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third stepの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 821件
A method of manufacturing the semiconductor device comprises: a first step of growing a layer constituting the second semiconductor layer on the first semiconductor layer; a second step of ion-injecting a first-conductivity-type impurity into the entire surface of the layer; and a third step of selectively ion-injecting a second-conductivity-type impurity into portions to be the second semiconductor regions of the layer.例文帳に追加
そして、その製造方法は、前記第1半導体層の上に前記第2半導体層を構成する層を成長する第1の工程と、前記層の全面に第1導電形の不純物をイオン注入する第2の工程と、前記層の前記第2半導体領域となる部分に第2導電形の不純物を選択的にイオン注入する第3の工程と、を備える。 - 特許庁
The method for manufacturing the thermion emission element includes a first step in which a base plate is provided, a second step in which a first electrode and a second electrode are arranged on the base plate, and a third step in which a carbon nanotube structural body is arranged so that it covers one of surfaces of the first electrode and the second electrode, separated with a predetermined distance from the base plate.例文帳に追加
本発明の熱電子放出素子の製造方法は、基板を提供する第一ステップと、前記基板に第一電極及び第二電極を設置する第二ステップと、前記基板と所定の距離だけで分離させて、前記第一電極及び第二電極の一つの表面を被覆するように、カーボンナノチューブ構造体を設置する第三ステップと、を含む。 - 特許庁
The manufacturing method includes: a first step to etch a bulk substrate so as to form at least one floating body pattern; a second step to etch a bulk area beneath the floating body pattern so as to divide the bulk substrate into a substrate area and a floating body area; and a third step to fill an area between the floating body area and the substrate area with an insulating material.例文帳に追加
バルク基板をエッチングして少なくとも一つのフローティングボディーパターンを形成する第1工程と、フローティングボディーパターン下部のバルク領域をエッチングして、バルク基板を基板領域とフローティングボディー領域とに分離する第2工程と、フローティングボディー領域と基板領域との間を絶縁物質で満たす第3工程と、を含む半導体基板の製造方法。 - 特許庁
This method for manufacturing of a semiconductor device includes: a first step of carrying a silicon substrate into a processing chamber; a second step of supplying at least a first silane-based gas and a first etching gas into the processing chamber while heating the silicon substrate; and a third step of supplying at least a second silane-based gas and a second etching gas into the processing chamber while heating the silicon substrate.例文帳に追加
シリコン基板を処理室内に搬入する第一のステップと、前記シリコン基板を加熱しつつ、前記処理室内に少なくとも第一のシラン系ガスと第一のエッチングガスを供給する第二のステップと、前記シリコン基板を加熱しつつ、前記処理室内に少なくとも第二のシラン系ガスと第二のエッチングガスを供給する第三のステップと、を有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁
This method for measuring an explosive includes the first step for allowing one surface enhanced Raman scattering substrate to adsorb vapor of the explosive, the second step for irradiating the surface enhanced Raman scattering substrate adsorbing the vapor of the explosive with light, and the third step for measuring scattered light formed by the surface enhanced Raman scattering substrate.例文帳に追加
本発明の爆発物を測定する方法は、一つの表面増強ラマン散乱基板に爆発物の蒸気を吸着させる第一ステップと、前記爆発物の蒸気が吸着された前記表面増強ラマン散乱基板に、光を照射する第二ステップと、前記表面増強ラマン散乱基板により形成された散乱光を測定する第三ステップと、を含む。 - 特許庁
The method of manufacturing a metal oxide porous membrane incudes a first step of forming a metal oxide layer consisting of a flux containing metal oxide particles and an alkali metal compound on a substrate, a second step of heating and sintering the metal oxide particles at a temperature of a melting point or lower, and a third step of eliminating the flux from the obtained sintered compact.例文帳に追加
金属酸化物粒子とアルカリ金属化合物を含むフラックスからなる金属酸化物層を基板上に形成する第一の工程と、金属酸化物粒子の融点以下の温度で加熱して焼結させる第二の工程と、得られた焼結体からフラックスを除去する第三の工程とを有することを特徴とする金属酸化物多孔質膜の製造方法。 - 特許庁
The method for producing the dispersion sol of inorganic fine particles in the organic solvent comprises: the first step of adding a dispersant to an aqueous dispersion sol of inorganic fine particles; the second step of freeze-drying or spray-drying the dispersant-added aqueous dispersion sol to obtain dried fine powder; and the third step of dispersing the dried fine powder in the organic solvent.例文帳に追加
本発明は、無機微粒子の水系分散ゾルに、分散剤を添加する第1工程と、前記分散剤が添加された前記水系分散ゾルを、凍結乾燥または噴霧乾燥して、乾燥微粉末を得る第2工程と、前記乾燥微粉末を、有機溶媒に分散させる第3工程と、を含む、無機微粒子の有機溶媒分散ゾルの製造方法である。 - 特許庁
This measured data processing method comprises: a first step for generating a measured data file; a second step for combining the measured data file with a conversion program for converting the measured data file into a desired file format and editing them as an output data file; and a third step for transmitting the edited data file to the storage device.例文帳に追加
測定データファイルを生成する第1のステップと、測定データファイルと測定データファイルを所望のファイル形式に変換する変換用プログラムとを組み合わせて出力データファイルとして編集する第2のステップと、編集されたデータファイルをストレージ装置に送信出力する第3のステップとを含むことを特徴とする測定データ処理方法および測定データ処理装置。 - 特許庁
A first step for entirely or partially displaying web contents for the existing non-portable terminals, a second step for acquiring corresponding image elements from the web contents for non-portable terminals, with respect to a selection operation for a portion of the displayed web contents for non- portable terminals, and a third step for preparing new web contents for portable terminals from the acquired image elements.例文帳に追加
既存の非携帯端末向けWebコンテンツ全体あるいは一部を表示する第1ステップと、表示した非携帯端末向けWebコンテンツの一部に対する選択操作に対し、対応する画面要素を非携帯端末向けWebコンテンツから取得する第2ステップと、取得した画面要素から新規の携帯端末向けWebコンテンツを作成する第3ステップとを備えることを特徴とする。 - 特許庁
A thin film transistor manufacturing method comprises a first step in which an auxiliary conductor pattern is provided so as to connect conductor patterns which are electrically insulated from each other, a second step in which impurity ions are implanted using the conductor patterns and the auxiliary conductor pattern as an ion implantation mask, and a third step in which the auxiliary conductor pattern is removed.例文帳に追加
本発明は、薄膜トランジスタの製造方法において、電気的に孤立した複数の導体パターンを相互に連結する補助導体パターンを設ける段階と、前記導体パターン及び前記補助導体パターンをイオン注入マスクとして利用して不純物イオン注入を実施する段階と、前記補助導体パターンを除去する段階とを備えることを特徴とする。 - 特許庁
The system has a first process step of selectively exposing the adhesive layers changed in adhesive strength by photoirradiation, a second process step of bringing the selectively exposed adhesive layers into contact with a thin-film element array existing on a first substrate, and a third process step of selectively transferring portions of the thin-film elements from the first substrate to the selectively exposed adhesive layers according to exposure patterns.例文帳に追加
光照射により接着力が変化する接着層を選択的に露光する第1の工程と、前記選択露光した接着層を第1の基体上にある薄膜素子アレイに接触させる第2の工程と、前記薄膜素子の一部を前記第1の基体から前記選択露光した接着層上に露光パターンに応じて選択的に移す第3の工程を有している。 - 特許庁
The electronic certificate issuing method comprises a first step in which a presented certificate of a public value is verified to be true, a second step in which an electronic certificate containing the content of a presented certificate or a content equivalent to the one is generated only if the presented certificate is true, and a third step in which a trusted organization appends an electronic signature to the electronic certificate.例文帳に追加
提示された公的価値のある証明書が真正であることを確認する第1のプロセスと、真正である場合に限りその証明書に記載された内容またはそれと同等の内容を含む電子証明書を生成する第2のプロセスと、信頼された機関が上記電子証明書に対して電子署名を付与する第3のプロセスとを有する電子証明書発行方法。 - 特許庁
A seizure resistance improving method comprises a first step of carburizing a sliding surface of a steel base, a second step of performing chromium plating on the carburized sliding surface, and a third step of forming an oil sump recess comprising very small recesses in a chromium-plated layer and a relatively large recess formed by a peeled chromium-plated layer on the sliding surface by giving shocks to the chromium-plated sliding surface.例文帳に追加
鉄鋼基材の摺動面を浸炭処理する第1の工程と、浸炭処理された上記摺動面にクロムメッキを施す第2の工程と、クロムメッキが施された上記摺動面に衝撃を与えて該摺動面にクロムメッキ層の微小凹部と該クロムメッキ層の剥落による比較的大きな凹部とからなる油溜り凹部を形成する第3の工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
The phase adjustment method includes: a first step of carrying a current to a three-phase coil in the synchronous reluctance motor; a second step of acquiring a rotational position signal when a rotor receives a magnetomotive force and stops at a stabilization point; a third step of adjusting a relative phase of the rotational position detector to the synchronous reluctance motor based on the acquired rotational position signal.例文帳に追加
位相調整方法は、シンクロナスリラクタンスモータの3相のコイルに通電する第1のステップと、3相のコイルに発生した起磁力を受けてロータが安定点で静止したときの回転位置信号を取得する第2のステップと、取得された回転位置信号に基づいて、シンクロナスリラクタンスモータに対する回転位置検出装置の相対的な位相を調整する第3のステップとを備える。 - 特許庁
This method comprises a first step of preparing a thermosetting resin or metal gear element body 1, a second step of forming a semi-set coating of a thermosetting resin on the toothed face of the gear element body, and a third step of progressively setting the semi-set coating of the thermosetting resin after conditioned by heating while being rotated.例文帳に追加
熱硬化性樹脂製又は金属製の歯車素形体1を準備する第1工程、前記歯車素形体の歯面に熱硬化性樹脂の半硬化被膜を形成する第2工程、さらに、第2工程を経た歯車素形体1に歯面形成用歯車2を噛み合せ、回転しながら前記熱硬化性樹脂の半硬化被膜を加熱により整えて硬化を進める第3工程を経る。 - 特許庁
A manufacturing method of a solid electrolytic capacitor comprises: a first step of preparing a valve action metal substrate 11 in which an oxide film 13 is formed on a surface; a second step of forming an undried conductive polymer film on a surface of the oxide film 13; and a third step of forming a conductive polymer film 15 by drying the undried conductive polymer film in a supercritical fluid 108.例文帳に追加
酸化皮膜13が表面に形成されている弁作用金属基体11を準備する第1の工程と、酸化皮膜13の表面に未乾燥導電性高分子膜を形成する第2の工程と、未乾燥導電性高分子膜を超臨界流体108中で乾燥して導電性高分子膜15を形成する第3の工程とを備える。 - 特許庁
The coffee drink manufacturing apparatus extracts a coffee drink by a process including: a first step for milling roasted coffee beans coexisting with a liquid for extraction; a second step for extracting in the liquid for extraction; and a third step for separating the extraction residue of the coffee beans from the extract by centrifuging.例文帳に追加
焙煎済みのコーヒー豆と抽出用液体とを共存させた状態で粉砕を行なう第1工程と、該抽出用液体中で抽出を行なう第2工程と、遠心分離によりコーヒー豆の抽出残さと抽出液とを分離する第3工程とを含む工程によってコーヒー飲料の抽出を行なうことを特徴とするコーヒー飲料製造装置。 - 特許庁
The method for manufacturing high strength steel comprises a first step of applying a decarburization preventive agent D for preventing decarburization of carbon in the steel during the hot press forming onto a part not to be blanked of the steel (a workpiece W), a second step of performing the hot press forming of the workpiece W, and a third step of blanking a part Wa not coated with the decarburization preventive agent.例文帳に追加
熱間プレス成形時に鋼材内の炭素が脱炭するのを防止するための脱炭防止剤Dを鋼材(ワークW)の打抜き加工されない箇所に塗布する第1の工程と、ワークWを熱間プレス成形する第2の工程と、脱炭防止剤が塗布されていない箇所Waを打抜き加工する第3の工程と、からなる高強度鋼材の製造方法である。 - 特許庁
This method for generating the three-dimensional model of an object comprises a first step for obtaining a plurality of two dimensional pictures having parallaxes of the object, a second step for generating the three- dimensional data of the object based on those two-dimensional pictures, and a third step for mapping those two-dimensional pictures on the three-dimensional shape data based on those parallaxes.例文帳に追加
対象物についての3次元モデルを生成する方法であって、対象物についての視差のある複数の2次元画像を取得する第1のステップと、複数の2次元画像に基づいて対象物の3次元形状データを生成する第2のステップと、3次元形状データに複数の2次元画像をこれらの視差に基づいてマッピングする第3のステップとを有してなる。 - 特許庁
This method includes a first step of bonding the metal wire 15 to electrodes provided at both ends of the wire 15 through wedge-bonding method, a second step of cutting the wire 15, and a third step of bonding the intermediate section of the wire 15 to an electrode provided at a mid-point by the press-bonding method to connect three or more electrodes to each other through one metal wire 15.例文帳に追加
ウェッジボンディング方法によって、両端に配設された電極に金属線15をボンディングする第1の工程と、前記金属線15を切断する第2の工程と、押当てボンディング方法によって、中間に配設された電極に前記金属線15の中間部分をボンディングする第3の工程とを有し、三つ以上の電極を一つの金属線15によって接続する。 - 特許庁
When the genes and the nucleic acids in biological samples are isolated from impurities, the sample is introduced into the hollow parts of capillary tubes to trap the genes and nucleic acids on the wall 2 of the capillary in the first step, unneeded concomitant components 3 are washed and removed off in the second step and the trapped genes and nucleic acids are eluted from the capillary in the third step.例文帳に追加
生体試料中の遺伝子や核酸を、共存物から分離する遺伝子分離方法であって、試料を中空の毛細管に導入し、該遺伝子や該核酸を毛細管壁上に捕捉する工程と、不要な共存成分を洗浄・除去する工程、捕捉された該遺伝子又は該核酸を毛細管から溶離させる工程からなることを特徴とする遺伝子分離法。 - 特許庁
The third cutting edge group has an outside diameter height below a tooth groove bottom 23; and the amount of cutting in a tooth thickness direction 26 of the third cutting edge group is an amount exceeding the amount of cutting in a tooth thickness direction of the first and second cutting edge groups and the amount of cutting a part or the whole of a step portion 24 formed by a groove cutting edge.例文帳に追加
第三の切れ刃群は歯溝底面23以下の外径高さとし、第三の切れ刃群の歯厚方向の切り込み量26を第一及び第二の切れ刃群の歯厚方向の切り込み量を超える量とし、かつ、溝切れ刃で形成された段部24の一部又は全部を切り取る切り込み量とする。 - 特許庁
In a second step, voltages are applied to the first electrode 102, the second electrodes 101 and 103, and the third electrode 104 so that potential differences may be generated between the third electrode and the first electrode 102 and between the third electrode 104 and the second electrodes 101 and 103, whereby a force for going toward the first electrode 102 or the second electrodes 101 and 103 is given to the charged particles P.例文帳に追加
そして、第2ステップにおいて、第3電極104と第1電極102、及び第3電極104と第2電極101,103との間に電位差を発生させるよう第1電極102、第2電極101,103及び第3電極104に電圧を印加するにより、帯電粒子Pに第1電極102または第2電極101,103に向かう力を与えるようにする。 - 特許庁
In the third step after the component adjustment material has melted into the material X, the controller 100 produces a control signal of a frequency such that the output power factor detected by the power factor detection circuit 11 is 1.例文帳に追加
成分調整材が被溶解材Xに溶け込んだ後の第3段階において、力率検出回路11を介して検出される出力力率が1となる周波数の制御信号を生成する。 - 特許庁
The manufacturing method is provided also with the third process (step S130) for curing the photocuring resin in the antifreezing protein containing paste applied in the second process, by irradiating light, to prepare an electrolyte for the fuel cell.例文帳に追加
また、光照射によって、第2の工程で塗布した前記不凍タンパク質含有ペースト中の光硬化性樹脂を硬化させて、燃料電池の電解質層を作製する第3の工程(ステップS130)を備える。 - 特許庁
When the surrounding environment temperature is in the third temperature range lower than the second temperature range, proceed to a step 140 to set the rotating speed of the compressor motor 71 to the rotating speed increased by 6% from the basic rotating speed.例文帳に追加
更に、周囲環境温度が第2温度範囲より低い第3温度範囲であるとステップ140に進み、コンプレッサモータ71の回転数を基本回転数より6%アップさせた回転数に設定する。 - 特許庁
(e) A third group III nitride semiconductor layer 41 emitting light due to the conduction is formed on the second group III nitride semiconductor layer 34, by reducing the temperature of the substrate 31 to a second temperature less than the temperature in the step (d).例文帳に追加
(e)基板31を工程(d)における温度以下の第2の温度にして、第2の3族窒化物半導体層34上に、通電により発光が行われる第3の3族窒化物半導体層41を形成する。 - 特許庁
In the seal tail structure, the first or third tail brushes 12, 14 and 16 are fixed on an inner circumferential surface on the rear end side of a skin plate 10 in a three step shape, and the tail brushes 12, 14 and 16 are slid and contacted while following to the outer circumferential surface of a segment 18.例文帳に追加
シールテール構造では、スキンプレート10の後端側の内周面に、3段状に第1〜第3テールブラシ12,14,16を固定し、テールブラシ12,14,16は、セグメント18の外周面に倣って摺接する。 - 特許庁
A step in which the upper side is wider than the lower side is formed at the boundary between the inner surface of a second through hole and the inner surface of a third through hole, or in the inner surface of the second through hole.例文帳に追加
そして、前記第2貫通ホールの内面と前記第3貫通ホールの内面との境界、又は、前記第2貫通ホールの内面には、上側が下側よりも太くなるような段差が形成されている。 - 特許庁
On a third step, a die bonding process for mounting a chip 40 on the film 10 stuck to the substrate 1 is performed continuously after the completion of a sticking process for leaving only the film 10 by removing the peeling film 11 from the substrate 1.例文帳に追加
第三に、基板1から剥離フィルム11を除去して該フィルム10のみを残存させる貼付工程が完了後に、基板1上の該フィルム10にチップ40を装着するダイボンド工程へ連続して行う。 - 特許庁
The voltage step-down circuit 4 has a transistor Q5, and a capacitor C4 to be charged by the third voltage, when the transistor Q5 is in an energized state and discharged when the transistor Q5 is in a non-energized state.例文帳に追加
降圧回路4は、トランジスタQ5と、トランジスタQ5が導通状態である時に第3電圧によって充電され、トランジスタQ5が非道通状態である時に放電される、コンデンサC4とを有する。 - 特許庁
When the loaded-time congestion decision threshold value has been selected in a step S23, ECU 9 judges 40 km/h or less, in a third gear stage or lower, and 30 km/h or less, in a fourth gear stage or higher as congestion.例文帳に追加
また、ECU9は、ステップS23で負荷時渋滞判定閾値が選択されていた場合、ギヤ段が3速以下では40km/h以下、ギヤ段が4速以上では30km/h以下で渋滞と判定する。 - 特許庁
In the third step, the right and left pore plane shapes Q_R and Q_Lare correlated respectively, and a pore space coordinate value P in the test skin are determined based on the correlated right and left pore plane shapes Q_R and Q_L.例文帳に追加
第3ステップでは、左右の毛穴平面形状Q_L、Q_Rをそれぞれ対応させ、その対応した左右の毛穴平面形状Q_L、Q_Rに基づいて、被験肌における毛穴空間座標値Pを求めるようにしている。 - 特許庁
Contraction processing is performed on the binary data stored in a second image memory 47 at last, and the binary data subjected to the contraction processing is stored in a third image memory 48 as bitmap data (step S180).例文帳に追加
最後に第2画像メモリ47に記憶されている2値化データに対して収縮処理を施し、当該収縮処理後の2値化データをビットマップデータとして第3画像メモリ48に格納する(ステップS180)。 - 特許庁
The voltage conversion circuit includes: a rectifying circuit 2 for rectifying AC first voltage and outputting DC second voltage, and a voltage step-down circuit 3 for stepping-down the second voltage and outputting DC third voltage.例文帳に追加
電圧変換回路は、交流の第1電圧を整流して直流の第2電圧を出力する整流回路2と、第2電圧を降圧して直流の第3電圧を出力する降圧回路3とを備える。 - 特許庁
On the step 6, a first foot switch 8a for X-ray exposure, a second foot switch 8b for the forward movement of the traveling cart 4 and a third foot switch 8c for the backward movement of the traveling cart 4 are provided.例文帳に追加
ステップ6上には、X線曝射用の第1のフットスイッチ8aと、走行台車4の前進用の第2のフットスイッチ8bと、走行台車4の後退用の第3のフットスイッチ8cとが設けられている。 - 特許庁
In the third step, the heat treatment temperature, heat treatment time or heat-up pattern is set according to the quantity of solvent contained in the resist solution, so that the number of defects generated in the resist film can be reduced.例文帳に追加
この第3工程において、レジスト液に含まれる溶剤の量に応じて、熱処理温度または熱処理時間または昇温パターンを設定することによって、レジスト膜に生成する欠陥数を低減させる。 - 特許庁
This side part 23 is furnished with a first surface 25 to ground on the lower step surface F1, a second surface connected to this first surface 25 and a third surface 27 positioned between these first and second surfaces 25, 26.例文帳に追加
このサイドパーツ23は、下段面F1に接地する第1の面25と、この第1の面25に連設された第2の面と、これら第1及び第2の面25,26の間に位置する第3の面27とを備える。 - 特許庁
The first, second, third plate bodies 1, 2, 3 respectively include short projection piece parts 8, 8 which are projected by having a small step part from both the end parts of one side parts 10 and the other long side parts 20B along side parts 13, 13 and 23, 23.例文帳に追加
かつ、第1板体1と、第2・第3板体2,3は、夫々、一辺部10,他長辺部20Bの両端部から側辺部13,13と、短辺部23,23に沿うように、小段差部をもって突設された背の低い突片部8,8を、有する。 - 特許庁
In a third step S3, the memory check circuit performs memory check for an image area and the processor performs start-up processing of a system program on the basis of the system program data written in the storage area.例文帳に追加
第3ステップS3として、メモリチェック回路により、イメージ領域についてメモリチェックを行うとともに、プロセッサにより、格納領域に書き込まれたシステムプログラムデータに基づいて、システムプログラムの起動処理を行う。 - 特許庁
In the third step, in a state that a member 20 for tentative fixation is pasted on the other plane 12b of the substrate 12, the uncured resin 14 is heated and cured, and thereafter restored to the ordinary temperature, so that a warp of the substrate 12 is suppressed.例文帳に追加
第3の工程において、基板12の他方主面12bに仮固定用部材20を貼り付けた状態で、未硬化の樹脂14を加熱して硬化させた後、常温に戻し、基板12の反りを抑制する。 - 特許庁
In the second resist patterning step, a second resist pattern 12 having an opening pattern 112 in the first region R1 of the contact hole formation region, and having a third opening pattern 112 in the second region R2 is formed.例文帳に追加
第2のレジストパターン形成工程では、コンタクトホール形成領域の第1の領域R1に開口パターン112を有し、第2の領域R2に第3の開口パターン112を有する第2のレジストパターン12を形成する。 - 特許庁
During the third step, the phase angle Φ_k applied to each frequency component f_k is specified so that kurtosis of the generated vibration waveform data coincides with the kurtosis of the vibration waveform data of the real vibration.例文帳に追加
前記第3のステップでは、生成される振動波形データの尖度が前記実振動の振動波形データの尖度と一致するように各周波数成分f_kに与える位相角Φ_kを設定することを特徴とする。 - 特許庁
In cylinder halt operation, refrigerants are compressed at a single step in the first compression chamber (61) and the second compression chamber (62), respectively, and the compression operation of refrigerants in the third compression chamber (63) and the fourth compression chamber (64) is halted.例文帳に追加
気筒休止動作では、第1圧縮室(61)及び第2圧縮室(62)で冷媒がそれぞれ単段圧縮されると同時に第3圧縮室(63)及び第4圧縮室(64)での冷媒の圧縮動作が休止される。 - 特許庁
Then second- and third- stage operations are carried out serially, similarly to the conventional example (steps S303 and S305), but the averaging performed in the first stage is performed continuously, in parallel with the operations (step S309).例文帳に追加
次に、従来例と同様に、第2段階、第3段階の動作がシリアルに行われるが(ステップS303およびステップS305)、この動作と併行して第1段階の平均化が引き続いて行われる(ステップS309)。 - 特許庁
This manufacturing method has a first step of anodizing a second layer containing aluminum to form fine holes on a first layer, a second step of forming metal oxides contained in the first layer at bottoms of the fine holes, a third step of removing the metal oxides by dry-etching, and a fourth step of forming magnetic materials in the fine holes by electrolytic plating through the first layer.例文帳に追加
第1の層上の、Alを含む第2の層を陽極酸化して微細孔を形成する第1の工程と、前記微細孔の底部に、前記第1の層に含まれる金属の酸化物を形成する第2の工程と、前記金属の酸化物をドライエッチングにより除去する第3の工程と、前記第1の層を通電経路とする電解メッキにより前記微細孔に磁性材料を形成する第4の工程と、を有することを特徴とする記録媒体の製造方法。 - 特許庁
A method for making an epitaxial structure includes a first step of providing a substrate having at least one epitaxial growth surface, a second step of placing a carbon nanotube layer with a plurality of gaps on the epitaxial growth surface of the substrate, a third step of growing an intrinsic semiconductor epitaxial layer on the epitaxial growth surface of the substrate, and a fourth step of growing a doped semiconductor epitaxial layer on the intrinsic semiconductor epitaxial layer.例文帳に追加
本発明のエピタキシャル構造体の製造方法は、少なくとも一つのエピタキシャル成長面を有する基板を提供する第一ステップと、前記基板のエピタキシャル成長面に複数の空隙を含むカーボンナノチューブ層を配置する第二ステップと、前記基板のエピタキシャル成長面に真性半導体エピタキシャル層を成長させる第三ステップと、前記真性半導体エピタキシャル層の上に、ドープされた半導体エピタキシャル層を成長させる第四ステップと、を含む。 - 特許庁
The auction can be flexibly operated so that the auction is operated by assembling a first mode for reducing prices at a first period step by step, a second mode as a normal auction which simultaneously bids up prices at the first period, and a third mode which bids up prices at a second period.例文帳に追加
第1の時期に段階的に価格を下げる第1のモードと、同じく第1の時期に価格を競り上げる通常のオークションとしての第2のモードと、それに続く第2の時期に価格を競り上げる第3のモードとを組み合わせてオークションを運用することにより、オークションを柔軟に運用することができる。 - 特許庁
To provide password management technology for authentication of a mobile phone, which prevents a risky password from being stolen by a third person by adding information on step count to the value of the password, and uses the step count information to implement simple and secure password management.例文帳に追加
携帯電話の個人認証の際の暗証番号管理技術に関し、他人から読み取られやすい暗証番号を設定していても、その値に歩数情報を付加して読み取られにくくすることと、歩数情報を利用して暗証番号の管理をより簡単でセキュアなものにすることを可能にする。 - 特許庁
The method of drying comprises: the first process of washing an article with an aqueous detergent; the second step of washing with an organic solvent having 1-3C alcohol; and the third step of contacting the article with an fluorine-containing ether such as a 1,1,2,2-tetrafluoroethyl-2,2,2-trifluoroethyl ether.例文帳に追加
被洗浄物品を、水溶性の洗浄剤で洗浄する第1工程、炭素数1〜3のアルコールを含有する有機溶剤で洗浄する第2工程、1,1,2,2−テトラフルオロエチル−2,2,2−トリフルオロエチルエーテル等の含フッ素エーテルと接触させる第3工程を有することを特徴とする物品の洗浄乾燥方法。 - 特許庁
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