「thickness pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

Then the moire phenomenon can be prevented by forming a pattern 20 having an array and a shape capable of preventing the moire phenomenon on the upper part surface of the light guide part and the uniform and high luminance can be obtained even in low power consumption, while the thickness and the weight of the entire liquid crystal display device is minimized.例文帳に追加

また、導光部の上部面にモアレ現象を防止できる配列及び形状を有するパターン２０を形成することによって、モアレ現象を防止でき、全体的な液晶表示装置の厚さ及び重さを最小化しながらも、低消費電力でも均一で高い輝度を得ることができる。 - 特許庁

The printed-circuit board 200 comprises a stage of alternately laminating a circuit pattern layer 22 and an insulating layer 21 to form a multilayer board 20 in which a region 23 with a predetermined thickness 24 is laminated only by the insulating layer 21, and a stage of removing the insulating layer 21 in the region 23 of the multilayer board 20.例文帳に追加

印刷回路基板２００は回路パターン層２２と絶縁層２１とを交互に積層し、一部領域２３の所定厚み２４は絶縁層２１だけで積層した多層基板２０を形成する段階と、前記多層基板２０の前記一部領域２３の前記絶縁層２１を除去する段階とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a plate for gravure printing, which surely holds printing paste, suppresses the random occurrence of stringiness and enables a graphic pattern excellent in the uniformity of smoothness and thickness to be formed by the gravure printing, and also to provide a manufacturing method for a laminated ceramic electronic component using the plate for the gravure printing, and a gravure printer.例文帳に追加

印刷ペーストを確実に保持するとともに、糸引きがランダムに発生することを抑制することが可能で、グラビア印刷により、平滑性や厚みの均一性に優れた図形パターンを形成することが可能なグラビア印刷用版、それを用いた積層セラミック電子部品の製造方法およびグラビア印刷装置を提供する。 - 特許庁

To provide a reflective mask blank comprising at least a substrate, a multilayer reflecting film for reflecting exposure light, and an absorber for absorbing the exposure light, the absorber having a smaller film thickness for preventing the degradation of resolution and misregistration around a pattern during exposure and for improving a contrast to inspection light, and to provide a reflective mask.例文帳に追加

少なくとも基板と、露光光を反射する多層反射膜と、露光光を吸収する吸収体と、を有し、吸収体の膜厚を薄くし、露光時にパターン周辺部の解像度低下や位置ずれを防止するとともに、検査光に対するコントラストを向上させた反射型マスクブランク及び反射型マスクを提供する。 - 特許庁

To produce an iron-based amorphous thin strip excellent in magnetic characteristic with which a secondary cooling means is not used, but a cooling roll having the necessary thermal conductivity and wall thickness is used, and the suitable cooling pattern and the cooling velocity are secured by keeping the contacting length of the amorphous thin strip after quickly cooling and solidifying with the cooling roll within the suitable range.例文帳に追加

二次的冷却手段を用いずに、所要の熱伝導率及び肉厚を有する冷却ロールを用い、急冷凝固後の非晶質薄帯と冷却ロールとの接触長さを適正範囲に維持して、適正な冷却パターン及び冷却速度を確保し、磁気特性に優れた鉄系非晶質薄帯を製造する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition as a chemically amplifying resist which is sensitive to active radiation, for example, far UV rays represented by KrF excimer laser or ArF excimer laser and which can form a resist pattern with excellent uniformity in film thickness, excellent adhesion property with a substrate, accuracy, sensitivity, resolution and so on.例文帳に追加

活性放射線、例えばＫｒＦエキシマレーザーあるいはＡｒＦエキシマレーザーに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、膜厚均一性が優れ、しかも基板接着性、精度、感度、解像度等にも優れたレジストパターンを与える感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

Patterns adjusting the aperture rate are successively arranged at pitches below a resolution limit so as not to resolve the patterns by a projection optical system and further while pattern sizes and pitches are sequentially calculated by successive places by grasping a residual film thickness characteristic of the photosensitive material to an exposure quantity, the patterns are arranged.例文帳に追加

開口率を調整するパターンを投影光学系によって解像させないために、解像限界以下のピッチでパターンを連続配置し、また露光量に対する感光性材料の残存膜厚特性を把握して連続した場所毎にパターンサイズとピッチを逐次計算しつつパターンを配置するように構成する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist for near-field exposure having good light efficiency and capable of reducing pattern edge roughness even in the case of a small thickness of an image forming photoresist layer and to provide a photolithography method characterized in including a step for exposing an image forming photoresist layer formed using the photoresist by near-field exposure.例文帳に追加

像形成用フォトレジスト層の層厚が小さくても光効率が良く、パターンエッジラフネスが低減できる近接場露光用のポジ型フォトレジストおよびこれを用いて形成した像形成用フォトレジスト層を近接場露光により露光する工程を含むことを特徴とする、光リソグラフィ方法を提供する。 - 特許庁

To provide a simply structured substrate exposure apparatus capable of reducing variations in a gap between a substrate to be exposed and a photomask, at a proximity exposure without having to prepare special peripheral equipment for correcting the deflection, thereby attaining reduction in the variations in the line width and the film thickness of a pattern formed on the substrate to be exposed.例文帳に追加

構造が単純であり、撓み補正に特別な周辺機材を準備することなく、被露光基板とフォトマスクとの近接露光時のギャップのバラツキを低減させ、それにより被露光基板に形成されるパターンの線幅、膜厚バラツキの低減を図ることを可能とする基板露光装置を提供する。 - 特許庁

A gap between conductor patterns which are formed on the surface of a laminated plate and have a thickness of 105 μm or more is filled with a resin composition, to make the surface of the conductor pattern flush with the surface of the resin composition, and after a metal foil is overlapped on the surface via a prepreg, this is heated and pressurized and is thereby laminate-molded.例文帳に追加

積層板の表面に形成された厚み１０５μｍ以上の導体パターン間の隙間に樹脂組成物を充填して前記導体パターンの表面と前記樹脂組成物の表面とを面一とし、次にこの面にプリプレグを介して金属箔を重ねた後、これを加熱加圧することによって積層成形する。 - 特許庁

In the intermediate transfer belt for the electrophotographic apparatus, the surface of the intermediate transfer belt is a resin layer that has a concavo-convex pattern formed by independent spherical resin particles embedded in the resin layer so that the embedment rate of the spherical resin particles in the thickness direction is higher than 50% but lower than 100%.例文帳に追加

電子写真装置用中間転写ベルトにおいて、該中間転写ベルトの表面が、独立した球形樹脂粒子により、深さ方向に５０％を超え１００％に満たない埋没率で埋め込まれた粒子によって凹凸形状を形成している樹脂層であることを特徴とする中間転写ベルト。 - 特許庁

To provide coating equipment for boundary diffusion treatment which can uniformly coat R_H powder on a predetermined surface of a sintered body without excess or deficiency with predetermined thickness, by a predetermined pattern when grain boundary diffusion treatment is performed in manufacture of an NdFeB group sintered magnet, and by which automation and coating treatment to many sintered bodies are easy.例文帳に追加

NdFeB系焼結磁石の製造において粒界拡散処理を行う際に、R_H粉末を焼結体の所定の面に、所定の厚さ、所定のパターンで、過不足なく均一に塗布することができ、自動化や多数の焼結体に対する塗布処理が容易な粒界拡散処理用塗布装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for preparing a thin film forming composition which suppresses increase in molecular weight of an alkoxysilane condensation product during storage and substantially avoids increase in viscosity of the composition, therefore enables to form a thin film uniform in film thickness and having a fine pattern shape with high accuracy.例文帳に追加

貯蔵保管時にアルコキシシラン縮合物の分子量の増大が抑制されており、薄膜形成用組成物の粘度の上昇が生じ難く、従って、膜厚が均一であり、微細パターン形状を有する薄膜を高精度に形成することを可能とする薄膜形成用組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

A distance X between the light shielding patterns 4 is set to 0<X≤a×L2/(L2+L1) or 0<X≤a×L2/(L2-L1) on the basis of thickness L1 of a transparent layer 6 that is a distance between the parallactic image 3 and the light shielding pattern 4, an observation distance L2 and pixel width (a) of the parallactic image 3.例文帳に追加

また、視差画像３と遮光パターン４との間の距離となる透明層６の厚さＬ１及び観察距離Ｌ２並びに視差画像３の画素幅ａに基づいて、遮光パターン４のパターン間距離Ｘが０＜Ｘ≦ａ・Ｌ２／（Ｌ２＋Ｌ１）又は０＜Ｘ≦ａ・Ｌ２／（Ｌ２−Ｌ１）に設定されている。 - 特許庁

A distance X between the light shielding patterns 4 is set to 0<X≤a×L2/(L2+L1) or 0<X≤a×L3/(L3-L1) on the basis of thickness L1 of the transparent medium 2 that is a distance between the parallactic image 3 and the light shielding pattern 4, an observation distance L2 and image width (a) of the parallactic image 3.例文帳に追加

また、視差画像３と遮光パターン４との間の距離となる透明媒体２の厚さＬ１及び観察距離Ｌ２並びに視差画像３の画像幅ａに基づいて、遮光パターン４のパターン間距離Ｘが０＜Ｘ≦ａ・Ｌ２／（Ｌ２＋Ｌ１）又は０＜Ｘ≦ａ・Ｌ３／（Ｌ３−Ｌ１）に設定されている。 - 特許庁

The light diffusing film made of polycarbonate resin has a thickness of 30 to 200 μm and an unevenness pattern on at least one of its surfaces, birefringence (absolute value of retardation) of ≤30 nm, total light beam transmissivity of ≥90%, and haze (cloudness degree) of ≥50%.例文帳に追加

ポリカーボネート樹脂より形成された厚さ３０〜２００μｍのフィルムであって、その少なくとも一面に凹凸形状の模様を有し、且つ複屈折（リターデーションの絶対値）が３０ｎｍ以下、全光線透過率が９０％以上およびヘーズ（曇り度）が５０％以上であるポリカーボネート樹脂製光拡散フィルム。 - 特許庁

To facilitate vapor deposition for forming a main reflection face, to reduce the thickness of a module as a whole, to secure an expanded light emission area per an LED, and to effectively use light in the acquisition of a desired light distribution pattern as vehicle signal light.例文帳に追加

主反射面を形成するための蒸着が容易であると共に、モジュール全体の薄型化が可能であるばかりでなく、ＬＥＤの１個当たりの拡大した発光面積を確保することができると共に、車両信号灯としての所望の配光パターンを得るときの光の有効利用をも図ることができること。 - 特許庁

This single particle pattern laminated membrane is manufactured by developing a fine particle-containing liquid or the like on the support having the surface on which the hydrophilic graft polymer chain is present patternwise and two-dimensionally flocculating the fine particles while controlling the developing thickness of the fine particle-containing liquid or the like to form the single particle layer.例文帳に追加

このような単粒子パターン積層薄膜は、微粒子含有液体等を親水性グラフトポリマー鎖がパターン状に存在する表面を有する支持体上に展開し、該微粒子含有液体等の展開厚みを制御しつつ微粒子を２次元凝集させ、単粒子層を形成させることにより製造しうる。 - 特許庁

A film of uniform thickness of a transparent plastic film 1 is formed in place of a coating film by a method in which the film 1 is pressed to a part to be protected in the surface of a base material 2 through a quick drying adhesive so that the shape, color, and pattern of the base material is expressed in the appearance.例文帳に追加

基材２の表面のうち、保護の必要な部分に、即乾性接着剤を介して、基材の原形及び色・模様が外観にもそのまま表れるよう、透明のプラスチックフィルム１を圧着させることによって、塗膜に代えて、透明のプラスチックフィルム１よりなる、略均一厚さの膜を形成する。 - 特許庁

With the photosensitive colored composition of the present invention, as a specified compound is used as a photopolymerization initiator in the composition, each color filter segment and a black matrix pattern having high sensitivity and superior properties can be formed even when a pigment content is high or even when the thickness of films of the color filter segment and the black matrix is large.例文帳に追加

本発明の感光性着色組成物は、特定の化合物を光重合開始剤として用いることにより、顔料含有量が高い、あるいは各色フィルタセグメントおよびブラックマトリックスの形成膜厚が厚くとも、高感度で、且つ優れた各色フィルタセグメントおよびブラックマトリックスパタ−ンを形成することができる。 - 特許庁

To provide a plating method which makes it possible to form a pattern film and a through hole film uniformly in thickness on both faces rapidly, in manufacturing a planar coil having a coil conductor filament with a small variation in DC resistance which can be widely used for various electric products including industrial apparatuses, consumer apparatuses, etc.例文帳に追加

産業機器、民生機器等の各種電気製品に広く利用可能な、直流抵抗のバラツキが小さいコイル導体線条を有する平面コイルの製造に対して、高速で、両面のパターン膜厚及びスルーホール膜厚が均一なめっき方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

A SiO_2 film is formed on a silicon substrate 100, optical waveguides consisting of clad layers 103, 104 and cores 105, 106 are formed, Cr thin film heaters 107, 108 are formed on the optical waveguides, and a diaphragm structure 102 is formed by reducing the thickness of a base in the region of the Cr thin film heater pattern.例文帳に追加

シリコン基板１００上にＳｉＯ_２膜１０１を形成し、クラッド層１０３、１０４と、コア１０５、１０６からなる光導波路と光導波路上にＣｒ薄膜ヒータ１０７、１０８を形成し、Ｃｒ薄膜ヒータパターンの領域で基盤の厚みをうすくしてダイヤフラム構造１０２を形成した。 - 特許庁

To provide an ultrathin copper foil with a carrier which has few pinholes and small surface roughness and which has the thickness of less than 5 μm, and to provide the method of producing the foil, and further to provide a printed circuit board for a fine pattern, a multilayer printed circuit board and a chip on film circuit board by using the ultrathin copper foil with a carrier.例文帳に追加

5μｍ以下の極薄銅箔で、ピンホール数が少なくかつ表面粗さの小さいキャリア付き極薄銅箔とその製造方法を提供し、更に、かかるキャリア付き極薄銅箔を使用したファインパターン用途のプリント配線板、多層プリント配線板、チップオンフィルム用配線板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a fluidity regulator, in which fluidity measured when mixing a non-aqueous coating is enhanced and fluidity after coating is lowered and uneven thickness and droplet-like roughness and unevenness of aggregation pattern do not occur on the coated surface, added to the non-aqueous coating in order to retain smoothness of the coated surface.例文帳に追加

非水系塗料を掻き混ぜたときの流動性を高め、それを塗布した後の流動性を低下させ、しかもその塗装面に不均一な厚さや液滴状の荒れや凝集模様の凹凸を生じさせず、塗装面の平滑を保持させるために、非水系塗料に添加される流動調整剤を提供する。 - 特許庁

A reflection film 5 having a prescribed pattern is formed at a non-pixel region where no pixels are formed on a semiconductor substrate; a color film 20 is formed on the semiconductor substrate where the reflection film 5 is formed; and the planarization film 22 is formed on the color film 20 so that the film thickness of a region corresponding to the reflection film 5 has a prescribed value.例文帳に追加

半導体基板上の画素が形成されない非画素領域に所定パターンの反射膜５を形成し、反射膜５が形成された半導体基板上にカラーフィルタ膜２０を形成し、カラーフィルタ膜２０上に、反射膜５に相当する領域が所定の膜厚になるように平坦化膜２２を形成する。 - 特許庁

The frequency selecting surface is provided with a frequency selecting surface main body 1 on which an element pattern, for example, a cross dipole type for reflecting or transmitting a radio wave of a certain frequency, a dielectric layer having radio wave transmission performance and laminated on this body 1, and a dielectric variable mechanism 3 for varying the thickness of this dielectric layer.例文帳に追加

特定の周波数の電波を反射又は透過させる例えばクロスダイポール型の素子パターンが設けられた周波数選択板主体１と、この周波数選択板主体１に積層された電波透過性を有する誘電体層と、この誘電体層の厚さを可変させる誘電体可変機構３とを備えること。 - 特許庁

To enhance uniformity of film thickness distribution on a plurality of substrate faces in a vacuum vapor-deposition method in which an organic electroluminescent element is fabricated by using a mask for vapor-depositing the substrate and pixel pattern, and using a mask holder and a vapor deposition source provided with alignment mechanism in order to carry out positioning of the substrates and the masks.例文帳に追加

基板と画素パターンを蒸着するためのマスクと、基板とマスクの位置合わせをするためのアライメント機構を備えたマスクホルダと蒸着源とを用いて、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製する真空蒸着方法において、複数個の基板面内上での膜厚分布均一性を高める。 - 特許庁

To provide a combined structure body of a chassis and a printed board provided with a signal transmission line of high frequency signals capable of being prepared without depending on the thickness of the printed board, for which an area to form a conductive pattern is not reduced, the need of the process of soldering or the like is eliminated and its attaching process is not complicated.例文帳に追加

プリント基板の厚さに依存することなく作成でき、導電パターンを形成する領域を減少させることなく、また、半田付け等の工程を必要とせずその取り付け工程が複雑でない、高周波信号の信号伝送線路を有するシャーシとプリント基板の組合せ構造体を提供する。 - 特許庁

Since the ink 3 is easily transferred from a stamp 1 in the high surface free energy part 5a, and the ink 3 is hardly transferred from the stamp 1 in the low surface free energy part 5b because surface free energy is small, miniaturization of an electrode pattern and increase of the thickness of an electrode layer are allowed in manufacturing an organic TFT element.例文帳に追加

高表面自由エネルギー部５ａでは、スタンプ１からインク３が転写されやすく、低表面自由エネルギー部５ｂでは、表面自由エネルギーが小さいためにスタンプ１からインク３が転写されにくくなるため、有機ＴＦＴ素子の製造において、電極パターンの微細化や、電極層の厚膜化が可能となる。 - 特許庁

At the time of etching a masking insulation film 3 and an isolation film 2 according to an isolation mask pattern, the reliability of an element can be enhanced by etching the isolation film 2 while leaving the thickness within several hundreds Å from a silicon substrate 1 thereby protecting the silicon substrate 1 against plasma.例文帳に追加

本発明は、分離マスクパターンに従ってマスキング絶縁膜3と分離酸化膜2とを順に蝕刻する時、分離酸化膜2をシリコン基板1から数百Å以内の厚さを残して蝕刻することによって、シリコン基板1がプラズマにより損傷しないようにして素子の信頼性を向上させることができる。 - 特許庁

The fine metal thin-film pattern with superior adherence properties is formed on the surface of the transition metal thin film layer, by applying a liquid, in which metal fine particles with average size of 1 to 100 nm are dispersed at a prescribed thickness, and by forming a layer in which fine metal particles are sintered mutually, by heating and sintering the above.例文帳に追加

この遷移金属薄膜層表面に、平均粒子径が１〜１００ｎｍの範囲に選択される金属微粒子の分散液を所定の膜厚塗布し、加熱焼成によって金属微粒子相互の焼結体層を形成することで、密着性に優れる、微細な金属薄膜パターンを形成する。 - 特許庁

To provide an alignment mark, a forming method of the alignment mark and the detecting method of the alignment mark by accurately detecting the edge part of the alignment mark by suppressing the asymmetry of the intensity distribution of a reflected signal caused by the difference of the thickness of a metal film formed on the side wall surface of a mark pattern.例文帳に追加

マークパターンの側壁面に形成される金属薄膜の膜厚の差に起因する、反射信号の強度分布の非対称性を抑制して、アライメントマークのエッジ部を精度良く検出することができるアライメントマーク及びアライメントマークの形成方法並びにアライメントマークの検出方法を提供する。 - 特許庁

Since a gap interval D1, between the magnetic pole layer 16 affecting recording characteristics and the write shielding layer 18, is prescribed, based on the formation thickness of the gap layer portion 17A, precisely controlling the gap interval D1 in contrast to when prescription is controlled with high precision, based on the pattern precision of a photolithographic technology.例文帳に追加

記録特性に影響を及ぼす磁極層１６とライトシールド層１８との間のギャップ間隔Ｄ１がギャップ層部分１７Ａの形成厚さに基づいて規定されるため、フォトリソグラフィ技術のパターン精度に基づいて規定される場合とは異なり、ギャップ間隔Ｄ１が高精度に制御される。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer processing system for improving the manufacturing yield of a semiconductor by drastically making uniform the thickness distribution of a photoresist film on a wafer, for reducing the deviation of the line width of a pattern, and efficiently suppressing the contamination of the wafer in a housing by dust or the like.例文帳に追加

ウェハ上のフォトレジスト膜の厚さ分布が格段に均一になってパターンの線幅の偏差が減少し、しかも塵埃等によるハウジング内におけるウェハの汚染を効率よく抑制することによって、半導体の製造収率を向上させることができる半導体ウェハプロセッシングシステムを提供すること。 - 特許庁

By supplying the film material (liquid material) by an ink jet system, the film material can be supplied only to a desired part of the semiconductor substrate and the supply thereof to an unnecessary part is prevented and the irregularity of film thickness is prevented from depending on the pattern on a semiconductor wafer.例文帳に追加

インク・ジェット方式で膜材料（液体材料）を供給することにより、半導体基板４２上の所望の部分にのみ膜材料を供給することができ、不要な部分への膜材料の供給が防止されるとともに、膜厚のばらつきが半導体ウエハ上のパターンに依存することがなくなる。 - 特許庁

To provide a photomask blank which can reduce the film thickness of a resist to effectively enhance the resolution of a mask pattern, can reduce a loading effect during dry etching, can reduce a shift amount of the mask dimension from the resist dimension, and can reduce the number of mask manufacturing processes, and to provide a photomask manufactured by using the blank.例文帳に追加

マスクパターンの高解像度化に効果的なレジストの薄膜化が可能で、ドライエッチング時のローディング効果が低減され、レジスト寸法からのマスク寸法のシフト量の低減が図れ、マスク製造工程数の削減が図れるフォトマスクブランクスおよびそのブランクスを用いて製造したフォトマスクを提供する。 - 特許庁

The biodegradable matting film material contains a biodegradable resin as a main component, and has a thickness of 10-50 μm, a transmittance of a visible light ray having a wavelength range of 400-700 nm of 10% or more, a surface state of a matting pattern and a tensile elastic modulus of 1.2 GPa or more.例文帳に追加

本発明の生分解性樹脂艶消しフィルム材料は、生分解性樹脂を主成分とする厚み１０〜５０μｍのフィルムであって、４００〜７００ｎｍの波長範囲の可視光線の透過率が１０％以上で、表面状態が艶消し模様であり、引張弾性率が１．２ＧＰａ以上である事を特徴とする - 特許庁

To provide a flat, thin film type diaphragm for a speaker and its manufacture in which the thickness of a conductive thin film, its pattern and impedance, and the heat resistant capacity can be set to desired values in a flat diaphragm in which a patterned thin film-like coil is formed on an insulation thin film.例文帳に追加

絶縁性薄膜上にパターン化された薄膜状のコイルを形成した平面振動板に於いて、導体薄膜の厚さと共にそのパターンとインピーダンス及び耐熱容量とを所望する形状に設定する事ができる、薄膜平面状のスピーカ用振動板とその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In this method, an exciting light capable of causing a self- fluorescence is emitted to the contact lens having a part changed in thickness in the circumferential direction of the lens, and the lens attitude is inspected or discriminated by the luminance pattern of a lens fluorescent image formed by the self-fluorescence caused by the emission of such an exciting light.例文帳に追加

レンズ周方向において厚みが変化する部位を有するコンタクトレンズに対して、自家蛍光を生ぜしめ得る励起光を照射し、かかる励起光の照射によって生じる自家蛍光にて形成されるレンズ蛍光像の輝度パターンより、レンズ姿勢を検査乃至は判定するようにした。 - 特許庁

To provide a colored composition which has high sensitivity and excels in pattern profile even with a high coloring material content or a large film thickness in an excimer laser exposure method at a specific wavelength, to provide a method of manufacturing a color filter using the same, and to provide a color filter manufactured by the method and a color filter using the composition.例文帳に追加

特定の波長のエキシマレーザ露光方式において、色素含有量が高い、あるいは膜厚が厚くとも、高感度であると共に、パターン形状に優れた着色組成物、それを用いたカラーフィルタの製造方法、およびその方法により製造されるカラーフィルタとそれを用いたカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

A mask 10 having an opening 11 of a fixed thickness is brought into contact with a substrate 30, having a concave portion 32 and a pattern 31 on the top surface, and the opening 11 is filled with solder 50 by squeegee equipment 20, having many segmented squeegees 21, with their vertical and movement directions limited to form a solder junction 51.例文帳に追加

凹部３２を有し、上面にパターン３１を有する基板３０に、厚さが一定の開口部１１を有するマスク１０を当接させ、上下及び移動方向を制限した複数の分割スキージ２１を有するスキージ装置２０により、開口部１１に半田５０を充填し、半田接合部５１を形成する。 - 特許庁

In the EL element comprising a substrate which at least a heat-resistant temperature or a melting point is 800 degrees C or more, and the dielectric layer which is formed by thick-film calcination, the dielectric layer is formed in a rectangle pattern with a side length of 2 times or more and 30 times or less in film thickness.例文帳に追加

少なくとも耐熱温度ないし融点が８００℃以上の基板と、厚膜焼成により形成された誘電体層を有するＥＬ素子であって、上記誘電体層が少なくとも膜厚の２倍以上、３０倍以下の長さの辺を有する矩形パターンに形成されている構成のＥＬ素子とした。 - 特許庁

To provide printing quality controlling method and device in multiple type page imposed printing in which center distances of respective parts can be automatically adjusted in the multiple type page imposed printing in response to the results of measurement obtained through the thickness of an ink film or the amount of embossing of a picture pattern having the embossed part of a sample printed article.例文帳に追加

サンプル印刷物のエンボス部を有する図柄のインキ皮膜厚さやエンボス量を測定し、それらの測定結果に応じて多面付け印刷に際して、各部の芯間距離を自動的に調整し得るようにした多面付け印刷における印刷品質管理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To surely determine whether or not a tape is stuck to a security thread part even for a medium in which a thread window pattern is formed in a security thread by discriminating whether or not the medium is a laminated bill in which the tape is stuck on the basis of thickness data corresponding to the security thread part of the medium.例文帳に追加

媒体のセキュリティスレッド部に対応する厚さデータに基づいてテープが貼（てん）付された貼（は）り合わせ券であるか否かを判別するようにして、セキュリティスレッドにスレッドウィンドウパタンが形成された媒体であっても、セキュリティスレッド部にテープが貼付されているか否かを確実に判定することができるようにする。 - 特許庁

Then the filler 15 is used to form an insulation layer having such thickness as to cover the circuit part 13, on the pattern formation surface of the first substrate 11.例文帳に追加

回路部品１３と、この回路部品１３を設けた第１の基材１１のパターン形成面との間に形成された隙間（ｇ）に充填材料１５を含浸させて、隙間（ｇ）をすべて充填材料１５ａで埋め込み、充填材料１５により、第１の基材１１のパターン形成面上に、回路部品１３を覆う厚みをもつ絶縁層を形成する。 - 特許庁