム層２１の肉厚を全体的に均一な厚みTにしておき、部分的に厚さΔTだけ他の部分より厚くしたものを用い、注型ゴム材の収縮特性を利用して、プロファイル面形状をタイヤの半径方向にα・ΔTだけ拡張変形させておく。 - 特許庁

Consequently, the display state of auxiliary attributes relating to the whole contents or object such as the attributes changing in, for example, the color, the thickness, the shape, and the pattern can be changed according to the zooming operation contents of the browsing person, so the operability of zooming can be improved.例文帳に追加

これにより、例えば、色、太さ、形状、パターンが変化する属性のようなコンテンツ全体もしくはオブジェクトに係る補助的な属性の表示状態を閲覧者のズーム操作内容に従って変化させることができるので、ズーミングにおける操作性を向上させることができる。 - 特許庁

Each of the optical components 1 has a shape wherein the thickness decreases as it is separated from the optical axis and has an emission face 22 on which a region 221b having different optical characteristics is arranged in a pattern having geometric periodicity, and has a contour shape viewed from the irradiation face 5 side formed in a square.例文帳に追加

各光学部品２ｂは、光軸から離れるに従い厚みが漸減する形状で、出射面２２に光学特性の異なる領域２２１ｂが幾何的に周期性を持つパターンで配置され、照射面５側から観た輪郭形状が正方形で形成されている。 - 特許庁

Thus, the width of the respective circuit patterns 3 or the width of an isolation groove 4 between the circuit patterns can be still kept in the same state when a single lead frame 1 is formed, and only the thickness of the circuit pattern 3 can be made large in proportion to the number of the stacked lead frames 1.例文帳に追加

こうすると、各回路パターン３の幅や回路パターン３間にある分離溝４の幅は、単独のリードフレーム１を形成したときの状態と同じまま、回路パターン３の厚さだけを、重ねあわせたリードフレーム１の枚数に比例して増加させることができる。 - 特許庁

To provide an embroidery thread excellent in strength in overedging of an embroidery pattern as compared with those of conventional nylon or rayon embroidery threads, capable of reducing its thickness, and capable of improving the appearance quality of a product, and touch and texture of an overedge part using the same for sewing up the overedge of the embroidery patterns.例文帳に追加

刺繍柄の縁かがりにおいて、従来のナイロンやレーヨンの刺繍糸に比べて強度に優れ、太さを細くすることができ、刺繍柄縁かがりの縫い合せに使用して製品の外観品位と縁かがり部の風合触感を改善することが可能な刺繍用縫い糸を提供する。 - 特許庁

In addition, a certain thickness of a conductor pattern 13 of the circuit board 10 having no (or small) anisotropy in thermal conduction is secured, and heat transmitted through the insulating substrate 11 is previously diffused in a direction of a surface jointed with the base 3, thereby a conductive area is expanded.例文帳に追加

また、熱伝導に異方性のない（又は小さい）回路基板１０の導体パターン１３の厚みをある程度確保して、絶縁基板１１を経由して伝達される熱を放熱用ベース３との接合面の方向に予め拡散して伝導面積を広げることとした。 - 特許庁

To provide an original-wood decorative component with high decorativeness and a fine appearance, which can suppress a great increase in the thickness of an existing product and make light evenly emitted all over a woodgrain pattern, by installing an EL performing plane light emission inside sliced veneer of the original-wood decorative component.例文帳に追加

本木加飾部品のつき板より内側に面発光であるＥＬを設置することで、既存品からの厚さの大幅な増加を抑え、且つ、木目柄を全面ムラなく光らせることができる高い装飾性・美観性を持った本木加飾部品を提供することを目的とする。 - 特許庁

To prevent the waving of a polymer solution and the generation of a wind pattern on the surface of the solution in a mold and to provide a method for producing a seamless belt the thickness of which is 50 μm-1 mm, especially at least 80 μm, and can be uniform.例文帳に追加

金型内で高分子材料溶液が波打ったり、表面に風紋状の模様が生じるのを抑制防止し、厚さ５０μｍ以上、特には８０μｍ以上、通常１ｍｍ以下の厚いシームレスベルトの肉厚の均一化を図り得るシームレスベルトの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electromechanical conversion film capable of forming the electromechanical conversion film of a desired pattern having a uniform film thickness when discharging a coating liquid containing a raw material for forming the electromechanical conversion film from a nozzle and coating an electrode with the liquid.例文帳に追加

電気機械変換膜を形成するための原料を含む塗布液をノズルから吐出させて電極上に塗布する場合に、均一な膜厚を有する所望パターンの電気機械変換膜を形成することができる電気機械変換膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the photosensitive resin composition can be developed with only an aqueous alkali solution as a developing solution at a high developing speed, a good light-colored negative type pattern film having high sensitivity, high resolution and little reduction in film thickness can be formed while preventing coloration.例文帳に追加

このような感光性樹脂組成物によれば、アルカリ水溶液のみを現像液として用い、迅速な現像速度において現像でき、その結果、高感度および高解像度で、膜減りの少ない、良好なネガ型のパターンの皮膜を、着色を防止して淡色で形成することができる。 - 特許庁

To provide a decorative sheet characterized in that the sum total thickness of a synthetic resin layer is 100 μm or above, suitable for bending processing, not causing the lowering of design properties due to whitening at the time of bending processing, good in the sharpness of a pattern and capable of being reduced in production cost.例文帳に追加

合成樹脂層の合計厚さが１００μｍ以上である、折り曲げ加工に適した化粧シートであって、折り曲げ加工時に白化による意匠性の低下がなく、絵柄模様の鮮明性が良好であり、しかも生産コストを低減できる化粧シートを提供する - 特許庁

A sapphire substrate is used as a different kind of substrate 11, then a buffer layer (not shown in figure) having a film thickness of ≤300 Å and composed of GaN is formed on the sapphire substrate by using a MOCVD system, and a catalyst layer 12 is formed in a pattern form on the different kind of substrate 11 (a).例文帳に追加

異種基板１１としてサファイア基板を使用し、ＭＯＣＶＤ装置を用いて前記サファイア基板上に３００Å以下の膜厚でＧａＮからなるバッファー層（図示せず）を形成した後、前記異種基板１１の上に触媒層１２をパターン形成する（ａ）。 - 特許庁

The stationary electrodes 21 of the conductor pattern 20 are set nearly equal to each other in width and arranged nearly at a constant interval, parts of the resistor 30 located above the stationary electrodes 21 are set uniform in thickness, and the resistor 30 is restrained from varying in resistance so as to be kept stable in resistance.例文帳に追加

導体パターン２０の各固定電極２１を、それぞれの幅を略等しくし、かつ略等間隔に配置し、それぞれの固定電極２１部分で抵抗体３０の膜厚を均等化して、抵抗体３０の抵抗値変動を抑制して安定した抵抗値を得る。 - 特許庁

Apart from observation lighting and its lighting optical system for positioning a sample on which a thin film pattern is formed and identifying a cell to be measured, measuring lighting and its lighting optical system are provided for measuring an intra-cell film thickness of the cell to be measured.例文帳に追加

薄膜パターンを形成した試料の位置決め及び測定対象セルの識別を行うための観察用照明及びその照明光学系とは別に、測定対象セルのセル内における膜厚を測定するための測定用照明及びその照明光学系を設けた。 - 特許庁

To obtain an alignment mark used for alignment of a mask pattern in a semiconductor device manufacturing process, in which high diffraction efficiency and alignment of high accuracy can be obtained, even if a conductive film is as thick as a gate electrode film whose thickness is determined by the process conditions of a MOS semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程におけるマスクパターンの位置合わせに使用するアライメントマークにおいて、ＭＯＳ半導体装置のプロセス条件より決定されるゲート電極膜と同一の導電膜の膜厚でも、高い回折効率を得、高精度のアライメントを可能にする。 - 特許庁

To obtain a printing method and printing equipment, in which drying of an ink left on rotary screen plate pores is suppressed as small as possible even after a long term continuous printing and consequently neither poor printing such as the blurring of a printing pattern or the like nor lowering of a printing film thickness develops in a rotary screen printing.例文帳に追加

ロータリースクリーン印刷において、長時間にわたって連続印刷した場合でもロータリースクリーン版孔に残ったインクの乾燥を極力抑え、印刷パターンのかすれ等印刷不良や印刷膜厚の低下を発生させない印刷方法及び印刷装置を得る。 - 特許庁

In the method for correcting a pattern, correction ink 7 is applied to the white defect 6a of a pixel 6 in a liquid crystal color filter substrate 1, thereafter, a gas containing the vapor of a solvent 16 is sprayed on the correction ink 7 so that the thickness of the correction ink 7 may be uniformized, consequently to reduce the viscosity of the correction ink 7.例文帳に追加

このパターン修正方法では、液晶カラーフィルタ基板１の画素６の白欠陥６ａに修正インク７を塗布した後、修正インク７の厚みが均一になるように、溶媒１６の蒸気を含む気体を修正インク７に噴霧し、修正インク７の粘度を低下させる。 - 特許庁

To provide an inline-type vapor deposition apparatus which can control a film thickness with high accuracy and also requires only few sheets of masks for vapor deposition even when continuously conducting the vapor deposition onto articles each having a different vapor deposition pattern; a vapor deposition method using a mask; and a method for manufacturing an organic-electroluminescence device.例文帳に追加

膜厚を高い精度で制御できるとともに、蒸着パターンが異なる蒸着を連続して行なう場合でも蒸着用マスクの枚数が少なく済むインライン式蒸着装置、マスク蒸着方法、および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The electrodes 15 are composed of columnar conductors, extending along the thickness direction of the main body through an internal electrode pattern surface 14a of the internal conductors 14, and at least one ends 15a of the columnar conductors are exposed to the external surface of the main body 22.例文帳に追加

取り出し電極１５は、内部導体１４の内部電極パターン面１４ａを貫通して抵抗素子本体２２の厚み方向に沿って延在する柱状導電体であり、当該柱状導電体の少なくとも一端１５ａが、抵抗素子本体の外表面に露出している。 - 特許庁

When a quartz substrate 11 having a pattern of a light shielding film 12 formed on the surface is subjected to etching by using reactive gas plasma, the thickness of the quartz substrate 11 is determined so that the transmittance for the high frequency voltage which transmits through the quartz substrate 11 is ≥80%.例文帳に追加

表面に遮光膜１２によるパターンが形成された石英基板１１を反応性ガスプラズマを利用してエッチングする際、石英基板１１の厚さを、当該石英基板１１を透過する高周波電圧の透過率が８０％以上になる様に設定する。 - 特許庁

Since a convex portion of the first interlayer insulating film 92 having a height corresponding to the film thickness of the first Al layer 94 exists on the light receiver where the pattern of the first Al layer 94 is not formed, the surface of a second interlayer insulating film 96 laminated thereon is formed flatly.例文帳に追加

第１Ａｌ層９４のパターンが形成されない受光部に、第１Ａｌ層９４の膜厚に応じた高さの第１層間絶縁膜９２の凸部が存在することで、その上に積層される第２層間絶縁膜９６の表面が平坦に形成される。 - 特許庁

By the residual electric charge measuring method, AC voltage electrification based upon a specific electrification pattern is repeated in steps and the degree of the water tree deterioration is diagnosed by using as an index the ratio of the maximum AC electrification electric field intensity when the residual electric charges are measured and the insulator thickness of the tested cable.例文帳に追加

残留電荷測定法において、所定の課電パターンからなる交流電圧課電をステップ状に複数回行い、残留電荷が測定される最高交流課電電界強度と供試ケーブルの絶縁体厚さとの比を指標として水トリー劣化の程度を診断する。 - 特許庁

Thereby, the contrast of the transparent conductive film portion and the portions other than this is made to increase, and the size of the transparent conductive film pattern of the small film thickness can be measured easily.例文帳に追加

照明ユニットに可視光以下の領域に高い輝度を有する光を発生するランプと可視光以上の長波長成分を遮断する光学フィルタを具備して、透明電導膜部分とそれ以外の部分のコントラストを増大させ、膜厚の小さい透明電導膜パターンの寸法測定を容易に実現した。 - 特許庁

The manufacturing method of the multilayer-structured board comprises a process of disposing the electronic component on the surface such that terminals of the electronic component are directed upward, and a first inkjet process of providing a first insulating pattern on the surface so as to embed any step caused by the thickness of the electronic component.例文帳に追加

多層構造基板の製造方法が、電子部品の端子が上側を向くように前記電子部品を表面上に配置する工程と、前記電子部品の厚さに起因する段差を埋めるように第１絶縁パターンを前記表面上に設ける第１インクジェット工程と、を包含している。 - 特許庁

To provide a method of detecting a molecular layer for detecting a layer having a molecular level thickness without damaging an object to be measured by adhesion of liquid and without being affected by a pattern or the like formed on the surface of the object to be measured, and to provide a method of modifying a surface.例文帳に追加

液体を付着させることによって被測定物が損なわれたり、被測定物の表面に形成されたパターンなどに影響を受けたりすることなく分子レベルの厚さの層を検出できる分子層検出方法、及び表面改質方法を提供する。 - 特許庁

The stamper includes a plate-like body having a Young's modulus of not less than 50 to not more than 500 GPa, a thickness of not less than 200 to not more than 1,000 μm, and a warp with a curvature of not less than 2×10^-5 to not more than 2×10^-3, and a fine structure pattern to be transferred is mounted on one surface.例文帳に追加

ヤング率が５０ＧＰａ以上５００Ｇｐａ以下、厚さが２００μｍ以上１０００μｍ以下であって、曲率が２×10^-5以上２×10^-3以下である反りを有する板状体からなり、その一面に転写すべき微細構造パターンが設けられているスタンパ。 - 特許庁

To provide an observation device capable of selecting and specifying light with an optimum wavelength that is suitable for using as illumination light from information of substrate surface conditions, such as a refractive index of a substance constituting a film formed on the surface of the substrate, a film thickness thereof, and a pattern pitch of a semiconductor circuit.例文帳に追加

基板の表面に形成する膜を構成する物質の屈折率と、膜厚と、半導体回路のパターンピッチなどの基板表面状態の情報から照明光として使用するのに最適な波長の光を選択して設定することができる、観察装置を提供すること。 - 特許庁

This gas shower member 1 has a sintered aluminum-nitride base material member 10, having a thickness of 5 mm or smaller and having a plurality of through-holes 11, and has a conductive layer formed on the sintered aluminum-nitride base material member 10 as a heater circuit pattern 12 or an upper plasma electrode 14.例文帳に追加

ガスシャワー体１は、基材の厚みが５ｍｍ以下であり、複数の貫通孔１１を有する窒化アルミニウム焼結体基材１０と、窒化アルミニウム焼結体基材１０に形成された導電層としてヒータ回路パターン１２またはプラズマ上部電極１４とを備える。 - 特許庁

In the alignment method of a semiconductor device utilizing aluminium interconnect lines 30 on the uppermost layer of a semiconductor substrate 10 as an alignment pattern for trimming, thickness of an antireflection film 30a on the surface of the aluminium interconnect lines 30 is set in the range of 200-400 Å.例文帳に追加

半導体基板１０上の最上層のアルミニウム配線３０をトリミング用のアライメントパターンとして利用する半導体装置のアライメント方法において、上記アルミニウム配線３０の表面の反射防止膜３０ａの膜厚を２００Å〜４００Åとする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electrode catalyst layer with mechanical strength maintained, with a gas diffusion property improved in a pattern shape in a thickness direction toward a polymer electrolyte film, and with a high effective utilization factor of catalyst, in the electrode catalyst layer for a polymer electrolyte fuel cell.例文帳に追加

固体高分子型燃料電池用電極触媒層において、機械的強度を保ちつつ、高分子電解質膜に対して厚さ方向にパターン状にガス拡散性が向上し、触媒の有効利用率が高い電極触媒層の製造方法を提供する。 - 特許庁

A network configuration display panel 10 displays connection relation and inclusion of network components as a network configuration diagram, and a traffic display panel 20 displays the traffic pattern and the traffic amount between the network configuration components as a line segment tying points on a circle and its thickness.例文帳に追加

ネットワーク構成表示パネル１０はネットワーク構成要素の接続関係および包含関係をネットワーク構成図として表示し、トラフィック表示パネル２０はネットワーク構成要素間のトラフィックパターンおよびトラフィック量を円周上の点間を結ぶ直線およびその太さで表示する。 - 特許庁

To provide printing quality controlling method and device in multiple type page imposed printing in which ink supply and center distances of respective parts can be automatically adjusted in response to the results of measurement obtained through the measurement of the thickness or density of an ink film or the area of a pattern part of a sample printed article.例文帳に追加

サンプル印刷物のインキ皮膜厚さ又は濃度や絵柄部の面積を測定し、それらの測定結果に応じてインキ供給量や各部の芯間距離を自動的に調整し得るようにした多面付け印刷における印刷品質管理方法及び装置を提供する。 - 特許庁