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w. l.の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 665



例文

The projecting width of the fore position regulating pieces 32 is lengthened to make the opposed interval W be closer to the mutual interval L between the guide ways 31.例文帳に追加

前側位置規制片32の出幅を長くしてその対向間隔Wをガイド面31の相互間隔Lに近付ける。 - 特許庁

The substrate treatment apparatus performs washing treatment by supplying pure water L from the treatment solution supply nozzle 370 that is arranged over the substrate W.例文帳に追加

基板処理装置は、基板Wの上方に配設された処理液供給ノズル370から純水Lを供給して洗浄処理を行う。 - 特許庁

The device is provided with a spindle stand device 2 rotating the workpiece W around its central axis L, and two grinding wheel oscillating stand devices 3, 4.例文帳に追加

前記被加工物Wをその中心軸L回りに回転させる主軸台装置2と、2つの砥石揺動台装置3,4とを備える。 - 特許庁

A separating distance L of both of the points P1, P2 changes at the time when the bumper receives pressing force by contact with the cargo W.例文帳に追加

両点P1 ,P2 の離間距離Lは、荷Wとの当接によりバンパー84が押圧力を受けた際に変化する。 - 特許庁

例文

The width L of the lower electrode 35 is set larger than the space W between both anchor parts 46 supporting the diaphragm.例文帳に追加

下部電極35の幅Lを、振動板が支持される両アンカー部46間の間隔Wより大に設定する。 - 特許庁


例文

The local soldering device locally solders the work W with the lead L of a part A inserted therein, to the through-hole H of a substrate P.例文帳に追加

基板PのスルーホールHに部品AのリードLを挿入したワークWを局所はんだ付けする局所はんだ付け装置である。 - 特許庁

Then a dimension W or the main body 2 in the width direction is selected to be in the range of 0.9-1.1 times a dimension L thereof in the longitudinal direction.例文帳に追加

そして、コンデンサ本体2の幅方向寸法Wを、長さ方向寸法Lの0.9〜1.1倍の範囲内に選ぶ。 - 特許庁

The conveyance means 7 has a clearance part L wherein the conveyance roller 5 does not support the lower surface of the glass substrate 3 corresponding to a predetermined width W.例文帳に追加

搬送手段7は、搬送ローラ5が所定幅Wに対応するガラス基板3の下面を支持しないように構成された間隙部Lを有する。 - 特許庁

Ultrapure water of17cm in specific resistance and ≤50 μg/l in dissolved oxygen concentration is used as the water W for storage.例文帳に追加

保管用水Wとしては、比抵抗が17MΩ・cm以上であり且つ溶存酸素濃度が50μg/リットル以下の超純水を使用する。 - 特許庁

例文

A plurality of the first reinforcement layers 17a are formed along a length direction L and a width direction W in a first external layer part 10B.例文帳に追加

第1の補強層17aは、第1の外層部10Bに、長さ方向L及び幅方向Wに沿って形成されている。 - 特許庁

例文

A length L of the tape 32 covers the entire circumference of each groove 24 of a roll core 20, and a width W of the tape 32 is approximately twice the depth of each groove 24.例文帳に追加

テープ32の長さLはロール芯20の溝24の全周の長さとし、テープ32の幅Wは概略溝24の深さの2倍とする。 - 特許庁

Ribs L are formed at the oil separation space 70 side and the gas passage space 72 side of the partition wall part W.例文帳に追加

仕切り壁部Wのオイル分離空間70側及びガス通路空間72側にリブLを形成する。 - 特許庁

In an example shown in Fig.1, convex patterns a, b, and c of which the width W and length L are changed in units of 1, 5, 10 are arranged.例文帳に追加

図1に示す例では、1,5,10の単位で、幅W・長さLを変えた凸状のパターンa,b,c等を配置する。 - 特許庁

The engagement plate is larger than the width D of the insertion opening in the dimension L in the longitudinal direction and smaller than the width D in the dimension W in the short-side direction.例文帳に追加

係合板は、長手方向の寸法Lが挿入開口部の幅Dよりも大きく、短手方向の寸法Wが幅Dよりも小さい。 - 特許庁

This coolant supplying device 1 supplies the coolant L to a grinding tool S for polishing an inner peripheral surface P1 and the outer peripheral surface P2 of the workpiece W.例文帳に追加

クーラント供給装置1は、ワークWの内周面P1および外周面P2の研磨を行う砥石SにクーラントLを供給する。 - 特許庁

Accordingly, overall lengths L of both of the first case 8 and the second case 9 can be adjusted according to the width W of the rolled paper 5.例文帳に追加

従って、第1のケース8と第2のケース9との両者の全長Lをロール紙5の紙幅Wに応じて調整することができる。 - 特許庁

In this way, the height H of the formed product W' is made allowable to the elevating and lowering stroke L of the upper blank holder 30 and the lower blank holder 20.例文帳に追加

これにより、成形品W’の高さHを、アッパブランクホルダ30及びロアブランクホルダ20の昇降ストロークLまで許容できる。 - 特許庁

The second circuit is arranged on a second side of the corresponding gate line, and has a second transistor with a second W/L ratio.例文帳に追加

第2回路は、対応するゲートラインの第2の側に配置されており、第2W/L比を有する第2トランジスタを有する。 - 特許庁

Each of the projection parts 301 extends in a strip shape in the length direction L at intervals of width direction W.例文帳に追加

凸部301のそれぞれは、幅方向Wに互いに間隔を隔て、長さ方向Lに条状に延びている。 - 特許庁

A monitor light emitting device 5 makes monitor light L_M incident on the wafer W through a window 2 from an external part of a chamber 1.例文帳に追加

モニタ光出射装置5が、チャンバ1の外部から窓2を通して基板Wにモニタ光L_Mを入射させる。 - 特許庁

Then, three preset variables W, L and T are mutually compared, with respect to the steel material, to evaluate the delay destruction-resistance characteristics of the steel material.例文帳に追加

そして、予め設定された3つの変数W,L,Tを鋼材同士で比較して、耐遅れ破壊特性が評価される。 - 特許庁

A cover member 23 is put on the surfaces of the stages 21, 22, and the workpiece W_L is placed thereon.例文帳に追加

これらステージ21,22の表面上にカバー部材23を被せ、その上に被処理物WLを配置する。 - 特許庁

The image combining unit 50 generates an output result image 350 by combining the images W_L' and T_S.例文帳に追加

画像合成部50は、画像W_L’及びT_Sを合成することで出力結果画像350を生成する。 - 特許庁

A storage means 25 stores the presence or absence of the article W at each location L in the location management region 1.例文帳に追加

記憶手段25は、ロケーション管理領域1内の各ロケーションLにおける物品Wの有無を記憶する。 - 特許庁

A vehicle domain recognition part 7 detects the car width W and the car length L of another car in the periphery of one's own car based on an image photographed by a camera 2.例文帳に追加

車両領域認識部7は、カメラ2で撮影した画像に基づいて自車周辺の他車の車幅Wと車長Lを検出する。 - 特許庁

As examples of this cross section shape, cruciform, type X, type Y, type W, type H, type L, star shape, and multifoliar shape or the like are pointed out.例文帳に追加

この断面形状の例として、十字型、X型、Y型、W型、H型、L型、星型、多葉形状などがあげられる。 - 特許庁

All of the slots 3 to 5 have the same length L and the same width W, and are installed nearly in parallel with one side of the square.例文帳に追加

スロット3〜5は、全て同じ長さLおよび同じ幅Wを有し、四角形の1辺に略平行に設けられる。 - 特許庁

The width W of the top surface part 94a is approximately a half of a distance L between the center lines (center lines of teeth) of teeth 91 adjacent to each other.例文帳に追加

天面部94aの幅Wは、互いに隣接する歯91の中心線(歯型中心線)B同士の距離Lの約2分の1である。 - 特許庁

An anti-slipping member L is integrally provided in the whole or a part of the lower surface of a head part 1a in a bolt 1 for fixing a fixing member to a toilet stool W.例文帳に追加

取付部材を便器Wに固定するボルト1における頭部1aの下面全体又は一部分に滑り止め部材Lを一体に設ける。 - 特許庁

A detection means 14 is provided in a mobile unit 2 for detecting the presence or absence of an article W at the location L around the mobile unit 2.例文帳に追加

検出手段14は、移動体2に設けられて、移動体2の周囲のロケーションLにおける物品Wの有無を検出する。 - 特許庁

Further, during the bending process, the optical axis type safety apparatus is invalidated, and hence such a situation that a work W obstructs the optical axis L to interrupt working does not occur.例文帳に追加

しかも、折曲工程中は光軸式安全装置が無効になるから、ワークWが光軸Lを遮って作業が中断されることがない。 - 特許庁

An axis center line L of the wired rope W and an axis center line L_2 of the second supporting shaft 27 are set to be orthogonal each other on the same plane surface.例文帳に追加

ワイヤロープWの軸心線Lと、第2枢支軸27の軸心線L2とを同一平面上において直交させる。 - 特許庁

The difference in the diameters L and W is set smaller than 3 mm, and the wafer is restrained from vibrating during a grinding operation so as to enable its back to be stably ground.例文帳に追加

また、上記LとWとの差を3mm以下にして、研削時に、ウエハ11の振動を抑えて、安定した裏面研削を行う。 - 特許庁

It is also desirable that the value (W/L) of the TFT 6 be equal to or larger than the two thirds of that of the TFT 1.例文帳に追加

TFT6の値(W/L)は、TFT1の3分の2と同等かそれより大きくすることが望ましい。 - 特許庁

A projected image 31 in which 'L', '0', '1', 'A' and 'P' among the printing content 30 are replaced with '○' is projected on the object to be printed W.例文帳に追加

これにて被印字対象物W上には、印字内容30のうち”L”,”0”,”1”,”A”,”P”が”○”に置き換えられた投影像31が投影される。 - 特許庁

The output transistor W/L value switching circuit executes a switching operation depending on an output load current.例文帳に追加

また、前記出力トランジスタのW/L値を切り換える回路が、出力負荷電流に応じて切り換え動作を行うことを特徴としている。 - 特許庁

The width L of the drainage space W and the space height H in the direction of the thickness of each panel can be set larger than the maximum diameter of a waterdrop under atmospheric pressure.例文帳に追加

排水空間Wの巾L及びパネル厚さ方向の空間高さHを大気圧下の最大水滴径以上に設定している。 - 特許庁

The conveying unit Y2 conveys the label W along a conveying line L at least partially exposed to the outside.例文帳に追加

搬送ユニットY2は、少なくとも一部が外部に露出する搬送ラインLに沿ってラベルWを搬送する。 - 特許庁

The length L of the needle handle 3 of the oblong shape is 10-30 mm, and the width W of the needle handle 3 is 1-5 mm.例文帳に追加

前記長円形状の針柄3の長さLは10〜30mm、針柄3の幅Wは1〜5mmとする。 - 特許庁

In processing a large workpiece W_L, an additional stage 22 is added to the side of a main stage 21.例文帳に追加

大きい被処理物W_Lを処理する際は、主ステージ21の側部に継ぎ足しステージ22を継ぎ足す。 - 特許庁

The insulating film 18a in the portion sandwiched by the two wires 24 and in contact with the two wires 24 has a height H, the length L, and a width W.例文帳に追加

2本の配線24の間に挟まれ、かつ、2本の配線24に接している部分の絶縁膜18aは、高さH、長さL、幅Wを有している。 - 特許庁

Furthermore, when the dimension W ands L are set to 'a' and the width of the internal electrodes 10 and 11 is set to 'b', it is preferable that the relationship 0.45≤b/a≤0.90 be satisfied.例文帳に追加

また、WおよびLをaとし、内部電極10,11の幅をbとしたとき、0.45≦b/a≦0.90に選ぶことが好ましい。 - 特許庁

The dew condensation preventing sheet 1 having width dimension W longer than longitudinal direction L of the dew condensation preventing heat insulating material 30 is wrapped around the periphery of the dew condensation preventing heat insulating sheet, over the whole area of the cut part 31 of the dew condensation preventing heat insulating material 30.例文帳に追加

結露防止用断熱材(30)の長さ方向(L)よりも長い幅寸法(W)を有する結露防止用シート(1)を、結露防止用断熱材(30)の切断部(31)の全域に跨って該結露防止用断熱材の外周において一周させて巻き付ける。 - 特許庁

This composition is provided by containing as an active ingredient, at least 2% (w/w) phosphatidyl-L-serine or its salt based on the whole composition, wherein, the phosphatidyl-L-serine has a structural fatty acid chain originated from at least one raw material lecithin.例文帳に追加

本発明の組成物は、有効成分として、全組成物のうち少なくとも2%(w/w)のホスファチジル-L-セリン又はその塩類を含有し、ホスファチジル-L-セリンは少なくとも1つの原料レシチンから由来する構造的脂肪酸鎖を有する。 - 特許庁

This wheel suspension uses a compressed coil spring, having a force acting line W deviated from a geometric spring centerline L, and is provided with a rotator for three-dimensionally adjusting the force acting line W against the geometric spring line L.例文帳に追加

幾何学的なばね中心線Lに対してずらされた力作用線Wを有する圧縮コイルばね装置が使用されており、幾何学的なばね中心線Lに対する力作用線Wを三次元的に調節するための回転手段が設けられている。 - 特許庁

When a magnetism sensing part 2 of a magnetic impedance effect element M is formed as a thin film or a thin band, the ratio of an element width W to an element length L of the magnetism sensing part 2 (aspect ratio) W/L is set to 0.1 or less, thereby enhancing the magnetic field detection sensitivity of the magnetic impedance effect element.例文帳に追加

磁気インピーダンス効果素子Mの感磁部2を薄膜あるいは薄帯として形成するときに、感磁部2の素子幅Wと素子長さLの比(アスペクト比)W/Lを0.1以下にすることにより、磁気インピーダンス効果素子の磁界検出感度を向上させることができる。 - 特許庁

A protective tape 12 is pasted on the surface of a wafer 11, and the back of the wafer 11 is ground and etched, where the outer diameter W of the wafer 11 and the other diameter L of the protective tape 12 are so set as to satisfy a formula, L=W-a, (0 mm≤a≤3 mm).例文帳に追加

ウエハ11の表面に保護テープ12を貼り付けてウエハ11の裏面を研削・エッチングするに際して、ウエハ11の外径Wと保護テープ12の外形Lとを、L=W−a(0mm<a≦3mm)なる関係が成立するように設定する。 - 特許庁

When a thickness of the magnetic thin film 10 is T, a line width of the zigzagging pattern is W, and a length of the pattern is L, T is within a range of one to five μm, and L/(W×T) is within 10 to 400×106m-1 or more preferably within 28 to 100×106m-1.例文帳に追加

そして、磁性薄膜10の厚さをT、つづら折り状パターンの線幅をW、パターンの長さをLとして、Tが1〜5μmの範囲内にあり、L/(W×T)が10〜400×10^6m^-1の範囲内、より好ましくは28〜100×10^6m^-1の範囲内とされる。 - 特許庁

The frame 4 is composed of a main frame 10 forming a side part at one side R in the width direction W of the frame 4, and a sub- frame 11 projecting to the other side L in the width direction W from a lower part of the main frame 10 to form the other side L of the frame 4.例文帳に追加

上記フレーム4が、その幅方向Wの一側方Rにおける側部を形成する主フレーム10と、この主フレーム10の下部から上記幅方向Wの他側方Lに突出して上記フレーム4の他側部を形成する副フレーム11とを備える。 - 特許庁

例文

In other words, the substrate W is cleaned by arranging the holder 50 in the immersion tank 2 so that the main surface of the substrate W becomes parallel to the flow direction of the cleaning liquid L while forcing a part of the cleaning liquid L flowing on the upstream side of the holder 50 to form a turbulent flow.例文帳に追加

このとき、基板Wの主面が洗浄液Lの流れる方向と平行となるように浸漬槽2内にホルダ50を配置して、このホルダ50よりも上流側を流れる洗浄液Lの一部に乱流を発生させながら、基板Wの洗浄を行う。 - 特許庁

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