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thin- layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9481件
First, a silica thin film incorporating a columnar metal-containing layer oriented almost vertically to the main face of the substrate is formed by sputtering with a mixture of metal oxide or the like and silica as a target, the metal-containing layer is removed, and then, the solid electrolyte layer is buried in the openings thus the electrolyte film is obtained.例文帳に追加
まず、金属酸化物などとシリカの混合物をターゲットとするスパッタリングにより、基板の主面に対して略垂直に配向した柱状の金属含有層を内蔵するシリカ薄膜を形成し、金属含有層を除去し、得られた開口部に固体電解質層を埋め込んで形成する。 - 特許庁
The insulating thin film body 1 has an insulating, flexible substrate 2 in the shape of a flat plate, an adhesive layer 4 formed on at least one side of the substrate 2, and an insulating coating film layer 5 in which an insulating ink is applied on one side of the adhesive layer 4 in a shape of a range with insulation obtained.例文帳に追加
絶縁性且つ可撓性で平板状の基材2と、該基材2の少なくとも片面に設けられた粘着剤層4と、該粘着剤層4の片面に絶縁性が求められる範囲の形状に絶縁性インクにより塗布された絶縁性塗膜層5とを有する絶縁性薄膜体1とする。 - 特許庁
The method for fabricating a thin device 1 comprises a process for forming a flat film 3 on a substrate 2, a process for forming a lower conductor layer 10 on the flat film 3, a process for forming a dielectric film 20 on the lower conductor layer 10, and a process for forming an upper conductor layer 30 on the dielectric film 20.例文帳に追加
薄膜デバイス1の製造方法は、基板2の上に平坦化膜3を形成する工程と、平坦化膜3の上に下部導体層10を形成する工程と、下部導体層10の上に誘電体膜20を成膜する工程と、誘電体膜20の上に上部導体層30を形成する工程とを備えている。 - 特許庁
A resistor 2 having a prescribed length and width is formed of a thin film on a board 1, an insulator layer 3 is patterned so as to bestride the resistor 2 widthwise with both its ends left unoccupied, and the insulator layer 3 is post-baked and subjected to curing treatment, by which a slope is provided to the periphery of the insulator layer 3.例文帳に追加
基板1上に所定の長さと幅を有する抵抗体2を薄膜形成し、この抵抗体2の両端部を残して幅方向に跨がるように絶縁体層3をパターン形成した後、この絶縁体層3をポストベークしてからキュア処理することにより、絶縁体層3の周縁に傾斜を形成する。 - 特許庁
In a polymer electrolyte fuel cell single cell equipped with separators each having a passage formed of projecting and recessed portions and holding therebetween a polymer electrolyte membrane, an electrode catalyst layer and a gas diffusion layer, the gas diffusion layer has a hole portion formed of an opening portion and a thin passage portion.例文帳に追加
凸部および凹部で形成された流路を有し、高分子電解質膜、電極触媒層およびガス拡散層を挟持するセパレータを具備する固体高分子形燃料電池単セルにおいて、ガス拡散層が、開口部と細路部とからなる孔部を有する固体高分子形燃料電池単セルとする。 - 特許庁
The light emitting element emits light by an electric energy caused in an organic thin film including at least an electron implanting layer, an electron transport layer, and a positive hole transport layer between its anode and cathode.例文帳に追加
本発明は陽極と陰極の間に、少なくとも電子注入層、電子輸送層及び正孔輸送層を含む有機薄膜が形成された電気エネルギーにより発光する素子であって、前記電子注入層が下記一般式(1)又は(2)に示す基本骨格を有する化合物を含有することを特徴とする発光素子。 - 特許庁
An organic thin-film solar cell 10 has, on a support 12, a first electrode 17 configured to include a conductive mesh 14 and a conductive polymer layer 16, an electron block layer 18 made of an inorganic material, a bulk-heterojunction photoelectric conversion layer 22, and a counter electrode (second electrode) 24 in this order.例文帳に追加
支持体12上に、導電メッシュ14と導電性ポリマー層16を含んで構成される第1の電極17と、無機材料からなる電子ブロック層18と、バルクヘテロ型の光電変換層22と、対向電極(第2の電極)24と、をこの順に有する有機薄膜太陽電池10である。 - 特許庁
In the transparent gas barrier film constituted by successively forming a metal oxide thin film layer and the topcoating layer on one side of a plastic film, the topcoating layer is composed of a polyester resin, a polyurethane resin and an isocyanate and the weight ratio of the polyester resin and the polyurethane resin is 100:2-30.例文帳に追加
プラスチックフイルムの片面に、金属酸化物薄膜層、トップコート層が順次形成されている透明ガスバリアフイルムにおいて、トップコート層がポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、及びイソシアネートからなり、かつポリエステル系樹脂とポリウレタン系樹脂の重量比が、100:2〜30であることを特徴とする透明ガスバリアフイルム。 - 特許庁
Since a timing when a copper thin film layer Cu is exposed at a hole formation position is detected on the basis of the detected output from photo sensors 75 and 76, the supply of a UV laser beam UL for processing is stopped without damaging the layer Cu at the step of exposing the layer Cu on the bottom of the VIA hole.例文帳に追加
フォトセンサ75、76の検出出力に基づいてホール形成位置に銅薄膜層Cuが露出するタイミングを検出するので、銅薄膜層CuがVIAホール底部に露出した段階で銅薄膜層Cuにダメージを与えることなく加工用の紫外レーザ光ULの供給を停止させることができる。 - 特許庁
A silicone resin film or a silicone rubber film is formed on the outer circumference of a thin and long core material 1 to form an adsorption layer 2 capable of adsorbing dust adhering to an object E to be washed and an intermediate layer 3 is formed between the outer circumferential face of the core material 1 and the adsorption layer 2 to reinforce the adhesion of both.例文帳に追加
細長の心材1の外周に、シリコーン樹脂膜又はシリコーンゴム膜を成膜することによって、被洗浄物Eに付着している塵芥を吸着可能な吸着層2が形成され、心材1の外周面と吸着層2との間に、両者の結着を強化するための中間層3が形成されている。 - 特許庁
In this method for manufacturing the laminated sheet, a mirror surface-like metallic gloss ink layer containing a fine fragment of a metallic thin film in a binding resin, is laminated on a transparent or translucent film layer and an organic solvent with not less than 30% solubility to the binding resin is applied to the ink layer.例文帳に追加
透明又は半透明のフィルム層に、金属薄膜細片を結着樹脂中に含有した鏡面状金属光沢インキ層を積層した後、前記インキ層上に前記結着樹脂に対する溶解率が30%以上である有機溶剤を塗工する積層シートの製造方法を提供する。 - 特許庁
A thin GaN layer 2 is grown rate of 4 μm/h or less on a c-face sapphire substrate 1 by MOCVD or MBE, and then a sufficiently thick GaN layer 3 is grown on the GaN layer 2 at a rate higher than 4 μm/h but not higher than 200 μm/h by hydride VPE.例文帳に追加
c面サファイア基板1上にMOCVD法やMBE法により4μm/h以下の成長速度で薄いGaN層2を成長させた後、このGaN層2上にハイドライドVPE法により4μm/hよりも大きくかつ200μm/h以下の成長速度で十分に厚いGaN層3を成長させる。 - 特許庁
The magnetic recording medium has at least the subbing layer and the metal thin film magnetic layer on at least one surface of a substrate in this order from the substrate side, wherein the subbing layer comprises a radiation curing resin obtained by irradiating a compound selected from the followings (1) to (3) with a radiation.例文帳に追加
支持体の少なくとも一方の面に、支持体側から少なくとも下塗り層及び金属薄膜磁性層をこの順に有する磁気記録媒体であって、当該下塗り層が、下記(1)〜(3)から選択される化合物に放射線を照射することによって得られる放射線硬化樹脂からなる磁気記録媒体。 - 特許庁
A p-type hydrogenated microscopic crystal silicon layer 103 whereon a microscopic crystal silicon thin film solar battery si formed on a substrate 101, a microscopic crystal buffer layer 104, an i-type hydrogenated structure, containing at least an n-type hydrogenated microscopic crystal silicon layer 106, and a reflection electrode, formed on the laminated structure, are provided.例文帳に追加
微結晶シリコン薄膜太陽電池が、基板と、該基板の上に形成された、p型水素化微結晶シリコン層、微結晶バッファ層、i型水素化微結晶シリコン層、及びn型水素化微結晶シリコン層を少なくとも含む積層構造と、該積層構造の上に形成された反射電極と、を備える。 - 特許庁
To provide a production method of a silicon wafer capable of effectively exercising a gettering effect also in a thin film device while having BMD (Bulk Micro Defect) in a shallow region of, for example, ≤10 μm from a surface layer with high density, but having no defect in an extreme surface layer functioning as a device active layer.例文帳に追加
表層から例えば10μm以内までの浅い領域にBMD(Bulk Micro Defect)が高密度で存在するが、デバイス活性層として機能する極表層には欠陥が存在せず、薄膜デバイスに対してもゲッタリング効果を有効に発揮しうるシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁
In the manufacturing method of the magnetic recording medium wherein a carbon protective film is formed on a metal thin film magnetic layer of the magnetic recording medium and the lubricating layer is formed on the carbon protective film, a lubricant solution for forming the lubricating layer is heated at a piping part between a storage tank and a nozzle part or at the nozzle part.例文帳に追加
磁気記録媒体の金属薄膜磁性層上に炭素保護膜を形成し、さらに該炭素保護膜上に潤滑層を形成する磁気記録媒体の製造方法において、上記潤滑層形成用の潤滑剤溶液を保管タンクとノズル部との間の配管または該ノズル部にて加熱する。 - 特許庁
The false eyelashes include an extremely thin base 1, an adhesive layer 4 formed in a linear state on the surface of the base, many hair materials 3 individually stuck to the adhesive layer in a separated state, and an adhesive layer 7 formed on the whole reverse surface of the base.例文帳に追加
極薄のベース1と、該ベースの表面に直線状に形成された接着層4と、該接着層に個々に分離状態にて貼着された多数本のヘア材3と、上記ベースの裏面全面に形成された粘着層7とからなり、上記ベースが装着される瞼のわん曲形状に沿って三次元形状に形成される。 - 特許庁
The gas barrier laminated film for the organic device includes two or more gas barrier laminates having at least one layer of an inorganic thin film layer formed on at least one surface of a base film, wherein each of the gas barrier laminates is adhered by an adhesive layer which is excellent in gas barrier properties and includes few foreign substances and/or air bubbles.例文帳に追加
基材フィルムの少なくとも一方の面に形成された無機薄膜層を少なくとも1層有するガスバリア性積層体を複数枚有し、各ガスバリア性積層体をガスバリア性が優れるとともに、異物及び/又は気泡の数が少ない接着剤層により接着してなる有機デバイス用ガスバリア性積層フィルム。 - 特許庁
An activated metal element formed by reducing a natural oxide film or an oxide film 4 generated at low temperatures of 250°C or less on the surface of the semiconductor layer 1 is bonded with other element, thereby a thin film compound semiconductor layer 2 higher in carrier concentration and lager in band gap than the semiconductor layer 1 is formed.例文帳に追加
半導体層1表面の自然酸化膜または250℃以下の低温で生成した酸化膜4を還元して形成される活性化した金属元素と結合させることにより、半導体層1よりも高キャリア濃度で、かつ、バンドギャップが前記半導体層より大きい薄膜化合物半導体層2を形成する。 - 特許庁
The insulating layer 21 having the above chemical structure can allow a frequency temperature coefficient of the surface acoustic wave element to approximate to zero within a range of a thin film thickness of the insulating layer 21, irrespective of the material of the piezoelectric substrate 12, compared to the conventional case that a silicon dioxide film is used as an insulating layer.例文帳に追加
上記の化学構造を有する絶縁層21により、従来、絶縁層として二酸化ケイ素膜を用いたときに比べて、前記圧電性基板12の材質にかかわらず、前記絶縁層21を薄い膜厚の範囲内で、弾性表面波素子の周波数温度係数を0に効果的に近づけることが出来る。 - 特許庁
The second thin film portion may be formed by depositing a sacrifice area to the perpendicular wall of a first limit layer, depositing a second limit layer to the side surface where the sacrifice area is not deposited, removing thereafter the sacrifice area, forming a sublithographic aperture for etching the mold aperture in the mold layer, and then filling the mold aperture.例文帳に追加
第2の薄膜部分は、第1限界層の垂直壁に犠牲領域を付着し、犠牲領域の堆積のない側面に第2限界層を付着し、その後犠牲領域を取り除き、モールド層内のモールド開口部エッチング用のサブリソグラフィック開口部を形成し、モールド開口部を充填することにより形成する。 - 特許庁
Pixel portion 111 is divided into a plurality of pixel strings by a bank 121, and a head part 115 of thin film forming apparatus is scanned along the pixel strings, thereby, an application liquid 114a for red color luminescent layer, an application liquid 114b for green color luminescent layer, and an application liquid 114c for blue color luminescent layer are applied in stripe shapes at the same time.例文帳に追加
画素部111をバンク121により複数の画素列に分割し、薄膜形成装置のヘッド部115を画素列に沿って走査することにより、赤色発光層用塗布液114a、緑色発光層用塗布液114b、青色発光層用塗布液114cを同時にストライプ状に塗布する。 - 特許庁
To obtain an inexpensive thin wiring board carrying wiring layers using no copper-plated substrate formed by sticking copper foil, etc., to a substrate with an adhesive on both surfaces of an insulating layer and a conductive layer on the internal surface of the through hole of the insulating layer, a multilayered wiring board, and a method for manufacturing the wiring boards.例文帳に追加
絶縁層の表裏両面に配線層を有し、絶縁層の貫通孔内面に導電層を有する配線基板において、前記配線層を、銅箔等を接着剤で接着した銅張り基板を用いない安価で薄型の配線基板,多層配線基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
This original plate of a lithographic printing plate can be recorded by laser beams and is equipped with a thin inorganic film hydrophilic layer having an absorbency of 0 to 0.3 to laser beam wavelength used for forming an image and a water-soluble over-coating layer including a photothermal converting agent on an ink accepting layer having a thermoplastic or a heat decomposable surface in the order named.例文帳に追加
レーザ光により記録可能であり、熱可塑性または熱分解性表面を有するインク受容層上に、画像形成に使用するレーザー光波長に対する吸光度が、0〜0.3である無機薄膜親水性層と、光熱変換剤を含有する水溶性オーバーコート層と、を順次備えてなることを特徴とする。 - 特許庁
A protective layer forming device 2 placed opposite a photoreceptor drum 1 is composed chiefly of: the image carrier protective agent 21; a protective agent supply member 22 in the form of a brush roller; a pressing force applying mechanism 23; and a protective layer forming mechanism 24 which converts the image carrier protective agent supplied to a surface of the photoreceptor drum 1 to a thin layer.例文帳に追加
感光体ドラム1に対向して配設された保護層形成装置2は、像担持体保護剤21、ブラシローラ状の保護剤供給部材22、押圧力付与機構23、感光体ドラム1の表面に供給された像担持体保護剤を薄層化する保護層形成機構24等から構成されている。 - 特許庁
The thin-film-forming method includes a plasma (etching) treatment step S3 of exposing an organic layer formed on an object to be film-formed thereon to a plasma atmosphere in a vacuum, and an SiO_2-film-forming step S4 of forming a layer of an SiO_2 film on the organic layer of the object to be film-formed thereon in the vacuum.例文帳に追加
本発明方法は、成膜対象物上に設けられた有機層に対して真空中でプラズマ雰囲気に曝すプラズマ(エッチング)処理工程S3と、この成膜対象物の有機層上に真空中でSiO_2膜層を形成するSiO_2膜形成工程S4を有する薄膜形成方法である。 - 特許庁
In the multi-layered optical thin film 10, at least two layers 11, 12 and 13 having different refractive index are layered on a base material, and the 1st layer 11 coming in contact with an incident medium is constituted of a porous layer having a pore filling density of ≤70%, and the gap 16 of the porous layer is formed into an open pore.例文帳に追加
屈折率の異なる少なくとも2つの層11、12、13が基材上に積層された多層構造の光学薄膜10であって、入射媒質と接する第一層11が空間充填密度70%以下の多孔質層からなり、この多孔質層の空隙16が開気孔となっている。 - 特許庁
By providing a pair of conductive members 32 opposed to each other via an insulting layer 31 on the surface opposite to the magnetic recording medium 12 of the magneto-resistive effect layer 11, the resolution can be easily controlled by the thickness of the insulating layer 31 and higher recording density can be realized than that in a conventional shield type thin film magnetic head.例文帳に追加
また、磁気記録媒体12とは逆側の磁気抵抗効果層11の面に絶縁層31を介して対向した一対の導電性部材32を構成することにより、絶縁層31厚で容易に分解能を制御でき、従来のシールド型薄膜磁気ヘッドよりも高記録密度化が実現できる。 - 特許庁
To provide a coating liquid for a colorless and transparent protective layer of a silicon oxide thin-film layer composing a transparent gas barrier film having high gas barrier properties without lowering the gas barrier properties or without dissolving or swelling the protective layer even when printed with gravure ink using a solvent and carrying out high-quality printing.例文帳に追加
無色透明であり、かつ高いガスバリア性を有するとともに、溶剤を用いるグラビアインキで印刷を施してもガスバリア性が低下したり、保護層が溶解膨潤せず、しかも高品質の印刷が可能な透明ガスバリアフィルムを構成できる酸化珪素薄膜層の保護層用塗工液を提供すること。 - 特許庁
An organic thin film transistor generally comprises, on a substrate 20, a gate electrode 30, a source electrode 50, a drain electrode 60, an electrically insulating gate dielectric layer 40 which separates the gate electrode from the source and drain electrodes, and a semiconducting layer 70 which is in contact with the gate dielectric layer and bridges the source and drain electrodes.例文帳に追加
有機薄膜トランジスタは一般に、基板20上に、ゲート電極30、ソース電極50およびドレイン電極60、ゲート電極をソースおよびドレイン電極と分離する電気絶縁ゲート誘電体層40、およびゲート誘電体層と接触し、ソースおよびドレイン電極を架橋する半導体層70を含む。 - 特許庁
To provide an electro-optical device for improving productivity by preventing a shading layer from electrifying, preventing defect of a semiconductor layer of a thin film transistor, and facilitating removal of particles of the surface of the shading layer, and to provide its manufacturing method, and electronic equipment using the electro-optical device.例文帳に追加
遮光層が帯電することを防止して薄膜トランジスタの半導体層の欠陥を防止すると共に、遮光層表面のパーティクルの除去を容易にして生産性を向上させることができる電気光学装置とその製造方法、およびその電気光学装置を用いた電子機器を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a thin film transistor, wherein an In-Ga-Zn-O group homologous oxide semiconductor is used as an active layer, damage in the active layer is suppressed without forming an etching stopper layer, and resistance of source-drain electrodes can be reduced; and to provide a method for manufacturing an electro-optical device.例文帳に追加
活性層としてIn−Ga−Zn−O系ホモロガス酸化物半導体を用い、エッチングストッパー層を形成することなく活性層のダメージを抑制するとともに、ソース・ドレイン電極の低抵抗化を図ることが可能な薄膜トランジスタの製造方法及び電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To prevent characteristic deterioration of a semiconductor by preventing contamination of the semiconductor due to heavy metal ions contained in a piezoelectric body and to prevent characteristic deterioration of the piezoelectric body due to a catalytic action of platinum group elements to be an electrode material, in a laminate structure wherein a magneto-optical layer/a piezoelectric layer/a thin film transistor circuit layer are layered in this order.例文帳に追加
磁気光学層/圧電層/薄膜トランジスタ回路層の順の積層構造であって、圧電体に含まれている重金属イオンによる半導体の汚染を防いで半導体の特性劣化を防止し、電極材料である白金族元素の触媒作用による圧電体の特性劣化が生じないようにする。 - 特許庁
The manufacturing method comprises the steps to cast a polyimide precursor solution onto the outer surface of a core or molding the polyimide tubular product and deposit a metallic powder to the outer surface of the cast polyimide precursor moldings prior to conversion to an imide to obtain the metallic anchor layer 2 and form the metallic thin film layer 3 for electromagnetic induction heat generation on the surface of the metallic anchor layer 2 after conversion to the imide.例文帳に追加
製法は、ポリイミド管状物の成形用芯体の外面にポリイミド前駆体液をキャスト成形し、イミド転化させる前に金属粉体をポリイミド前駆体成形外面に付着させて金属アンカー層とし、その後イミド転化させたのち、表面に電磁誘導発熱用金属薄膜層3を形成する。 - 特許庁
An application liquid 114a for a red light-emitting layer, an application liquid 114b for a green light-emitting layer, and an application liquid 114c for a blue light-emitting layer are simultaneously applied in stripes by dividing a pixel portion 111 into plural pixel columns by banks 121 and scanning a head part 115 of a thin-film formation apparatus along the pixel columns.例文帳に追加
画素部111をバンク121により複数の画素列に分割し、薄膜形成装置のヘッド部115を画素列に沿って走査することにより、赤色発光層用塗布液114a、緑色発光層用塗布液114b、青色発光層用塗布液114cを同時にストライプ状に塗布する。 - 特許庁
The base material with the graphene sheet 1 is formed by successively laminating a thin layer 3 containing a silicon atom such as a silicon carbide layer and a carbon atom, a silicide layer 4 containing a metal such as Ni and the graphene sheet 5 on the base material 2 composed of a glass-coated metal substrate, a glass substrate, etc. where glass is coated on the glass substrate and the metal substrate.例文帳に追加
本発明のグラフェンシート付き基材1は、ガラス基板、金属基板の表面にガラスがコーティングされたガラス被覆金属基板等からなる基板2上に、炭化珪素層等の珪素原子及び炭素原子を含む薄膜層3、Ni等の金属を含むシリサイド層4、グラフェンシート5が順次積層されている。 - 特許庁
The organic thin-film transistor comprises a gate electrode pattern, a gate insulation layer, a source electrode pattern, a drain electrode pattern, and a semiconductor layer containing an organic semiconductor material formed on a substrate wherein the gate insulation layer contains gelatin bridged by a hardening agent.例文帳に追加
基体上に、少なくともゲート電極パターン、ゲート絶縁層、ソース電極パターン、ドレイン電極パターン、及び有機半導体材料を含有する半導体層と、を有する有機薄膜トランジスタにおいて、該ゲート絶縁層が、硬膜剤によって架橋されたゼラチンを含むことを特徴とする有機薄膜トランジスタ。 - 特許庁
This thread for preventing counterfeit is a thread to be used by making a patterned paper with the thread, and has a surface smooth layer 13 composed of a metal having 0.01-0.1 μm thickness formed on the surface of a base material composed of a resin film, and a ferromagnetic thin membrane layer 15 formed on the surface smooth layer 13.例文帳に追加
本発明の偽造防止用スレッドは、偽造防止用紙に抄き込んで使用するためのスレッドであって、樹脂フィルムからなる基材11表面に、0.01〜0.1μmの膜厚の金属からなる表面平滑層13を設け、該表面平滑層の上に強磁性薄膜層15を形成したことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a small, thin wiring board which can secure the reliability of a buried component and the reliability of connection with a conductive layer including the component, a component connection and a wiring line and which also can secure an adhesion between the conductive layer and an insulating layer and can attain high-density wiring, and also a method of manufacturing the wiring board.例文帳に追加
埋設された部品の信頼性および部品と部品接続部及び配線を含む導電層との接続の信頼性も確保でき、かつ導電層と絶縁層の密着性を確保できるとともに、高密度配線が可能な小型で薄型の配線基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
This optical disk 1 has a resin material layer 31 which is provided between the metallization layer 12 of a first substrate 11 and the thin layer 22 through which light having a prescribed wavelength of a second substrate 21 can pass and in which different composition are given to a side near an opening 1a and a position distant from the opening.例文帳に追加
この発明の光ディスク1は、第1の基板11の金属層12と第2の基板21の所定の波長の光が透過可能な材料の薄層22との間に設けられ、開孔1aの近傍の側と開孔から離れた位置で、異なる組成が与えられている樹脂材料層31を有する。 - 特許庁
In the external packaging film for the battery, the protective layer is formed on the outer surface of a printing layer 5 where a decorative image for improving outer appearance or letters 30 for displaying the battery specification is printed on the outer surface of the film substrate, and the thin film area for printing the management data relating to the battery is formed on the protective layer.例文帳に追加
電池用外装フィルムは、フィルム基材の外表面に、外観向上のための装飾画像や電池仕様表示のための文字など30が印刷されてなる印刷層5の外表面に保護層が形成され、当該保護層には、電池に関する管理データを印刷するための薄膜領域が形成されている。 - 特許庁
By utilizing this phenomenon, inspection light is allowed to enter from the optically-transparent thin film layer side constituting the optical laminate 4, and the light intensity of reflected light from each layer changing corresponding to the change of an optical path length to each layer is measured, and the film thickness is inspected based on the reflected light intensity in a specific wavelength.例文帳に追加
この現象を利用して、光学積層体4を構成する光透過性薄膜層側から検査用光を入射させ、各層までの光路長の変化に応じて変化する各層からの反射光の光強度を測定し、特定波長の反射光強度に基づいて膜厚を検査する。 - 特許庁
The positive electrode 3 is formed of a conductive layer containing a carbon nano structure, and the thickness of the conductive layer is controlled so that the absolute value of the difference between the ionization potential Φ_a2 of the conductive layer after controlling the thickness of the carbon nano structure and the ionization potential Φ_H of the functional thin film 4 may be smaller.例文帳に追加
陽極3はカーボンナノ構造体を含有する導電層により形成され、導電層の厚みが、カーボンナノ構造体の厚さを制御した後の導電層のイオン化ポテンシャルΦ_a2と機能性薄膜4のイオン化ポテンシャルΦ_Hとの差の絶対値が小さくなるように制御されている。 - 特許庁
To provide a metal blackening treatment method capable of easily forming a blackened layer for preventing the reflection of light emitted from the screen of a display and the incident light from the outside for improving the viewability of the display screen, and forming a thin blackened layer of superior adhesion at the base-metal layer interface.例文帳に追加
ディスプレイの表示面からの出射光や外部からの入射光の反射を防止して、表示画面の視認性を向上させることを目的とする黒化層の形成が容易であり、且つ基材−金属層界面の密着性に優れた薄い黒化層を形成することが可能な金属黒化処理方法を提供する。 - 特許庁
The thin film magnetic head for azimuth recording of a helical tape scan system is provided with an upper layer magnetic core and a lower layer magnetic core, and one side 37 of the magnetic pole end part 36A of the upper layer magnetic core 36 is obliquely cut so as to be parallel to the end edge of a recording track in a width direction or enter the recording track.例文帳に追加
ヘリカルテープスキャン方式のアジマス記録用の薄膜磁気ヘッドであって、上層磁気コア33及び下層磁気コア36を有し、上層磁気コア36の磁極端部36Aの片側37が、記録トラックの幅方向の端縁に平行にもしくは記録トラック内に入り込むように、斜めカットされて成る - 特許庁
A pixel section 111 is divided into a plurality of pixel rows by a bank 121, and a head section 115 of a thin film deposition device is scanned along a pixel row to simultaneously apply application liquid 114a for a red light-emitting layer, application liquid 114b for a green light-emitting layer, and application liquid 114c for a blue light-emitting layer in stripe shapes.例文帳に追加
画素部111をバンク121により複数の画素列に分割し、薄膜形成装置のヘッド部115を画素列に沿って走査することにより、赤色発光層用塗布液114a、緑色発光層用塗布液114b、青色発光層用塗布液114cを同時にストライプ状に塗布する。 - 特許庁
A magnetic layer 2 having a ferromagnetic metal thin film having film thickness of 100 nm or less is formed at a main plane of a non-magnetic supporter of long-length, a protective layer 3 containing carbon formed by the chemical vapor deposition utilizing an ion source including the hollow cathode is formed on its upper layer.例文帳に追加
長尺状の非磁性支持体1の一主面に、100nm以下の膜厚を有する強磁性金属薄膜を有する磁性層2が形成され、その上層に、ホローカソードを含むイオン源を利用する化学気相成長法により形成された炭素を含有する保護層3が形成された構成の磁気記録媒体とする。 - 特許庁
A transparent film with gas barrier properties having a thermoplastic polymer film, a primer layer overlying at least one face of the thermoplastic polymer film, and an inorganic thin film layer overlying the primer layer, is characterized in that the primer layer comprises an aromatic hydrocarbon component, an N-containing component, a methacrylate component, and a silane compound component.例文帳に追加
熱可塑性高分子フィルムと、前記熱可塑性高分子フィルムの少なくとも一方の面に積層されたプライマー層と、前記プライマー層の上に積層された無機薄膜層とを有するガスバリア性透明フィルムであって、前記プライマー層が、芳香族炭化水素成分、N含有成分、メタクリレート成分、およびシラン化合物成分を含むことを特徴とするガスバリア性透明フィルム。 - 特許庁
Because the curable resin layer 4 has a thin thickness of 10-500 nm, radical species and active oxygen species produced by activation of the photocatalyst particles in the photocatalyst layer 3 by light permeating through the curable resin layer 4 are scattered through the curable resin layer 4 to the front face side to decompose a malodor component and an organic substance of a low molecular weight and demonstrate antibacterial/antifungal actions.例文帳に追加
硬化性樹脂層4の厚さが10〜500nmと薄いため、硬化性樹脂層4を透過した光により光触媒層3の光触媒粒子が活性化されて発生するラジカル種や活性酸素種などが、薄い硬化性樹脂層4を越えて表面側へ飛散し、悪臭成分や低分子量有機物の分解作用、抗菌・防黴作用などを行う。 - 特許庁
The formation method of a thin-film transistor comprises a first process for forming a source electrode and a drain electrode in the element side board, a second process for forming a semiconductor layer brought into contact with the source electrode and the drain electrode, a third process for forming a gate insulating layer which overlaps with the semiconductor layer, and a fourth process for forming a gate electrode which overlaps with the gate insulating layer.例文帳に追加
薄膜トランジスタの形成方法が、素子側基板にソース電極およびドレイン電極を設ける第1の工程と、前記ソース電極およびドレイン電極に接する半導体層を設ける第2の工程と、前記半導体層に重なるゲート絶縁層を設ける第3の工程と、前記ゲート絶縁層に重なるゲート電極を設ける第4の工程と、を包含している。 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
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