「w. l.」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

A number of nearly spherical works W are dipped into washing liquid L being accommodated in a container 2, and the washing liquid L in the container 2 is agitated by allowing works WS to collide each other, thus removing fluorescent contents adhering to the surface of the work W due to mutual rubbing effect.例文帳に追加

多数の略球形のワークＷを、容器２に収容した洗浄液Ｌ中に浸漬し、容器２中の洗浄液Ｌを攪拌することによりワークＷ同士を衝突させ、これにより友擦り効果によりワークＷ表面に付着した蛍光分を除去する。 - 特許庁

The appearance model 120 includes: a stable model component (S), learned over a long time course, and a transient component (W/L), learned over a relatively short time course (e.g., a 2-frame motion component (W) and/or an outlier processing component (L)).例文帳に追加

アピアランス・モデル１２０は、長い時間経過にわたって学習される安定モデル・コンポーネント（Ｓ）、および比較的短い時間経過（たとえば２−フレームの動きコンポーネント（Ｗ）および／またはアウトライア処理コンポーネント（Ｌ））にわたって学習される推移コンポーネント（Ｗ／Ｌ）を含む。 - 特許庁

The separation treatment tub 2 for carrying out floatation separation of the separation object such as the fats and oils U, and the coating sludge S into a defatting liquid L and W in the tub comprises air bubble generation means 5 for generating a fine particle size air bubble such as a microbubble or a nanobubble in the treated water W and L in the tub.例文帳に追加

油脂Ｕ又は塗料スラッジＳ等の分離対象物を槽内脱脂液Ｌ、Ｗ中に浮上分離させる分離処理槽２において、槽内処理液Ｗ、Ｌ中にマイクロバブル又はナノバブル等の微小粒径気泡ａを発生させる気泡発生手段５を設ける。 - 特許庁

Here, virtual images of adjacent pixels 107 are made not to overlap with each other by letting W≤f×D/L, where L is the distance from the pupil plane of the eye to the rectangular opening part 103, D the size of a microlens 104, (f) the focal length of the microlens 104, and W the size of the rectangular opening.例文帳に追加

目の瞳面から矩形開口部１０３までの距離をＬ、マイクロレンズ１０４の大きさをＤ、マイクロレンズ１０４の焦点距離をｆ、矩形開口の大きさをＷとしたとき、Ｗ≦ｆ×Ｄ／Ｌとして、隣り合う画素１０７の虚像が重ならないようにした。 - 特許庁

Width W and the overall length L of the first coil conductor 9, and the cut-off frequency fc when the common mode choke coil CC is employed as a common mode filter satisfy following relation; √(L/W)<(7.6651-fc)/0.1385.例文帳に追加

第１のコイル導体９の導体幅Ｗ及び全長Ｌと、コモンモードチョークコイルＣＣをコモンモードフィルタとして用いた場合のカットオフ周波数ｆｃとは、「√（Ｌ／Ｗ）＜（７．６６５１−ｆｃ）／０．１３８５」なる関係式を満たしている。 - 特許庁

The resin composition is distributed to five or more flow passages 2, and a die 1 having a ratio (L/W) of the die length (L) to the die width (W) ranging from 1 to 10 is attached to the distal end of each passage 2, and the resin composition supplied to each passage is molded into a sheet and discharged from the die.例文帳に追加

樹脂組成物を５本以上の流路２に分配し、さらに各流路２の先端にはダイ長さ（Ｌ）とダイ幅（Ｗ）の比（Ｌ／Ｗ）が１以上１０以下のダイ１を取り付けて、各流路に供給された樹脂組成物をそれぞれ板状に成形してダイから吐出させる。 - 特許庁

Here, provided that d is the thickness of the chemically strengthened glass, the distance L between the edge of the chemically strengthened glass fixed and the edge of the fixing member is d≤L≤20d, and the width W of the fixing member is d≤W≤10d.例文帳に追加

また、化学強化ガラスの厚さをｄとする場合、ガラス端部と固定用部材端部との距離Ｌがｄ≦Ｌ≦２０ｄで固定されたこと、および化学強化ガラスの固定用部材の幅Ｗがｄ≦Ｗ≦１０ｄであることを特徴としている。 - 特許庁

This appearance model 120 includes a stable model component (S) learned over a long time passage and a transitive component (W/L) learned over a comparatively short time passage (for example, 2-frame motion component (W) and/or an outlier processing component (L)).例文帳に追加

アピアランス・モデル１２０は、長い時間経過にわたって学習される安定モデル・コンポーネント（Ｓ）、および比較的短い時間経過（たとえば２−フレームの動きコンポーネント（Ｗ）および／またはアウトライア処理コンポーネント（Ｌ））にわたって学習される推移コンポーネント（Ｗ／Ｌ）を含む。 - 特許庁

A virtual line L parallel to the tire equator line CL is drawn in the area of the high-flange part 11 side while the tire is fitted to a wheel, and the distance d from the tire equator line CL to the virtual line L and the tire ground contact width W satisfy the inequalities 0≤d/W≤0.30.例文帳に追加

ここで、タイヤのホイール装着状態にて、タイヤ赤道線ＣＬに平行な仮想線Ｌをハイフランジ部１１側の領域に引くと共に、タイヤ赤道線ＣＬから仮想線Ｌまでの距離ｄとタイヤ接地幅Ｗとが０≦ｄ／Ｗ≦０．３０の関係を有するとする。 - 特許庁

First/second generators G_1, G_2 driven by an engine E are provided, where a battery 4 supplying electric power to electrical equipment is charged with the first generator G_1, and electric power is directly supplied from the second generator G_2 to motors M_L, M_R to assist starting of drive of the rear wheels W_RL, W_RR.例文帳に追加

エンジンＥにより駆動される第１ジェネレータＧ_1 および第２ジェネレータＧ_2 を設け、電装品に給電するバッテリ４を第１ジェネレータＧ_1 で充電するとともに、後輪Ｗ_RL，Ｗ_RRを駆動する発進アシスト用のモータＭ_L ，Ｍ_R に第２ジェネレータＧ_2 から電力を直接給電する。 - 特許庁

The signature generation apparatus for generating a signature for a message m from the i-th user includes a plurality of sub-IPs 302 within the IP core 301 so that any two or three of a[1]^μ[x](mod n), a[2]^μ[s](mod n), and w^μ[t](mod l) are calculated in parallel.例文帳に追加

署名生成装置は、i番目のユーザによるメッセージmに対する署名を生成するものであり、a[1]^μ[x] (mod n)と、a[2]^μ[s] (mod n)と、w^μ[t] (mod l)と、の、いずれか２つもしくは３つを並列に計算するように、ＩＰコア３０１内に複数のサブＩＰ３０２を備える。 - 特許庁

While the capillary structure 3 is brought into contact with liquid L on the wafer W and one of the capillary structure 3 and wafer W is moved relatively to the other, the liquid L is wiped with the capillary structure 3 for water absorption and drying.例文帳に追加

そして、毛細管構造体３をウェーハＷ上の液体Ｌに接触させた状態で、毛細管構造体３及びウェーハＷの一方を他方に対して相対的に移動させながら、前記液体Ｌを毛細管構造体３で拭き取るようにして吸水・乾燥させる。 - 特許庁

The chip manufacturing method using the laser dicing device 10 to manufacture chips of optional shapes comprises a process of irradiating the front surface of the wafer W with a laser beam L as it conforms to the shape of the chip so as to form the modified regions inside the wafer W and furthermore an additional process of grinding the rear surface of the wafer W or vibrating the wafer W or extruding chips from the wafer W.例文帳に追加

レーザーダイシング装置１０を用いた任意形状のチップを製造するチップ製造方法は、ウェーハＷの表面からレーザー光Ｌをチップの形状に合わせて入射させ、ウェーハ内部に改質領域Ｐを形成する工程に、ウェーハＷの裏面を研削する工程、又はウェーハＷを振動させる工程、あるいはウェーハＷからチップを押し出す工程を付加した。 - 特許庁

The hydrogen enrichment catalyst contains ceria as a catalyst component and catalyzes reactions in a W/F (catalyst weight (g)/contact time (L/h)) of 0.01 g×h/L or lower.例文帳に追加

触媒成分としてセリアを含み、Ｗ／Ｆ（触媒重量（ｇ）／接触時間（Ｌ／ｈ））が、０．０１ｇ・ｈ／Ｌ以下で流通される水素富化触媒である。 - 特許庁

Electric current is passed through the aqueous electrolyte L between an electrode 43 immersed into the aqueous electrolyte L and the metallic band material W while the polarity of the electrode 43 is inverted at prescribed periods.例文帳に追加

該水系電解液Ｌに浸漬された電極４３と金属帯材Ｗとの間に、電極４３の極性を所定の周期で反転させつつ、水系電解液Ｌを介して電流を通電する。 - 特許庁

In exposure wherein liquid L is interposed between resist on a wafer W and an exposure lens 11, liquid containing acid generation compound is used for the liquid L.例文帳に追加

本発明は、ウエハＷ上のレジストと露光レンズ１１との間に液体Ｌを介在させる露光において、この液体Ｌとして、酸発生化合物を含むものを用いる。 - 特許庁

Thereafter, the diameter D of the measuring object W is operated based on a measured value L acquired by measurement and the positions of the pair of boundaries shown in the image when the measured value L is acquired.例文帳に追加

その後、該計測によって得られた計測値Ｌと、該計測値Ｌを得たときの画像に示される前記一対の境界の位置とに基づいて被計測体Ｗの直径Ｄを演算する。 - 特許庁

For example, in a Japanese syllabary input mode, consonant phonemes "A, K, S, T, N" are set in a first group L palette, and "H, M, Y, R, W" are set in a second group L palette.例文帳に追加

例えば仮名入力モードの場合、子音音素の「Ａ，Ｋ，Ｓ，Ｔ，Ｎ」は第１群Ｌパレットに、「Ｈ，Ｍ，Ｙ，Ｒ，Ｗ」は第２群Ｌパレットに設定される。 - 特許庁

The small block group G_B includes at least one width direction main groove 4 which has a groove length L_4 longer than a width W_L of the block row L, and linearly extends in the actual tread width direction.例文帳に追加

小ブロック群Ｇ_Ｂには、該ブロック列Ｌの幅Ｗ_Ｌより長い溝長さＬ_４を有し、実質トレッド幅方向に直線状に延びる少なくとも１本の幅方向主溝４が配設されている。 - 特許庁

When machining the workpiece W by irradiating the surface of the workpiece with laser beams L, the laser beams are scanned in the direction orthogonal to the optical axis while periodically moving the focal position of the laser beams L in the optical axis direction.例文帳に追加

対象物Ｗの表面にレーザ光Ｌを照射して加工を行う際、レーザ光Ｌの焦点位置を光軸方向に周期的に移動させながら、光軸に対して直交方向に走査させる。 - 特許庁

A moving mechanism 4 moves the retaining table 1 into the X direction with respect to the optical axis of the pulse laser light L, so that the position of incidence of the pulse laser light L is moved on the surface of the substrate W.例文帳に追加

移動機構４が、パルスレーザ光Ｌの入射位置が基板Ｗの表面上で移動するように、パルスレーザ光Ｌの光軸に対して保持台１をＸ方向に移動させる。 - 特許庁

The straight line L passing P_1 and P_2 is then determined, and the attitude correction quantity for the work W required to make the straight line L parallel to X-axis on the X-Z plane is determined.例文帳に追加

次いで、Ｐ_1 、Ｐ_2 を通る直線Ｌを求め、その直線ＬがＸ−Ｚ平面上でＸ軸と平行になるのに必要なワークＷの姿勢修正量を求める。 - 特許庁

The effluent oil diffusion preventing method is implemented by releasing a number of buoyancy materials 1A, 1B from under water toward the effluent oil L floating on the water W, and imparting buoyancy to the effluent oil L by the buoyancy materials 1A, 1B.例文帳に追加

本発明の流出油拡散防止方法は、水Ｗの上に浮遊する流出油Ｌに向けて水中から多数の浮力材１Ａ，１Ｂを放出し、該浮力材１Ａ，１Ｂにより該流出油Ｌに浮力を与えるようにしている。 - 特許庁

When W/T is in the range of 0.7-1.0, and D/L is smaller than 0.1, and S is smaller than L×20 mm^2, high strength (30 kN or more) is achieved while reducing the weight.例文帳に追加

Ｗ／Ｔが０．７〜１．０の範囲で、Ｄ／Ｌが０．１より小さく、ＳがＬ×２０ｍｍ^２より小さい場合に、軽量化を実現しながら、高い強度（３０ｋＮ以上）が得られる - 特許庁

In the labelling apparatus having the suction head 10 which sucks the label L with a plurality of the suction openings 12 to stick the label L on the article W, a slit 14 is provided on the suction face 11 of the suction head 10.例文帳に追加

複数の吸引口１２によりラベルＬを吸着し、前記ラベルＬを物品Ｗに貼付する吸着ヘッド１０を有するラベル貼付装置において、前記吸着ヘッド１０の吸着面１１に溝部１４を設けた。 - 特許庁

The sheet affixing device 10 comprises a feed means 11 for feeding a rolled web R with a label L temporarily attached to a strip-like peelable sheet RL, and an affixing means 12 for affixing the label L to a workpiece W.例文帳に追加

帯状の剥離シートＲＬにラベルＬが仮着された原反Ｒを供給する供給手段１１と、ラベルＬを被着体Ｗに貼付する貼付手段１２とによりシート貼付装置１０が構成されている。 - 特許庁

The peeling head 22 is operated by a head operating mechanism 23 to move to peel off the label L completely, after which the pasting means 7 pastes the peeled label L on the object W to be pasted.例文帳に追加

さらに、剥離ヘッド２２をヘッド操作機構２３で移動操作することによりラベルＬを完全に剥離し、剥離されたラベルＬを貼付手段７で貼付対象Ｗに貼り付ける。 - 特許庁

A recording part 20 of the recording unit Y1 records an image on the label W on the conveying line L using a recording head 2 facing the exposed part of the conveying line L.例文帳に追加

記録ユニットＹ１の記録部２０は、搬送ラインＬの露出部と対向する記録ヘッド２を用いて、搬送ラインＬ上のラベルＷに画像を記録する。 - 特許庁

By comparing the pressure change ΔP with the determination values S_L, S_H, S_W and making determination, the motor control circuit 6 changes the rotational speed N of the motor 2 between low rotational speed N_L and high rotational speed N_H, depending on the determination results.例文帳に追加

そして、モータ制御回路６は、圧力変化ΔＰと判定値Ｓ_Ｌ，Ｓ_Ｈ，Ｓ_Ｗとを比較、判定することにより、判定結果に応じてモータ２の回転数を低回転数Ｎ_Ｌと高回転数Ｎ_Ｈとの間で切換える。 - 特許庁

Cutouts lining generally central part in a width direction W perpendicular to the lining direction L and extending along in the line direction L are formed or cutting accelerating machining (hereinafter both of them are referred to as "cutouts or others 12") are carried out in the adhesive label 10.例文帳に追加

粘着ラベル１０が、並び方向Ｌに直交する幅方向Ｗのほぼ中央部に並び方向Ｌにほぼ沿って切り込みを形成し又は切断促進加工（以下、これら双方を「切り込み等１２」という。）を施されている。 - 特許庁

The sensor 53 and 54 detect the temperature of the solution L, using sensor sections 531 and 541 which are located near the level of the solution L held on the wafer W.例文帳に追加

温度センサ５３と５４は基板Ｗに保持された処理液Ｌの液面に近接配置されたセンサー部５３１と５４１により処理液Ｌの液温状態を検出する。 - 特許庁

The flow rate of the treatment liquid L flowing from the introduction opening 8a to the recovery opening 9a via the face to be processed of the substrate W is controlled to 0.02-0.3 L/min. per 1 cm in longitudinal direction of the introduction opening 8a.例文帳に追加

このときの導入開口面８ａから基板Ｗの被処理面を経て回収開口面９ａに流れる処理液Ｌの流量は、導入開口面８ａの長辺方向１ｃｍあたり０．０２〜０．３Ｌ／分に制御されている。 - 特許庁

In the release sheet RL from which the label L is peeled, a part between the cuts C is cut into a sheet as a reuse sheet RL1, and held between the label L and a delivery matter W to be reused.例文帳に追加

ラベルＬが剥離された後の剥離シートＲＬは、切り込みＣ間の部分が再利用シートＲＬ１として枚葉に切断されてラベルＬと配送物Ｗとの間に保持され再利用される。 - 特許庁

The width W of the pad body 62 is 1/2 or more of the average fiber length L_avg of fibers (preferably 1/2 or more of the maximum fiber length L_max), and not larger than the width V of a sucking opening 65 of the sucking collector 64.例文帳に追加

前記パッド体６２の幅Ｗは、ファイバの平均繊維長Ｌ_avgの１／２以上（好ましくは最大繊維長Ｌ_maxの１／２以上）であり、かつ前記吸引コレクタ６４の吸引口６５の幅Ｖ以下となるように設定されている。 - 特許庁

The heat of the solution L held on the wafer W is retained, while being radiatively heated by a light-emitting body 51 of heat retaining control means 5, based on detected signals from temperature sensors 53 and 54 which detected the temperature of the solution L.例文帳に追加

基板Ｗ上に保持された処理液は、その液温の状態を検出した温度センサ５３と５４の検出信号に基づいて保温制御手段５の発光体５１により放射加熱されることにより保温される。 - 特許庁

A pair of print medium movable parts 6 are provided in order to move the print medium L to the central part of the head body 34 in the widthwise direction W and to position the print medium L thereat.例文帳に追加

そして、被印字媒体Ｌの側端部に当接し、被印字媒体Ｌをヘッド本体３４の幅方向Ｗの中央部位に移動・位置決めする一対の被印字媒体可動部６を設ける。 - 特許庁

A light-receiving element block 5 is so worked that its length is L-α against L of a light-receiving element, its width being equal to W of the light-receiving element, and its height is a prescribed value which satisfies relationship with a light-emitting part 3a of a light-receiving part 4a in terms of height.例文帳に追加

受光素子ブロック５を、長さは受光素子のＬ対してＬ−αに、幅は受光素子のＷと等しく、高さは受光部４ａの発光部３ａとの高さ関係が所定の値になるような寸法に加工しておく。 - 特許庁

Thus, the apparatus can automatically carry out a series of work ranging from peeling off the label L to pasting the label L on the object W to paste on, using the sheet-like label sheet 5.例文帳に追加

これによれば、枚葉状のラベルシート５を使用してラベルＬの剥離から貼付対象Ｗに対する貼付に到る一連の作業を自動的に行える。 - 特許庁

The vacuum carrying robot 45 carries the wafer W between the L/L chamber 44 and the vacuum carrying chamber 42 and between the vacuum carrying chamber 42 and the treatment chamber 43 only by turning and moving up/down the vacuum carrying arms 47a and 47b.例文帳に追加

真空搬送ロボット４５は、真空搬送アーム４７ａ，４７ｂを旋回動作と上下動作させるだけで、Ｌ／Ｌ室４４と真空搬送室４２の間、真空搬送室４２と処理室４３の間でウェハＷを搬送する。 - 特許庁

The means 43 and 44 detect the condition of the liquid temperature of the cleaning liquid L by sensor parts 431 and 441 arranged close to the liquid level of the cleaning liquid L held on the substrates W.例文帳に追加

温度検出手段４３と４４は基板Ｗに保持された洗浄液Ｌの液面に近接配置されたセンサー部４３１と４４１により洗浄液Ｌの液温状態を検出する。 - 特許庁

Accordingly, the vehicle can make a U-turn so that the rear wheels 18 is not out of range of the reference line L* even if a distance W from the reference line L* of a space available to the U-turn is small when the vehicle makes the U-turn.例文帳に追加

そのため、車両がＵターンする場合において、Ｕターンに利用できるスペースの基準線Ｌ*からの距離Ｗが小さくても、後輪１８が基準線Ｌ*を超えないように、Ｕターンさせることができる。 - 特許庁

When the diameter of a single crystal is defined as W, and the length of heat generating part of a heater is defined as L, the single crystal is manufactured while keeping following relation: (1.2W)≤L<(1.8W), in the case when the crystal diameter is changed.例文帳に追加

単結晶の直径をＷ、ヒータの発熱部の長さをＬとしたとき、結晶直径を変更した場合にも、（１．２Ｗ）≦Ｌ＜（１．８Ｗ）の関係を保持して製造する。 - 特許庁

When the distance between adjacent nozzles, and the contact angle between the discharged liquid and the substrate are denoted by l [m] and ϕ, respectively, the discharge volume W [m^3] of the liquid drops satisfies a numeric expression 1.例文帳に追加

隣接ノズル間距離をl［ｍ］、吐出した液体と基板との接触角をφとするとき、液滴の吐出体積Ｗ[ｍ^３]が以下の式を満たすものとする。 - 特許庁

Furthermore, the relation between the length S of the bump in the vertical direction, with respect to the wire bonding direction, the length L of the bump in the parallel direction with respect to the wire bonding direction, and the wire diameter W, are such that 1.3W≤S≤4W, and 1.5W≤L≤5W.例文帳に追加

さらにバンプのワイヤ結線方向に対して垂直方向の長さＳ、平行方向の長さＬ、ワイヤ径Ｗの関係が１．３Ｗ≦Ｓ≦４Ｗ、１．５Ｗ≦Ｌ≦５Ｗである。 - 特許庁

First, a testing value of quantizing step width W_o is set, and a coding quantity of a base layer L_o is calculated by coding only the base layer using the test value W_o.例文帳に追加

まず最初に、量子化ステップ幅の試験値Ｗ_0 を設定し、それを使ってベースレイヤのみを符号化することで、ベースレイヤの符号量Ｌ_0 を算出する。 - 特許庁