「thickness pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

On the periphery of a large pattern 1 existing on a substrate and having a level difference and an area large enough to cause uneven coating 3, a small pattern 2 having an area small enough to cause no uneven coating is arranged and coated with liquid by spin coating to form a thin film having a uniform film thickness.例文帳に追加

基板上に存在する塗布ムラ３を生じさせる程度の大きな高低差と大きな面積を有する大きなパターン１の周囲に、塗布ムラを生じさせない程度の小さな面積を有する小さなパターン２を配置し、回転塗布法により液体を塗布し、均一な膜厚の薄膜を形成する。 - 特許庁

This infrared absorbing material formed on the surface of the heat sensitive part 1 is formed into a shape in which a film thickness of the pattern edge part is thicker than that in the pattern central part, to reduce heat conductance of a heat conducting path running from the vicinity of the absorbing material central part to a heat sink 3 via the absorbing material edge part.例文帳に追加

感温部１表面上に形成される赤外線吸収体２のパターン中心部の膜厚に対して、該パターン縁部の膜厚が薄い吸収体形状とし、吸収体中心部付近から吸収体縁部を経由してヒートシンク３に流れ込む熱伝導経路の熱コンダクタンスを小さくする。 - 特許庁

An insulating layer 6, a wiring pattern 7 and a protection layer 9 are formed at the conductive film 2A side, and a conductive pattern 8 is formed at the conductive film 2B side so that those respective electrode parts 4 can be connected as a ground, and a sensitivity adjusting layer 10 is formed with predetermined film thickness so that the manufacturing of a touch sensor TS can be completed.例文帳に追加

導電膜２Ａ側には絶縁層６、配線パターン７、さらには保護層９を形成し、導電膜２Ｂ側には導通パターン８を形成することにより個々の電極部４を接続してグランドとし、さらに感度調整層１０を所定の膜厚で形成することによりタッチセンサＴＳの製造が完成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a substrate with a metal pattern, which is capable of highly accurately processing the metal pattern by using laser light, capable of processing a metal thickness film by laser light of comparatively low power and allowed to be applied also to a flat panel display such as a plasma display, and to provide a substrate with a metal laminate.例文帳に追加

レーザ光を用いて金属パターンを高精度に加工することができ、特に、比較的低パワーのレーザ光で金属厚膜を加工することができ、プラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイにも応用可能な金属パターン付き基板の製造方法及び金属積層体付き基板を提供する。 - 特許庁

An electrode configured of the aluminum pattern layer is formed on one face of a transparent base material, and the thickness of the oxide coating of aluminum on the opposite side face of at least the transparent base material side of the aluminum pattern layer is set to 13 Å or less so that it is possible to provide an electrode film for a touch panel and a touch panel using the electrode film.例文帳に追加

透明基材の一方の面にアルミニウムパターン層からなる電極が形成されており、該アルミニウムパターン層の少なくとも該透明基材側とは反対側の面のアルミニウムの酸化物皮膜の厚みが１３Å以下であるタッチパネル用電極フィルム、及び該電極フィルムを用いたタッチパネル。 - 特許庁

To provide a negative resist composition for ion beam writing having good thermal stability and storage stability, containing few ionic impurities such as Cl and Na, excellent in transparency in a wide wavelength region, and giving a resist pattern with a large film thickness and a high aspect ratio, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

レジスト組成物自体の熱安定性・保存安定性が良好で、ＣｌやＮａなどのイオン性の不純物が少なく、広い波長領域で透明性に優れ、厚膜かつアスペクト比の高いレジストパターンが得られるイオンビーム描画用ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method comprises the following practice: Using a production machine where a front roller and a back roller constituting a draft part are driven by separate variable-speed motors respectively, the front roller is speed-varied based on a design pattern DP indicating the variation in the thickness of spun yarn memorized in a memory to produce the objective special yarn SY corresponding to the design pattern DP.例文帳に追加

ドラフトパートを構成するフロントローラとバックローラとがそれぞれ別の可変速モータで駆動される製造装置を使用して、記憶装置に記憶された紡出糸の太さの変化を示すデザインパターンＤＰに基づいてフロントローラの変速を行ってデザインパターンＤＰに対応する特殊糸ＳＹを製造する。 - 特許庁

To provide a color filter having phase difference control layers capable of obtaining phase difference amount suitable for each color pattern by changing the thickness of the phase difference control layers of liquid crystalline polymer used for improving the visibility of a liquid crystal display, etc., at every each color pattern of color filter layers made by laminating the phase difference control layers without accompanying an additional process.例文帳に追加

液晶ディスプレイ等の視認性を向上させるために用いる液晶性高分子の位相差制御層の厚みを、格別の工程の付加を伴なうことなく、位相差制御層が積層されるカラーフィルタ層の各色パターンごとに変えて、各色パターンに適した位相差量を実現することを課題とする。 - 特許庁

The input device 10 of a display device 100 with an input function serves as a capacitive touch panel, a first light-transmitting electrode pattern 11 and a second light-transmitting electrode pattern 12 made of an ITO film with film thickness of 20 nm and the refractive index of 1.91 are formed on one surface of a light-transmitting substrate 15.例文帳に追加

入力機能付き表示装置１００の入力装置１０は静電容量型のタッチパネルであり、透光性基板１５の一方面には、膜厚が２０ｎｍで屈折率が１．９１のＩＴＯ膜からなる第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２が形成されている。 - 特許庁

In the color filter whose thickness-direction retardation has the relationship of (red pixels)≤(green pixels)≤(blue pixels), the red pixels are produced by forming a pattern with a red colored composition containing an organic compound having an epoxy group as a retardation adjuster and hardening the pattern, and the red pixels have a negative retardation.例文帳に追加

厚み方向位相差が赤色画素≦緑色画素≦青色画素の関係を有するカラーフィルタにおいて、前記赤色画素が、リタデーション調整剤として、エポキシ基を有する有機化合物を含有する赤色着色組成物にてパターン形成し硬膜してなる赤色画素であるとともに、負のリタデーションを持つ赤色画素である。 - 特許庁

If a phase shift mask formed with the semipermeable film 12 on a transparent glass substrate 10 is regulated in the thickness of the semipermeable film 12 so as to be made optimum for the pitch of the patterns in fine pattern regions 14, the sub-peaks by adjacent apertures overlap each other in some cases in isolated pattern regions 16.例文帳に追加

透明なガラス基板１０上に半透過膜１２が形成された位相シフトマスクで、微細パターン領域１４におけるパターンのピッチに対して最適となるように半透過膜１２の厚さを調整すると、孤立パターン領域１６において、隣接する開口部によるサブピークが重なり合うことがある。 - 特許庁

To improve performance by suppressing misalignment between a ferrite disc and a circuit pattern due to the variations of the contraction coefficient of a ferrite/ceramic composite substrate due to the variations of materials or burning conditions or the like in fabricating the ferrite/ceramic composite substrate by burning, and preventing the non-uniformity of the film thickness or the film peeling of the circuit pattern.例文帳に追加

焼成によりフェライト／セラミック複合基板を作成する時に材料や焼成条件等のバラツキに起因する基板の収縮率のバラツキによるフェライト円板と回路パターンの位置ずれを抑制し、また回路パターンの膜厚の不均一や膜はがれ等を防止して性能の向上を図る。 - 特許庁

The barrier pattern 16 for a display panel fitted on a top side of the base plate 12 and zoning opening parts 18 into which either or both of an organic EL light-emitting material and a color material for color filter formation are injected has a shelter groove 22 each at their tiptop with a depth shallower than the thickness of the pattern.例文帳に追加

基板１２の上側に設けられていて、有機ＥＬ発光材料及びカラーフィルタ形成用の色材のいずれか一方又は双方が注入される開口部１８を画成するディスプレイパネルの隔壁パターン１６は、隔壁パターンの頂部に、隔壁パターンの厚みよりも浅い深さの退避溝２２を具えている。 - 特許庁

An insulating layer 3 is formed on a substrate 2 on which a wiring pattern 4 is formed, a bottomed via hole reaching the wiring pattern 4 is formed in the insulating layer 3 in the thickness direction, and then the bottomed via hole is filled with a conductive material 6, i.e. conductive paste containing conductive particles or conductive particles and thermoplastic resin.例文帳に追加

配線パターン４が形成された基材２上に絶縁層３を形成し、絶縁層３の厚み方向に配線パターン４に達する有底ビアホールを形成し、その有底ビアホールに導電性材料６として導電性粒子若しくは導電性粒子と熱可塑性樹脂とを含む導電性ペーストを充填する。 - 特許庁

To provide pattern printing equipment using an intaglio of a flexible metal flat sheet which has a high alignment precision, enables effective supply of ink to a printing object and enables formation of a uniform ink film thickness in transfer, in the case when a pattern is printed precisely on the printing object of a hard material such as glass.例文帳に追加

ガラス等の硬質材からなる被印刷体にパターンを精密に印刷する場合に、位置合わせ精度が高く、被印刷体へのインク供給を無駄なく行えると共に、転写時でのインク膜厚を均一に形成できるようにした可撓性金属平板状の凹版を用いたパターン印刷装置を提供する。 - 特許庁

A stencil mask manufacturing process in the preceding back etching process includes forming gradations of a film thickness of a resist left in a pattern field, after developing by adjusting the amount of exposed light, and selectively thinning a masking substrate film in a minute pattern formation field, with an aspect ratio higher than that of the surrounding region, prior to patterning.例文帳に追加

先行バックエッチングプロセスのステンシルマスク製造工程において、現像後のパターン領域のレジスト残膜厚に露光量を調整することにより階調をつけ、周辺領域よりアスペクト比が高い微細パターン形成領域のマスク基板膜厚を選択的にパターニング以前に薄膜化することにより、ステンシルマスクを形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which can form a uniformly thin film having an thickness of not more than 100 nm applicable to lithography using nanoimprint for patterning in not more than 100 nm and can be applied to nanoimprint, and to provide a manufacturing apparatus of an electrolyte film for pattern formation which can realize such a method.例文帳に追加

１００ｎｍ以下のパターニングが可能なナノインプリントを用いたリソグラフィーに適用できる１００ｎｍ以下でも均一な厚みの薄膜形成ができ、それをナノインプリントに応用できるようパターンの形成方法とそのような方法を実現することができるパターン形成用電解質膜の製造装置を提供する。 - 特許庁

The fixed mold 2 of a mold 1 for molding, for example, the light guide plate of a liquid crystal display is constituted by fixedly attaching the stamper 6, which is formed into a thin plate shape with a thickness of 1 mm, for example, by electroforming processing and has a fine pattern wherein the fine pattern on the surface of a molded article is reversed, to a fixing stand 7.例文帳に追加

例えば液晶ディスプレイの導光板を成形するための金型１のうち固定型２を、電鋳加工により例えば１ｍｍの薄板状をなし、その表面成型品の表面の微細パターンを反転した微細パターンが形成されたスタンパ６を、固定台７に固定的に取付けて構成する。 - 特許庁

Therefore, photoresist is applied onto the top surface of the polycrystalline silicon layer 6 and then exposed to light for the formation of a resist pattern conforming to the resistor 22, where the top surface of the polycrystalline silicon layer 6 is flat, and the photoresist film can be set uniform in thickness, so that the influence of a standing wave effect becomes uniform, and a resist pattern can be set uniform in width.例文帳に追加

このため、多結晶シリコン層６の上面にフォトレジストを塗布させ、フォトレジストを露光して抵抗素子２２に応じたレジストパターンを形成させるが、多結晶シリコン層６の上面は平坦でフォトレジストの膜厚を均一にできるので、定在波効果の影響が均一になり、レジストパターンの幅を均一にできる。 - 特許庁

Since the film thickness of the titanium silicide film pattern 126a directly above the n+ type region 116ab is different from that directly above the p+ type region 116ba, a missing part 128 is easy to occur at the titanium silicide film pattern 126A, directly above the joint part between the n+ type region 116ab and the p+ type region 116ba.例文帳に追加

ｎ^+ 型領域１１６ａｂ直上，ｐ^+ 型領域１１６ｂａ直上でのチタン・シリサイド膜パターン１２６Ａの膜厚が相違することから、ｎ^+ 型領域１１６ａｂとｐ^+ 型領域１１６ｂａとの接合部直上において、チタン・シリサイド膜パターン１２６Ａに欠落部１２８が発生し易くなる。 - 特許庁

To provide a push-button switch structure which enables improvement in workability by drying and curing patterns in a short time, to prevent dust and foreign matters from adhering, and prevent the pattern from bleeding and becoming faint and patchy, to print the pattern by a required quantity of film thickness, and to secure sufficient strength of ink, and also to provide a manufac turing method therefor.例文帳に追加

模様を短時間で乾燥・硬化させて作業性を向上させ、塵や異物等の付着、ニジミやカスレ等を抑制防止し、必要量の膜厚で模様を印刷することができ、かつ充分なインキ強度を確保できる押釦スイッチの構造体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a component configuration for reducing a packaging surface and thinning the thickness of a film incorporating components when incorporating the chip component into a substrate, and manufacturing method for accurately packaging and incorporating such chip passive component as an LCR by forming a fine wiring pattern on a circuit board and at the same time forming the connection with the wiring pattern.例文帳に追加

チップ部品を基板に内蔵するにあたって実装面積が小さく、部品内蔵層厚が薄くできる部品構成、及び回路基板に微細な配線パターンを形成しつつ、配線パターンとの接続を形成しながらＬＣＲ等のチップ受動部品を正確に実装、内蔵する製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can prevent a parasitic capacity increase of a conductive pattern due to a thickness increase of a barrier film by preventing a contact resistance of a portion connected with N-type conductive region from increase in forming the conductive pattern directly connected with the N-type conductive region containing silicon.例文帳に追加

シリコンを含むＮ型の導電領域と直接接続される導電パターンの形成時に、Ｎ型の導電領域と接続される部分のコンタクト抵抗の増大を防止し、バリア膜の厚さ増大に伴う導電パターンの寄生容量の増大を防止できる半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the transparent conductive material, the aluminum pattern layer is laminated on one surface of a transparent base material, a curable transparent resin layer is laminated on the aluminum pattern layer, the thickness of an aluminum oxide film on a surface of the aluminum pattern layer opposite to at least its transparent base material side surface is not more than 13 Å, and the contact angle of a surface of the curable transparent resin layer with water is at least 79°.例文帳に追加

透明基材の一方の面にアルミニウムパターン層と、該アルミニウムパターン層上に硬化性透明樹脂層が積層されており、該アルミニウムパターン層の少なくとも該透明基材側とは反対側の面におけるアルミニウム酸化物皮膜の厚みが１３Å以下であり、且つ、該硬化性透明樹脂層表面の水の接触角が７９°以上であることを特徴とする、透明導電材。 - 特許庁

To provide a metal fine particle-containing resin particle, a metal fine particle-containing resin layer and a method for forming the metal fine particle-containing resin layer by which an efficient electroless plating is made possible and a more uniform metal conductive pattern layer is formed by forming a layer which allows an easy control of the etching thickness on the surface of an underlying pattern layer forming a pattern.例文帳に追加

パターンを形成する下地パターン層の表面にエッチングする厚さを容易にコントロールすることができる層を形成することにより、効率的な無電解めっき処理が可能となり、より均一な金属導体パターン層を形成することができる金属微粒子含有樹脂粒子、金属微粒子含有樹脂層および金属微粒子含有樹脂層の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The conductor pattern forming method comprises the steps of forming a plurality of copper patterns 110 on one surface of a substrate 100; pressing a part of the copper patterns 110 from the thickness direction to thereby form partly wider regions 112 on the copper patterns 110; making solder powder adhere to each copper pattern 110; and melting the solder powder on the copper pattern for the formation of solder plating having bumps.例文帳に追加

導体パターンの形成方法は、基板１００の一方の面上に複数の銅パターン１１０を形成する工程と、各銅パターン１１０の一部を厚さ方向から押圧し、銅パターン１１０の一部の幅広領域１１２を形成する工程と、各銅パターン１１０上に半田粉末を付着させる工程と、銅パターン上の半田粉末を溶融し、隆起を有する半田めっきを形成する工程とを有する。 - 特許庁

To eliminate a sub pulse from a reproduction signal which is obtained from a magnetic recording medium after magnetic transfer by leaving a magnetic pattern of a magnetic material thin film which has sufficient thickness in a groove on the surface of an Si substrate when the magnetic body thin film is polished.例文帳に追加

研磨の際にＳｉ基板の表面の溝に充分な厚みの磁性体薄膜の磁気パターンを残して、磁気転写後の磁気記録媒体から得られる再生信号にサブバルスを含む事が無いようにすること。 - 特許庁

By rotating the two parallel plates 10a, 10b as above described, a pattern can be varied at arbitrary optional magnifications in the longitudinal and lateral directions of the substrate without changing the thickness, curvature or distance of the parallel plates.例文帳に追加

２枚の平行平板１０ａ，１０ｂを上記のように回転させることで、平行平板の厚み・曲率・間隔のいずれも変えることなく、基板の縦方向と横方向に対し任意の倍率で縦横変倍をすることができる。 - 特許庁

Moreover, a guard ring 41 and a dummy AA pattern 51, provided adjacent to the row decoder circuit 31, are formed respectively using the Vpp oxide films 41a, 51a of identical thickness to that of the Vpp oxide film 31a.例文帳に追加

また、上記ロウデコーダ回路３１に近接して設けられるガードリング４１およびダミーＡＡパターン５１は、上記Ｖｐｐ酸化膜３１ａと同じ膜厚の、Ｖｐｐ酸化膜４１ａ，５１ａをそれぞれ用いて形成する構成とされている。 - 特許庁

RESIDUE-FILM THICKNESS ASSUMING METHOD, PATTERN-MASK AND ISOLATION-FILM-REMOVING-MASK MODIFYING WAYS BY THE WAY, AND SEMICONDUCTOR-ELEMENT MAKING WAY BY THE MASKS例文帳に追加

残膜厚分布の推定方法、残膜厚分布の推定方法を用いたパターニング用マスク及び絶縁膜除去用マスクの修正方法、及び、修正されたパターニング用マスク及び絶縁膜除去用マスクを用いた半導体素子の製造方法 - 特許庁

To provide a reflective mask blank for extreme ultraviolet (EUV) lithography in which the mask has low reflectance in a wavelength range of EUV light and pattern inspection light and has an absorbent layer that is easily controlled to a desired film composition and a film thickness.例文帳に追加

ＥＵＶ光およびパターン検査光の波長域の反射率が低く、かつ該所望の膜組成および膜厚に制御することが容易な吸収体層を有するＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの提供。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition for forming microlens which can form a microlens which has an excellent film thickness, resolution, pattern shape, transparency, heat resistance, heat discoloring resistance and solvent resistance or the like and a favorable preservation stability.例文帳に追加

膜厚、解像度、パターン形状、透明性、耐熱性、耐熱変色性、耐溶剤性等に優れたマイクロレンズを形成でき、また保存安定性も良好なマイクロレンズ形成用感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

In a process for manufacturing a stamper, as a conductive layer, the composition ratio of a buffer agent to a conductive material is reduced from an original disk side to the thickness direction and the conductive layer having an irregular pattern is formed by a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

スタンパの製造工程において、導電層として、導電物質に対する緩衝剤の組成比が原盤側から厚さ方向に減少し、かつ凹凸パターンを有する導電層を、化学気相成長法を用いて形成する。 - 特許庁

To provide an image pickup device which can automatically sample an image adequate for fingerprint matching from a fingerprint image inputted from an input device even if the image has variance in shading distribution or variance in ridge pattern thickness.例文帳に追加

画像の濃淡分布のばらつきまたは隆線パターン太さのばらつきがあっても、入力装置から入力されている指紋画像から指紋照合に適切な画像を自動的に採取可能な画像撮像装置を提供する。 - 特許庁

After the wafer for the spacer is etched halfway of the thickness to form a spacer pattern, the spacer is pasted to a glass substrate and then the wafer for the spacer is made thin by grinding/polishing, thus forming only the spacer on the glass substrate.例文帳に追加

このスペーサ用ウエハに、ウエハ厚みの途中までエッチングしてスペーサーパターンを形成した後、スペーサー部分をガラス基板に貼り合わせ、スペーサ用ウエハを研削・研磨して薄層化することで、ガラス基板上にスペーサーのみを形成する。 - 特許庁

The interposer allows the distance between the mounting substrate 21 and the BGA 22 to be the same thickness as that of the semiconductor part 23 or more, and electrically connects between a solder ball of the BGA 22 and a conductive pattern of the mounting substrate 21.例文帳に追加

インターポーザー１０は、実装基板２１とＢＧＡ２２との間の距離を半導体部品２３の厚さと同じかそれ以上にするとともに、ＢＧＡ２２のソルダーボールと実装基板２１の導電パターンとの間を電気的に接続する。 - 特許庁

Next, while the pattern of the photo resist 14 is trimmed so as to be a predetermined thickness, length, the amount of protrusion L is made to be a predetermined amount or less, an etching mask of substantially L character shape is formed by etching an Si_3N_4 layer 13 making this as a mask.例文帳に追加

次に、フォトレジスト１４のパターンを所定の太さ、長さにトリミングするとともに、はみ出し量Ｌを所定量以下とし、これをマスクとしてＳｉ_3Ｎ_4層１３をエッチングして略Ｌ字状のエッチングマスクを形成する。 - 特許庁

To provide a wiring board and a manufacturing method thereof, and an element mount board and a manufacturing method thereof whereby the low profile and the uniformized thickness of an insulating member of a body to be transferred are attained together with a transfer step of a conductor pattern.例文帳に追加

導体パターンの転写工程時に、合わせて被転写体である絶縁材の薄型且つ厚さの均一化が図れる配線基板及びその製造方法、素子実装基板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern by which a resist film can be made thin by using a lower layer film formed by a coating method, the required mask thickness is maintained, and the difference caused by conversion in processes is suppressed to process the objective film with high dimensional accuracy.例文帳に追加

塗布法により成膜できる下層膜を用いてレジスト膜の薄膜化を図るとともに必要なマスク厚を確保し、加工変換差を抑制して寸法精度よく被加工膜を加工し得るパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Then the adhering face 2 of the base material 1 is subjected to dry tape cleaning by irradiating ultraviolet rays, and a pattern 6 formed of numerals, symbols, etc., is printed on the back face 5 of the key top 3 with an ultraviolet- curing type ink in a thickness of 5 to 15 μm.例文帳に追加

そして、ベース基材１の接着面２に紫外線を照射して乾式洗浄処理し、キートップ３の裏面５に、数字や記号等からなる模様６を紫外線硬化型インキで５〜１５μｍの厚さに印刷する。 - 特許庁

A non-single-crystal semiconductor thin film 3 formed on an insulating substrate 1 having a thickness smaller than 50 nm is irradiated with laser light having a light intensity distribution of an inverse peak pattern to grow crystals unidirectionally in a lateral direction.例文帳に追加

絶縁基板（１）上に設けられた５０ｎｍより薄い厚さの非単結晶半導体薄膜（３）に、逆ピークパターン状の光強度分布のレーザ光を照射して、結晶を横方向に且つ一方向に成長させる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is superior in various properties, including film thickness, resolution, pattern shape, transparency, heat resistance and solvent resistance, in particular, in the heat resistance, and which is able to form a microlens that is superior in balance of the various properties.例文帳に追加

膜厚、解像度、パターン形状、透明性、耐熱性、耐溶剤性等の諸性能、特に耐熱性に優れ、且つ諸性能のバランスに優れたマイクロレンズを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an electro-optical device having an inspection pattern for verifying film thickness or resistance of a resin film or a conductive film with high accuracy, and to provide an inspection method for an electro-optical device, a method for manufacturing an electro-optical device, and an electronic apparatus.例文帳に追加

樹脂膜又は導電膜の膜厚や抵抗値を精度良く検証できる検査用パターンを備えた電気光学装置、電気光学装置の検査方法、及び電気光学装置の製造方法、並びに電子機器を提供する。 - 特許庁

To improve the liquid crystal display quality by contriving a pattern to be formed on the surface of substrates constituting a liquid crystal device so as to reduce the nonuniformity of substrate intervals, that is, so as to reduce the cell thickness dispersion of a liquid crystal panel.例文帳に追加

液晶装置を構成する基板の表面に形成されるパターンを工夫することにより、基板間隔の不均一性を低減して、すなわち液晶パネルのセル厚ムラを低減して、液晶表示品質を向上する。 - 特許庁

Since the thickness of the resist film is measured by means of the spinner having a relatively long margin in its processing time, the processing time of the pattern exposure system is reduced and the throughput of the substrate treating process can be improved as a whole.例文帳に追加

このように比較的処理時間に余裕のあるスピンナにおいてレジスト膜の膜厚を測定することで、パターン露光装置の処理時間が減少し、基板処理工程全体におけるスループットを向上させることができる。 - 特許庁