「third step」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

A lamination high-melting-point metal polycide film that becomes the second transfer electrode is formed on a step, where the sectional shape of the first transfer electrode is nearly vertical and one portion becomes an overhang, and is subjected to plasma etching in the third step.例文帳に追加

第１転送電極の断面形状がほぼ垂直で、一部はオーバーハングとなる段差上に第２転送電極となる積層高融点金属ポリサイド膜を形成し、これを３段階でプラズマエッチングする。 - 特許庁

The third step includes a step of carrying out compression bonding while heating the layered product to set the other-side surface of the layered product at a temperature higher than that of one-side surface of the layered produce with the first electrode arranged thereon.例文帳に追加

前記第３の工程は、第１の電極が配置された積層体の一方の面に比べて、積層体の他方の面の方が高温になるように、積層体を加熱しつつ加圧接合を行なう工程を含む。 - 特許庁

That is, a first etching step employs an etching method in which the etching rate to at least a second film and a third film is high, and the first etching step is continued until at least a first film is exposed.例文帳に追加

すなわち、第１のエッチング工程には、少なくとも第２の膜及び第３の膜に対するエッチングレートが高いエッチング方法を採用し、第１のエッチング工程は少なくとも第１の膜を露出するまで行う。 - 特許庁

The method includes further a step for selecting a tracking method from the plurality of tracking methods, in the first device, and a step for transmitting the second request from the first device to the third device different from the second device.例文帳に追加

この方法は、更に、第１のデバイスにおいて、複数の追跡方法から追跡方法を選択するステップと、第１のデバイスから第２のデバイスとは異なる第３のデバイスに第２の要求を送信するステップと、を含む。 - 特許庁

In the third step, a phase is adjusted between the two MZIs by feeding a current to the same heater of at least one of the two MZIs, to which the current has been supplied when the polarization separation amount has been reduced in the first step.例文帳に追加

この後、２つのMZIの少なくとも一方の、第１のステップで偏波乖離量を低減させた際に給電したのと同一のヒータに給電して、２つのMZI間での位相を調整する第３のステップ。 - 特許庁

The nuclear growth reaction step grows up the nucleus to a compound semiconductor fine particle by passing the solution which is cooled to the second temperature by the cooling step through a second capillary maintained at a third temperature at a second flow rate.例文帳に追加

核成長反応ステップは、冷却ステップで第２温度に冷却した溶液を、第３温度に保った第２細管に第２流速で流通させることで核を化合物半導体微粒子に成長させる。 - 特許庁

Successively, to the round bar steel group at the second step, respective round bar steel 12 is placed in parallel on the respective two round bars of steel 12, 12 under the state in the same way, as a third step.例文帳に追加

次に、２段目の丸棒鋼群に対し、同様に横方向に並ぶ各２本の丸棒鋼１２，１２の上に、両丸棒鋼１２，１２に接触する状態で１本の丸棒鋼１２を夫々平行に載置して３段目とする。 - 特許庁

Since providing three steps reduces the height of one step and the third step is projected near the ground by a principle of magic hand, even young children, old people, or physically handicapped persons can very easily get on/off the vehicle.例文帳に追加

３段としたことで一段一段の高さが減少するうえ、マジックハンドの原理で３段目が地面近くまで張り出すので、幼児や老人、身体障害者であっても非常に乗降しやすいものとなる。 - 特許庁

Thus a difference H1 between an absolute step on an upper part of the first wiring pattern 53a in a third insulating film 58 and an absolute step of the dummy pattern 53b can be made sufficiently small to a negligible extent after polishing.例文帳に追加

これにより、第３の絶縁膜５８における第１の配線パターン５３ａの上側部分の絶対段差とダミーパターン５３ｂの絶対段差との差Ｈ１が、研磨後には無視できる程度に十分に小さくなる。 - 特許庁

In the picture type-by-picture type quantization steps (the first to third quantization steps) calculated by the picture type-by-picture type quantization step calculation part 206, quantization by the corresponding quantization step is performed according to each picture type.例文帳に追加

画像タイプ別量子化ステップ算出部２０６で算出された画像タイプ別量子化ステップ（第１〜第３の量子化ステップ）は、画像タイプ別に応じて対応する量子化ステップによる量子化を行わせる。 - 特許庁

When the time-shortened count value K is "100" (Yes in step S1307), a third presentation command to display letters suggesting termination of the time-shortened game state in the image display part 104 is set (step S1308).例文帳に追加

時短カウント値Ｋが「１００」である場合（ステップＳ１３０７：Ｙｅｓ）、画像表示部１０４に時短遊技状態の終了を示す文字を表示させるための第３演出コマンドをセットする（ステップＳ１３０８）。 - 特許庁

In the step (c), by forming the intermediate layer opening 15 in such a shape that the second dimension becomes smaller at a lower portion lower than at an upper portion, the third dimension is made smaller than the first dimension in the step (d).例文帳に追加

工程（ｃ）において、第２の寸法が上部よりも下部において小さくなる形状に中間層開口１５を形成することにより、工程（ｄ）において、第３の寸法を第１の寸法よりも小さくする。 - 特許庁

The nozzles 17 and 18 eject the atomized water toward the third front-stage ejector 5 in a decarburizing step where the front-stage ejectors 3, 4 and 5 do not function as boosters.例文帳に追加

脱炭工程で第３前段側エゼクター５と第１コンデンサ６とをベンチュリスクラバーとして機能させることにより、粉塵を効率よく除去できる。 - 特許庁

Optionally, a third step comprising the removal of the protective mask may be performed with a second, materially oppositely selective plasma beam process.例文帳に追加

場合によっては、保護マスクを除去することを含む第３のステップが、第２の材料的に反対の選択的プラズマ・ビーム法を用いて実行されてよい。 - 特許庁

As the third step, the server derives a predicted value E on the basis of the predicability value Wh of each answerer in the case of deriving the predicted value.例文帳に追加

第３の段階として、予測値を導出する際に、サーバは、回答者ｈ毎の予測能力値ｗ_ｈに基づいて該予測値Ｅを導出する。 - 特許庁

In a third step, the tip of the recording medium is withdrawn from between the decurl roller and the decurl pinch roller by conveying the recording medium in a direction opposed to the conveying direction.例文帳に追加

第３工程で、記録媒体を記録方向と逆に送ることにより記録媒体の先端部をデカールローラとデカールピンチローラの間から抜き出す。 - 特許庁

Next, in a third step S3 the objects extruded in a columnar shape (kneaded objects) are arranged in a nearly plate shape, and by pressing with a roller the surface is smoothed.例文帳に追加

そして、第３工程Ｓ３においては、該柱状に押し出されたもの（混練物）を略板状に配列し、ローラーで押圧して表面を平滑にする。 - 特許庁

Thereby, the mesh-press member 32 is impressed and moves to the downstream side (the third STEP), then the downstream side is pressurized, and ink or foreign matter is discharged from a nozzle 37.例文帳に追加

これによりメッシュプレス部材３２が押圧されて下流側に移動し（第３ＳＴＥＰ）、下流側が加圧されて、ノズル３７からインクや異物等が吐出される。 - 特許庁

Thus, two-step authentication using a user's ID, etc., and position information can more surely prevent an illicit act of a third person due to spoofing.例文帳に追加

このようにユーザのＩＤ等および位置情報を利用した２段階の認証により第三者のなりすましによる不正行為がより確実に防止されうる。 - 特許庁

The third step is executed with the above point-group analyzing program for calculating the profile of the reacting material layer from the above point-group data.例文帳に追加

前記第３ステップは、前記点群データから前記最上の反応物質層の外形を計算するため、前記点群解析プログラムにより実行される。 - 特許庁

In a third step, the charge operation is restarted after a predetermined dead time T0 elapses from at the time when the charging current is reduced to zero to stop the charge operation.例文帳に追加

次に、第３のステップにおいて、充電電流をゼロとし充電を休止した時点から所定の休止時間Ｔ０経過後に充電を再開する。 - 特許庁

The toner collected in the third rotation step is carried on the circumferential surface of the developing roller 10 and conveyed to a downstream side in the rotating direction of the developing roller 10.例文帳に追加

第３回転工程で集められたトナーは、現像ローラ１０の周面に担持されて、現像ローラ１０の回転方向の下流側へ運ばれる。 - 特許庁

Next, an etch-back step of simultaneously etching the second and the third color layers 46 and 50 throughout till the first color layer 33 is exposed is performed.例文帳に追加

次に、第１の着色層３３が露呈するまで第２及び第３の着色層４６，５０を同時に全面エッチングするエッチバック工程を行う。 - 特許庁

In the third step, inverse transformation of the continuous transformation value imparted from the spline function is performed into a continuous current value by an inverse transform function.例文帳に追加

第３のステップとして逆変換関数により、スプライン関数より与えられる連続的な変換値を連続的な電流値に逆変換する。 - 特許庁

In the third charge injection step, when holes are injected into the second part (a part located opposite to the A part), the function of the source is replaced with that of the drain.例文帳に追加

第３の電荷注入ステップにおいて第２局部（Ａ部と反対側の局部）にホールを注入する場合はソースとドレインの機能を入れ替える。 - 特許庁

In the finishing polishing step, a third polishing composition is used which contains less than 3 g/L of triazole having a hydrophobic functional group as well as a six-membered frame.例文帳に追加

仕上げ研磨工程では、疎水性官能基を持つ六員環骨格を有するトリアゾールを３ｇ／Ｌ以下含有する第３研磨用組成物が使用される。 - 特許庁

A programming operation, using a second program voltage and a third program voltage, is performed on the peripheral cell and the threshold voltage of the peripheral cell is measured (step 108).例文帳に追加

周辺セルには第２プログラム電圧と第３プログラム電圧を利用したプログラム動作を実施し、周辺セルのしきい値電圧を測定する（ステップ１０８）。 - 特許庁

In the third step, data lines 171, 173, 175, 179 including a source electrode 173 and a drain electrode 175 are formed on the ohmic contact layer.例文帳に追加

第３段階では、抵抗性接触層上にソース電極１７３及びドレーン電極１７５を含むデータ線１７１、１７３、１７５、１７９が形成される。 - 特許庁

Next, an etch-back step 30 simultaneously etching the second and the third color layers 46 and 50 throughout till the first color layer 33 is exposed.例文帳に追加

次に、第１の着色層３３が露呈するまで第２及び第３の着色層４６，５０を同時に全面エッチングするエッチバック工程３０を行う。 - 特許庁

Then, in a third inspection step, the relative positions (X181, Y181) within the pixels of the critical defect 181 and an effective range 2 is examined.例文帳に追加

次いで、第３検査工程において、致命欠陥１８１の画素内相対位置（Ｘ１８１，Ｙ１８１）および有効範囲Ｚを光学検査により調べる。 - 特許庁

Furthermore, a through hole is installed at a position to step over a cutting face of the first and the third circuit boards, and an electroconductive film of this inner face is made as an electrode for mounting.例文帳に追加

また前記第１および第３の基板の、切断面を跨ぐ位置にスルーホールを設け、その内面の導電膜を実装用の電極とすること。 - 特許庁

In a third step, a hanging rail 90 is fixed to the supporting portion 40 of each of the newly-installed columns 11 and 12 which are fixed to the respective existing columns 101 and 102.例文帳に追加

第３工程では、各既設柱１０１，１０２に固定された各新設柱１１，１２の支持部４０に吊りレール９０が固定される。 - 特許庁

Then the method also includes a third step (f) of soldering the conductor 22 to the terminal 40 of the component 12 by making the solder 68 to reflow.例文帳に追加

続いて第三段階（ｆ）において、クリームはんだ６８をリフローさせて挿入実装用導体２２と電子部品１２の端子４０とをはんだ付する。 - 特許庁

First to third step motor rotation control signals outputted from the main control base MB1 are respectively inputted to reel emulator circuits 40A, 40B and 40C.例文帳に追加

主制御基板ＭＢ１から出力される第１〜第３ステップモータ回転制御信号は、それぞれリールエミュレータ回路４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃに入力される。 - 特許庁

The third step is conducted under a mixed gas atmosphere of inert gas (for example, argon) and oxygen in which the oxygen partial pressure is 2.0×10^-2 to 2.9×10^-1 Pa.例文帳に追加

また、第３工程を、酸素分圧が２．０×１０^−２〜２．９×１０^−１Ｐａである不活性ガス（例えばアルゴン）と酸素の混合ガス雰囲気中で行う。 - 特許庁

The manufacturing method still also includes a third process (step S140) of heating and pressing a laminate structure including the electrolyte membrane, the low-molecular-weight electrolyte layer and the above electrode.例文帳に追加

また、電解質膜と低分子量電解質層と前記電極とを含む積層構造を、加熱プレスする第３の工程（ステップＳ１４０）を備える。 - 特許庁

After a third film 5 is deposited all over and formed on the side by etch-back and the upper film 3 is selectively removed, a flattening step is carried out by polishing.例文帳に追加

更に全面に第三の膜５を堆積、エッチバックによって側面に形成後、上層の膜３を選択除去し、ポリッシングによって平坦化する。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor apparatus comprises the first step of forming the combined substrate by bonding the plurality of the semiconductor substrates together, the second step of forming the recess by etching the combined substrate, and the third step of mounting the semiconductor device in the recess.例文帳に追加

複数の半導体基板を貼り合わせて合わせ基板を形成する第１の工程と、前記合わせ基板をエッチングして凹部を形成する第２の工程と、前記凹部に半導体素子を実装する第３の工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

A method of depositing an insulating film includes: a first step of depositing an Hf-Si film 102 on an Si substrate 101 by sputtering; a second step of depositing an HfSiO film 103 by oxidizing the Hf-Si film; and a third step of forming an HfSiON film 105 by nitriding the HfSiO film.例文帳に追加

Ｓｉ基板１０１の上にスパッタによりＨｆ−Ｓｉ膜１０２を形成する第１工程と、Ｈｆ−Ｓｉ膜を酸化してＨｆＳｉＯ膜１０３を形成する第２工程と、ＨｆＳｉＯ膜を窒化してＨｆＳｉＯＮ膜１０５を形成する第３工程を含む。 - 特許庁

The method further comprises a step for forming a first layer underlying film 71 between the banks B imparted with liquid repellency, a step for forming a second layer conductive film 73 on the first layer, and a step for forming a third layer diffusion prevention film 77 on the second layer.例文帳に追加

また、撥液性が付与されたバンクＢ間に、第１層目の下地膜７１を形成する工程と、第１層目の上に、第２層目の導電膜７３を形成する工程と、第２層目の上に、第３層目の拡散防止膜７７を形成する工程とを有している。 - 特許庁

This system includes at least a step in which authentication information inputted by a user is received at a site of the third party organization management linked from a site where a service is provided, a step in which the authentication information is collated with information of a database and a step in which collation results are transmitted.例文帳に追加

サービスを提供するサイトからリンクされた第三者機関管理のサイトにおいて、利用者が入力した認証情報を受け付けるステップと、前記認証情報をデータベースの情報と照合するステップと、照合結果を送信するステップとを少なくとも含むシステム。 - 特許庁

A method of manufacturing the display device 1 comprises: a first step of forming a non-inspecting panel 15 by stacking a display panel and the viewing angle control panel; a second step of inspecting the display state of the non-inspecting panel 15; a third step of manufacturing the display device from the non-inspecting panel 15 in which inspection is finished.例文帳に追加

表示装置１の製造方法は、表示パネルと視野角制御パネルとを積層して非検査パネル１５を形成する第１工程と、非検査パネル１５の表示状態を検査する第２工程と、検査済みの非検査パネル１５から表示装置を製造する第３工程とを有する。 - 特許庁

At a position facing a ball 43 of the biasing means 41, the cam part 46 includes first-third step parts 47a-47c along the movement direction of the shift arm 30, and a step part 47 with slopes comprising first and second sloping surfaces 47d and 47e located between the step parts.例文帳に追加

このカム部４６は付勢手段４１のボール４３と向かい合う位置にシフトアーム３０の移動方向に沿って第１〜第３段部４７ａ〜４７ｃとこれらの間に位置する第１及び第２傾斜面４７ｄ，４７ｅよりなる傾斜付き段部４７を備えている。 - 特許庁

This method for detecting the insertion direction of an endoscope includes a first step for inputting an endoscopic image, a second step for detecting that the endoscope is in a state too close to an observation object, based on the endoscopic image, and a third step for displaying a message such as "Pull Back" based on the detection result.例文帳に追加

内視鏡画像を入力する第１のステップと、前記内視鏡画像から前記内視鏡が観察対象に対し過近接状態にあることを検出する第２のステップと、前記検出結果に基づきＰｕｌｌ Ｂａｃｋ等のメッセージを表示する第３のステップと、を備える。 - 特許庁

When the determination in a step S3 is Yes, an ECU 9 determines whether the exhaust valve closing angle Ae exceeds a third intake valve opening angle Ai3 by a high lift cam 22c or not in a step S6, and the middle lift cam 22b is selected in a step S7 when the determination is No.例文帳に追加

ステップＳ３の判定がＹｅｓであった場合、ＥＣＵ９は、ステップＳ６で、排気閉弁角Ａｅが高リフトカム２２ｃによる第３吸気開弁角Ａｉ３を超えているか否かを判定し、この判定がＮｏであれば、ステップＳ７で中リフトカム２２ｂを選択する。 - 特許庁