「thickness pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

To manufacture an organic thin film EL device which can make constant the thickness of adhesives through the control of spreading of the adhesive applying pattern to the inside or outside when a seal cap is to be affixed to a transparent insulated base board.例文帳に追加

封止キャップと透明絶縁基板を貼り合わせるに際して、塗布した接着剤の塗布パターンが内側あるいは外側に広がることを制御でき、接着剤の厚さを一定にすることができる有機薄膜ＥＬデバイスの製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate which has a photosensitive resin layer of uniform thickness, causes no wear of film, reduces a waste generated from substrate and protective layer and is few in defect of conductor pattern, and a TAB substrate and a flexible wiring plate using the same.例文帳に追加

感光性樹脂層の膜厚が均一で膜減りすることがなく、支持体や保護層による廃棄物を削減し、導体パターンの欠陥の少ない感光性樹脂積層体及びそれを用いたＴＡＢ基板及びフレキシブル配線板を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a nonvolatile memory device, especially a method of manufacturing a three-dimensional semiconductor device capable of improving uniformity of a thickness of a semiconductor pattern, and to provide the three-dimensional semiconductor device manufactured by the method.例文帳に追加

不揮発性メモリー装置の製造方法であって、特に半導体パターン厚さの均一性が向上される３次元半導体装置の製造方法、及び当該製造方法によって製造された３次元半導体装置を提供する。 - 特許庁

A blanket includes: a surface blanket 20, which comes into direct contact with an ink pattern; and an under blanket 30, which supports the surface blanket 20, and which has compressibility, wherein the compressive stress is ≤100 kPa and the deformation is 0.1 mm in a thickness direction.例文帳に追加

インクパターンに直接接触する表層ブランケット２０と、表層ブランケット２０を支持すると共に圧縮応力が１００ｋＰａ以下で厚み方向において変形量が０．１ｍｍとなる圧縮性を有するアンダーブランケット３０とを備える。 - 特許庁

Hereby, a lower corner of the floating gate 120 is thermally oxidized to provide a round profile, Thus, a difference between the thickness at an edge of the film and that at the center of the same becomes larger in the gate oxide film 110 than the gate interlayer insulating film pattern 130.例文帳に追加

これによって、浮遊ゲート１２０の下部角が熱酸化されてラウンドされたプロフィールを有し、結果的に、膜のエッジでの厚さと中央での厚さとの差はゲート層間絶縁膜パターン１３０よりゲート酸化膜１１０の方が大きくなる。 - 特許庁

To improve operability of zooming by controlling the display state of auxiliary attributes relating to the whole contents or an object such as attributes changing in, for example, color, thickness, shape, and pattern according to zooming operation contents of a browsing person.例文帳に追加

例えば、色、太さ、形状、パターンが変化する属性のようなコンテンツ全体もしくはオブジェクトに係る補助的な属性の表示状態を閲覧者のズーム操作内容に従って制御することにより、ズーミングにおける操作性を向上させる。 - 特許庁

To provide a magnetic recording medium which can be manufactured by a simple method and has high recording density and peeling resistance and whose film thickness and pattern are easily controlled, to provide its manufacturing method and to provide a magnetic recording and reading device using the same.例文帳に追加

簡単な方法で製造することができ、高い記録密度と耐剥離性とを兼ね備え、かつ膜厚およびパターン制御が容易な磁気記録媒体およびその製造方法ならびにそれを用いた磁気記録読取装置を提供する - 特許庁

Each recessed part 21c is formed into a specular face to form a reflection film 22 in the recessed part 21c, using a light transmissive base 21 having pattern-likely the recessed parts 21c and protruded parts 21d in its under face, and a transmittance regulating film 23 of desired thickness is formed in the each protruded part 21d.例文帳に追加

下面に模様状の凹凸部（２１ｃ、２１ｄ）を有する透過性基板２１を用い、凹部２１ｃを鏡面にして凹部２１ｃに反射膜２２を形成し、凸部２１ｄに所要の厚みの透過率調整膜２３を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which is capable of controlling the line width of a resist pattern, which is formed on a multilayered film, with higher accuracy without much influenced by a variation in the thickness of layers composing the multilayered film formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成された多層膜の各々の膜の膜厚の変動に大きく影響されることなく、多層膜上に形成されるレジストパターンの線幅の制御性を向上することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescent element, and its manufacturing method, which can easily form any luminescent pattern, and can aim at improvement of production efficiency and reduction of manufacturing cost by easily forming layers with uniform thickness.例文帳に追加

任意の発光パターンを容易に形成可能であり、しかも、層厚が均一な層を容易に形成して生産効率の向上や、製造コストの低減が可能な有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an inverter for a liquid crystal display device capable of reducing the whole thickness simultaneously with securing an insulation distance from a transformer and a high voltage pattern to a cover-shield and a bottom cover, and a liquid crystal display device module using this.例文帳に追加

トランスフォーマー及び高圧パターンからカバーシールドやボトムカバーまでの絶縁距離を確保すると同時に、全体的な厚さを減少させることのできる液晶表示装置用インバータ及びこれを用いた液晶表示装置モジュールを提供する。 - 特許庁

To realize the formation of a thin film wherein the waste of a film material is omitted to enhance utilization efficiency in forming the thin film on a semiconductor substrate and the irregularity of the thickness of the formed film is not determined by the pattern on a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体基板への薄膜の形成において、膜材料の無駄を省き利用効率を高め、しかも形成される膜の膜厚のばらつきが半導体ウエハ上のパターンによって決定されることのない薄膜形成を実現する。 - 特許庁

To obtain a high-reliability BGA type semiconductor device wherein the line length of a wiring pattern is reduced to speed up the signal transmission, the thickness of the semiconductor device is made more small, and a bending stress, etc., never occur when a semiconductor chip is bonded to a beam frame.例文帳に追加

配線パターンの線長を短くして信号伝送を速めるとともに、半導体装置の厚みをより薄くし、また、ビームリードに半導体チップとの接合時に曲げ応力等が生ぜず信頼性の高いＢＧＡ型半導体装置を得る。 - 特許庁

To provide a method, in which an optical crosslinking resin layer can be uniformly made into a thin film in a shorter time even when the optical crosslinking resin layer has a large thickness or when an optical dissolution rate is slow, in a method of forming a conductive pattern by a subtractive manner.例文帳に追加

サブトラクティブ法による導電パターンの作製方法において、光架橋性樹脂層の厚みが大きい場合や光溶解速度が遅い場合にも、より短時間で光架橋性樹脂層を均一に薄膜化できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a halftone type phase shift mask in which black defects of a light shield layer are removed and black defects in a phase shift layer are not generated and transmissivity is not deduced due to gallium stain and phase difference due to decrease in thickness of a phase shift layer pattern is not varied.例文帳に追加

遮光層の黒欠陥は除去され、位相シフト層の黒欠陥は発生させず、ガリウムステインによる透過率の低下、位相シフト層パターンの厚みの低下による位相差の変化のないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法。 - 特許庁

To provide a wax pattern with which, even when a casting of complicated shape having large variation of the thickness in each portion is produced by a lost wax casting method, the development of deformation or crack in the product casting can be prevented without giving any trouble to make a mold.例文帳に追加

ロストワックス鋳造法により肉厚が各部位で変化に富む形状の複雑な鋳物を製造する場合でも、鋳型の作製に手間をかけることなく、製造した鋳物に変形や割れが生じるのを防止できるワックス模型を提供する。 - 特許庁

A plated layer 15 is formed in a thickness less than 0.1 μm by conducting first non-electrolytic plating processing to a wiring pattern 12 formed on a base board 10 utilizing a plating solution 20 including at least one of thiourea and its derivative.例文帳に追加

チオ尿素及びその誘導体の少なくとも一方を含有するめっき液２０を利用して、ベース基板１０に設けられた配線パターン１２に第１の無電解めっき処理を行って、厚みが０．１μｍ未満のめっき層１５を形成する。 - 特許庁

The etching method forms a resist layer on the substrate by using the photolithography method, uses the resist layer as a mask, removes at least part of the substrate in its thickness direction by the dry etching method and processes the substrate to have a prescribed pattern.例文帳に追加

本発明のエッチング方法は、基材上にフォトリソグラフィー法によりレジスト層を形成し、このレジスト層をマスクとして用いて、基材の厚さ方向の少なくとも一部をドライエッチング法により除去して、所定のパターンに加工する方法である。 - 特許庁

This fin is made of a thick sheet metal such that a ratio of a minimum thickness e of the sheet metal to a geometrical pitch P exceeds 0.2, and has a pattern reproduced (repeated) to a general direction D2 according to the geometrical pitch P.例文帳に追加

本発明のフィンは、幾何学的ピッチＰに対するシート金属の最小厚さｅの比率が０．２を超えるように、厚いシート金属から作成され、幾何学的ピッチＰに従い一般方向Ｄ２へ再作成される（繰り返される）パターンを有する。 - 特許庁

At etching with the spiral coil 14, a dummy wiring pattern 16 having the same pitch width as an inner circumference is provided outside an outermost circumference 14a of the spiral coil 14, so that the thickness of a coil line at the outer circumference of the spiral coil 14 is prevented from decreasing.例文帳に追加

渦巻きコイル１４のエッチングに際して、渦巻きコイル１４の最外周部１４ａの更に外側に、内周と同じピッチ幅のダミーの配線パターン１６を設け、渦巻きコイル１４の外周のコイル線幅の減小を防止する。 - 特許庁

To provide a method for processing the outer surface of a cylinder, in which a preferable patterned shape is formed on the outer surface of a cylinder by controlling a film thickness of a photoresist to be substantially uniform, and to provide a method for manufacturing a pattern sheet.例文帳に追加

本発明は、フォトレジストの膜厚を略均一にすることで、良好なパターン形状を円筒状の外表面に形成することができる円筒外表面の加工方法およびパターンシートの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

There is provided the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition wherein transmittance for light of wavelength 193 nm for film thickness of 100 nm is 55-80%, and the pattern forming method using the composition.例文帳に追加

膜厚１００ｎｍにおける波長１９３ｎｍの光に対する透過率が５５％以上８０％以下であることを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、該組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a printing plate for flexography capable of uniformly forming a pattern with a thick thickness even when ink containing low viscosity or an aromatic hydrocarbon solvent is used, a method for manufacturing it, and a method for manufacturing an organic EL element using the printing plate.例文帳に追加

低粘度または芳香族炭化水素系の溶剤を含むインキであっても厚膜のパターンを均一に形成可能なフレキソ印刷用版と、その製造方法および当該版を用いた有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The filter device includes: a resonator filter pattern (17) including not less than one resonator (12) formed on a dielectric substrate (11); and a tuning member (15) that is separately placed on a desired resonator in the resonator and changes its thickness.例文帳に追加

フィルタ装置は、誘電体基板（１１）上に形成される１以上の共振器（１２）を含む共振器フィルタパターン（１７）と、前記共振器の中の所望の共振器の上に個別に置かれ、厚さの変更が可能なチューニング部材（１５）と、を含む。 - 特許庁

The motor rotor 204 is composed of a magnetic yoke 202 and the rubber magnet 200 arranged in the magnetic yoke, and in the surface of the rubber magnet facing the magnet yoke, a pattern 206 which partially reduces the thickness of the rubber magnet 200 is formed.例文帳に追加

モータ回転子２０４は、磁気ヨーク２０２及び磁気ヨーク内に設置されたゴム磁石２００から構成され、ゴム磁石の磁気ヨークに面した表面上には、ゴム磁石２００の厚みを部分的に減少させるパターン２０６が形成されている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electrophotographic printed wiring board wherein, even with a fine circuit pattern, the corresponding toner image is formed well on both sides so that multiple printed wiring boards excellent in line thickness homogeneity are efficiently manufactured.例文帳に追加

高精細な回路パターンであっても、それに対応する両面のトナー画像形成が良好に行われ、線幅均一性の優れたプリント配線板を多数枚効率よく作製する事のできる電子写真プリント配線板の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reflective mask blank having uniform thickness and high flatness when mounted as a reflective mask on an electrostatic chuck of an exposure apparatus, and capable of achieving high pattern transfer accuracy.例文帳に追加

本発明は、その厚みが均一であり、反射型マスクとされた際に露光装置の静電チャックへ装着した場合の平坦性が高く、高いパターン転写精度を実現することが可能な反射型マスクブランクスを提供することを主目的とする。 - 特許庁

The ratio of the isolated hole shape width to the thickness of the photoresist layer is set so that the resist does not remain at the bottom of the main trench after development, but will remain at the bottom of the additional hole pattern (additional trench) made by the additional hole shapes 21.例文帳に追加

フォトレジスト層の厚さに対する孤立穴形状幅の比は、現像後において、主トレンチの底部にレジストが残らず、かつ、付加穴形状２１によって出来る付加穴パターン（付加トレンチ）の底部にレジストが残ることとなるようにする。 - 特許庁

A diffraction X-ray pattern is accurately read since an incident X-ray 2 serving as a reference is recorded in the position sensitive X-ray detector, by thinning a film thickness of the measured sample to measure the diffracted X-ray by the transmission X-ray.例文帳に追加

測定試料の膜厚を薄くして透過Ｘ線で回折Ｘ線を測定することにより、基準となる入射Ｘ線２も位置感応型Ｘ線検出器に記録されるため、回折Ｘ線パターンを正確に読み取ることができる。 - 特許庁

This shoe sole is molded of rubber, polyvinyl chloride or polyurethane having hardness of 54 to 62 (JIS-A, 20°C) so as to have a thickness of ≥3 to ≤8 mm in the thinnest part and to have a block design pattern of polygonal shape, circular shape, etc., in the shank part of the shoe sole.例文帳に追加

５４〜６２（ＪＩＳ−Ａ，２０℃）の硬さを有するゴム，ポリ塩化ビニル，ポリウレタンにより，最薄部の厚さが３ｍｍ以上８ｍｍ以下で，靴底接地部には，多角形，円形などのブロック意匠パターンを有するように成形される。 - 特許庁

To provide a resin laminate having a uniform metal crack pattern, which is arbitrary in densiness and roughness, characterized in that there is no irregularity due to a change in thickness or the like, a metal layer is not broken even in a molded product having a complicated shape and design properties are excellent.例文帳に追加

厚み等の変化によるバラツキがなく、また、複雑形状の成形品であっても金属層が破断せず、意匠性に優れた、均一で、緻密から粗大な任意の金属亀裂模様を有する樹脂積層体を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a positive lithographic printing original plate with high sensitivity by which an image forming layer having uniform thickness along a rough pattern of a roughened supporting body and having excellent scratch resistance can be formed and spot-like residual films are decreased.例文帳に追加

粗面化支持体の凹凸に沿った厚みが均一で耐傷性に優れた画像形成層を形成することが可能であり、ひいてはポツ状残膜が低減され、かつ高感度なポジ型平版印刷版原版を製造できる方法を提供すること。 - 特許庁

Since the thermal influence on the component 20 having the large temperature characteristic change can be reduced by the adiabatic effect of the cavity layer 11 and the cavity layer 11 is formed by the same thickness as a frame-like wiring pattern 10, the module substrate 1 can be thinned.例文帳に追加

空洞層１１の断熱効果により温度特性変化の大きな部品２０に対する熱影響を低くできると同時に、空洞層１１は枠状の配線パターン１０と同一厚みで形成されるので、モジュール基板１を薄型化できる。 - 特許庁

Accordingly, heat from the heater is transmitted through conduction via the substrate for satisfactory heat transfer efficiency, and the substrate having a predetermined thickness is interposed so that a pattern of the heating element of the heater does not appear on the back of the article to permit the article to be uniformly heated.例文帳に追加

ヒータの熱は基材を介して伝導で伝わるので熱伝達効率がよく、しかも所定の厚みを有する基材が介在しているので、ヒータの発熱体のパターンが被処理体の裏面に発現されず、被処理体は均一に加熱される。 - 特許庁

Accordingly, when development condition has become excessive, the development speed of a part not yet exposed is slow but the development speed of an already exposed part is quick, when the development condition has become excessively small, whereby the layer thickness of the resist pattern is stabilized with respect to the dispersion of the development conditions.例文帳に追加

そのため、現像条件が過剰となった場合は、未露光部分の現像速度は遅く、過小となった場合は既露光部分の現像速度は速いため、現像条件のばらつきに対してレジストパターンの層厚は安定する。 - 特許庁

To provide an anodization device wherein the thickness of an anodized coating formed on the electrode pattern of an elastic surface wave resonance piece is made constant, and further, the resonance frequency of the elastic surface wave resonance piece is made constant, and to provide an end point detection method.例文帳に追加

弾性表面波共振片の電極パターンに形成される陽極酸化膜の厚さを一定にするとともに、弾性表面波共振片の共振周波数を一定にする陽極酸化装置および終点検出方法を提供する。 - 特許庁

A magnetic layer 32 is formed with a thickness Mt satisfying Mt/L<1.8 on the surface of the top surface 37a of the projecting part 37 on the surface of the substrate 31 having the rugged pattern 36 of a width L in the track direction of the top surface 37a of the projecting part 37.例文帳に追加

凸部３７上面３７ａのトラック方向幅がＬである凹凸パターン３６を表面に有する基板３１の表面に、凸部３７の上面３７ａにおいて、Ｍｔ／Ｌ＜１．８を満たす厚みＭｔで磁性層３２を形成する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition with excellent storage stability, with which a microlens can be formed which is excellent in film thickness, resolution, pattern configuration, thermostability, transparency, heat discoloration resistance, resistance to solvents or the like, even when lower temperature firing is adopted.例文帳に追加

低温焼成を採用した場合でも、膜厚、解像度、パターン形状、耐熱性、透明性、耐熱変色性、耐溶剤性等に優れたマイクロレンズを形成でき、また保存安定性も良好な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide the manufacture of a semiconductor device, which can automatically recognize alignment marks and performs alignment automatically and accurately and can form a wiring pattern precisely, even if the thickness of a wiring film becomes large, in a semiconductor device for high power.例文帳に追加

ハイパワー用の半導体装置で、配線膜の厚さが厚くなっても、アライメントマークを自動的に認識することができ、自動で、かつ、正確に位置合せをして配線パターンを精密に形成することができる半導体装置の製法を提供する。 - 特許庁

To provide a foreign matter removing method and its apparatus which are preferable for cleaning a substrate on which a fine pattern is formed, and which have high removing efficiency of foreign matters by laser heating, and further which do not depend on the thickness of a liquid film and the kind, size, and shape or the like of foreign matters.例文帳に追加

微細パターンが形成された基板の洗浄等に好適であって、レーザー加熱による異物の除去効率が高く、液膜の厚さや異物の種類、大きさ、形状等に依存しない異物除去方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask defect inspection apparatus which can inspect defects of a mask at once and can easily identify the kinds of defects even when illumination light has shorter wavelengths and even when the mask pattern has larger film thickness.例文帳に追加

照明光の短波長化にもかかわらずかつマスクのパターンの膜厚が厚くなってもマスクの欠陥検査を一度に行うことができかつその欠陥の種類の識別も容易に行うことができるマスク欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

At this time, the discharge amount is measured with respect to one kind of discharge pattern for the actual discharging, and a thin film having uniform film thickness is formed using the droplet discharge head which is precisely controlled with respect to the variance in discharge amount of each nozzle.例文帳に追加

その際、吐出量の測定は、実際に吐出を行う１種類の吐出パターンにおいてのみ行うこととし、ノズル毎の吐出量のバラツキが精密に制御された液滴吐出ヘッドを用いて、均一な膜厚の薄膜を形成する。 - 特許庁

As shown by Figure 1(b), a process for forming a contact hole 4 by a dimension exceeding he same degree as the thickness d1 of the CVD oxide film 10 in which hole an end portion 4a which is bored at a distance L1 in a lateral direction from the step-difference pattern 2 is arranged is performed.例文帳に追加

図１（ｂ）に示すように、ＣＶＤ酸化膜１０の膜厚ｄ１の同程度を超える寸法で段差パターン２から横方向の間隔Ｌ１をおいて開孔する端部４ａが配置されるコンタクトホール４を形成する工程を行う。 - 特許庁

The pattern forming method which has the process step of previously forming the alignment markers on a first thick film in a first thick film forming process step and references the alignment markers in the exposing process step of a second thickness film.例文帳に追加

第１厚膜形成工程において、あらかじめ第１厚膜上にアライメントマーカーを形成する工程を有し、第２厚膜の露光工程において、前記アライメントマーカーを参照することを特徴とするパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The decorative glass is manufactured by the steps of: providing many radial cracks 7 having a radial size of 0.01-3.0 mm on the surface of translucent plate glass 1 having thickness of 4-25 mm, by means of stamping; and making arbitrary letter or character or pattern using dots of the cracks 7.例文帳に追加

４〜２５ｍｍの厚さの透光性板ガラス１の表面に、０．０１〜３．０ｍｍの径の大きさの放射状の亀裂７を打刻により多数設け、この亀裂７のドットにより任意の文字または図柄を構成して装飾ガラスを作製する。 - 特許庁