| 例文 |
"linear pattern"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 102件
A registration chart 40 is used which has a white or black linear pattern 42 which slant at 45° to the horizontal and vertical and two parallel green and magenta linear patterns 44G and 44M crossing the linear pattern 42 and spaced at an interval corresponding to a specified pixel shift quantity.例文帳に追加
水平垂直に対して45度傾斜した白色又は黒色の線状パターン42と、この線状パーン42と直交し、所定の画素ずらし量に対応した間隔だけ離間した2本の平行な緑色の線状パターン44G,マゼンタ色の線状パターン44Mとを有するレジストレーションチャート40を使用する。 - 特許庁
In particular, the end effector can be adapted to drive staples in a linear pattern when the end effector orients staples in a substantially linear configuration.例文帳に追加
詳しくは、エンドエフェクターは、エンドエフェクターが実質的に直線的な形状にステープルを配置する場合に、ステープルを直線的なパターンで打ち込むように構成されることがある。 - 特許庁
On the command repeating board 90, a linear pattern is formed as a wiring pattern for connecting each connector part with the one-way buffer 91.例文帳に追加
そして、コマンド中継基板90上には、各コネクタ部と片方向バッファ91との間を接続する配線パターンとして、直線状のパターンが形成されている。 - 特許庁
To make a linear pattern not viewed in a gradation part, in a display panel of a vehicular display provided with the gradation part having a curved outline.例文帳に追加
湾曲した輪郭を有するグラデーション部を備えた車両用表示装置の表示板において、直線状の模様がグラデーション部中で見えないようにさせる。 - 特許庁
When an object is placed on the light receiving surface R, a linear pattern is projected by hologram reconstructing light to image a projection image to measure a three-dimensional shape of the object.例文帳に追加
受光面Rに物体を載置すると、ホログラム再生光により線状パターンが投影されるので、その投影像を撮影して物体の三次元形状測定を行う。 - 特許庁
Further, on a standing up surface 8 between the projection 6 and the recessed groove 7, the linear pattern 9 along a longitudinal direction of the projection 6 is coloring-coated by the ink jet type coating machine.例文帳に追加
そしてこの凸条6と凹溝7の間の立上り面8に、凸条6の長手方向に沿った線状模様9をインクジェット式塗装機で着色塗装する。 - 特許庁
The position identification mark is formed in a convex-concave shape in the side face portion (side part) of a linear pattern 11 for substrate potential supply which is formed using a diffusion layer.例文帳に追加
本発明の位置識別マークは、拡散層で形成される直線状の基板電位供給用パターン11の側面部(辺側)に、凹凸形状を設けて形成される。 - 特許庁
The memory hard disk is produced through a step forming a predetermined linear pattern on the surface of the substrate for the memory hard disk by using the composition for textured finish.例文帳に追加
そして、このテクスチャー加工用組成物を用いてメモリーハードディスク用の基盤(サブストレート)表面に所定の筋目を形成する工程を経てメモリーハードディスクは製造される。 - 特許庁
To suppress the unevenness occurring in a pattern in the formation of the pattern comprising a plurality of linear pattern elements by discharging a pattern forming material from a plurality of discharge ports.例文帳に追加
複数の吐出口からパターン形成材料を吐出して線状の複数のパターン要素により構成されるパターンを形成する際に、パターンに生じるムラを抑制する。 - 特許庁
The emissivity εb of a far-infrared ray of a formation material of the chart board 12, and the emissivity εa of a far-infrared ray of a formation material of the linear pattern 15a are different.例文帳に追加
チャート板12の形成材料の遠赤外線の放射率εbと、線状パターン15aの形成材料の遠赤外線の放射率εaとは異なる。 - 特許庁
The stencil mask is composed of a first stencil mask 38 having a first linear pattern 32 divided from an L-shaped pattern 22 as a mask pattern and a second stencil mask 40 having a second linear pattern 36 that is the remain of the pattern 22, as a mask pattern.例文帳に追加
本ステンシルマスクは、L字状パターン22を第1の線状パターン32と第2の線状パターン36とに分割して、第1の線状パターン32をマスクパターンとして有する第1のステンシルマスク38と、L字状パターン22の残りの部分、つまり第2の線状パターン36をマスクパターンとして有する第2のステンシルマスクマスク40とで構成されている。 - 特許庁
In a method for producing a semiconductor integrated circuit device, when a plurality of semiconductor integrated circuit devices, in which a circuit pattern having a linear pattern is provided and at least a part of production process is common, is produced, dry etching is performed to a film for processing with controlling dry etching conditions depending on circumferential length per unit area of the linear pattern in each of the semiconductor integrated circuit devices.例文帳に追加
ライン状パターンを有する回路パターンを備えており、製造工程の少なくとも一部が共通する複数の半導体集積回路装置を製造する際に、各半導体集積回路装置におけるライン状パターンの単位面積当たりの周縁長に応じてドライエッチング条件を調整しながら被加工膜に対してドライエッチングを行なう。 - 特許庁
The apparatus 10 for applying paste ejected from its nozzle 26 onto a substrate 16 to draw a linear pattern 33 thereon is characterized by comprising a detection apparatus 43 for detecting the tilt of the nozzle 26.例文帳に追加
ペーストをノズル26から吐出させて基板16上に線状のパターン33を塗布するペースト塗布装置10において、ノズル26の傾きを検出する検出装置43を有するもの。 - 特許庁
A linear pattern 10 which retards or blocks transfer of the internal stress of a resist is disposed around the main pattern of a chip to relieve the internal stress.例文帳に追加
チップのメインパターンの外周部に、レジスト内部応力の伝達を緩和あるいは遮断する線形形状パターン10を設けることにより、内部応力を緩和することを特徴とする。 - 特許庁
A binary image compositing means 12 applies AND compositing to the image by each pixel to generate a binary image which does not include the background noise, while preserving the shape of the linear pattern.例文帳に追加
そして、これらの画像を二値画像合成手段12が画素毎にAND合成して、線状パターンの形状を保存しつつ背景ノイズを含まない二値画像を生成する。 - 特許庁
And the each linear pattern of the metal pattern 4 is deviated by an angle of about 45 degrees against the linear concavo part 3a or the linear convex part 3b in the concavo-convex pattern 3.例文帳に追加
そして、金属パターン4の各直線状パターンは、凹凸パターン3の直線状の溝3a又は凸状部3bに対して略45度だけずれた状態となっている。 - 特許庁
After cores 2A and 2B are formed into a cross pattern, a branched pattern or a linear pattern, a photosensitive resin layer 3A for forming an over-cladding layer is formed to cover the cores 2A and 2B.例文帳に追加
コア2A,2Bを交差パターン,分岐パターンまたは直線パターンに形成した後、このコア2A,2Bを被覆するようオーバークラッド層形成用の感光性樹脂層3Aを形成する。 - 特許庁
To prevent size valuation due to difference in a mask pattern layout when a linear pattern of a gate electrode/wiring or metal-wiring of a MOS transistor.例文帳に追加
MOS型トランジスタのゲート電極・配線又はメタル配線等のライン状パターンを形成するときに、マスクパターンレイアウトの違いに起因して寸法ばらつきが生じることを防止する。 - 特許庁
To discriminate the proprietary of the route of a linear pattern with a simple method and allow one to detect, when there is a defect such as discontinuity and adhesion, the defect surely.例文帳に追加
線状パターンの経路の適否判別を簡易な方法で精度良く行うとともに、途切れや接着などの不良がある場合には、確実にその不良を検出できるようにする。 - 特許庁
The resistance heating element 12 is formed into a folded pattern folded back in the vicinities of both ends of the board 11, and composed of linear pattern parts 12a and curved pattern parts 12b formed by curving the folded parts.例文帳に追加
抵抗発熱体12は基板11の両端部付近で折り返された折返しパターンに形成され、直線状パターン部12aと折返し部が湾曲した湾曲パターン部12bとから構成される。 - 特許庁
The original plate for transfer is provided with a projecting section having one or more projections which is formed by supplying a plate forming ink over a linear pattern provided on the substrate surface to be solidified thereon.例文帳に追加
基材表面に設けられている線状パターン上に版形成インクを供給し、固化して形成した1つ以上の突起を有する突起部を備えた転写用原版などにより課題を解決した。 - 特許庁
Linear patterns which are manufactured are both modulated in steps, but while the linear patterns based upon the rational number angle are in a periodic shape, the linear pattern based upon the irrational number angle has no periodicity.例文帳に追加
ともに作製された直線パターンの幅が階段状に変調されているが、有理数角の場合では直線パターンが周期的な形状となる一方、無理数角の場合では周期性が生じない。 - 特許庁
On the other hand, the linear pattern 1 for receiving the VHF-HI band is extended in parallel with the upper side antenna conductor of the loop pattern 12 and an antenna terminal ANT-1 is provided to the left side end.例文帳に追加
一方、VHF−HI帯域受信用の線状パターン14は、ループパターン12の上側アンテナ導体に平行に延びており、その左側端には、アンテナ端子ANT−1が設けられている。 - 特許庁
Furthermore, an auxiliary pattern 2 formed adjacently to the plane antenna 1 is made not as a linear pattern but as a plane pattern having the same area as one antenna pattern of the plane antenna, thereby suppressing antenna impedance low.例文帳に追加
さらに、平面アンテナ1に隣接して形成する補助パターン2を、線状ではなく、平面アンテナの1つのアンテナパターンと同じ面積を有する面パターンとして、アンテナインピーダンスを低く抑える。 - 特許庁
(c) The incident position of the laser beam, or positional information on the linear pattern forward of the scanning direction is acquired, and the incident command value is calculated by correcting the target incident position based on the acquired positional information.例文帳に追加
(c)レーザビームの入射位置、または走査方向前方の線状パターンの位置情報を取得し、取得された位置情報に基づいて、入射目標位置を補正することにより、入射指令値を算出する。 - 特許庁
When two times of contour tracings find different lines from the lines that the starting points are set and the edge points detected during the tracings are wholly contained, it is determined that the route of the linear pattern is good.例文帳に追加
2回の輪郭追跡で起点が設定されたラインとは異なるラインに到達し、その間に検出されたエッジ点がすべて経路許容範囲に含まれている場合には、線状パターンの経路を良好と判定する。 - 特許庁
In this capacitor built-in non-contact type IC card provided with a resonance circuit consisting of an antenna coil 13 and a planar capacitor 15 in a card substrate wherein the capacitor capacity in the resonance circuit is adjustable, the capacitor has a configuration composed of branched linear pattern groups and the capacitor capacity can be adjusted by disconnecting a linear pattern from the branched part.例文帳に追加
本発明のコンデンサ内蔵非接触型ICカードは、アンテナコイル13と平面状のコンデンサ15からなる共振回路をカード基体中に有し、当該共振回路中のコンデンサ容量が調整可能とされている非接触型ICカードにおいて、当該コンデンサが、分岐した直線状のパターンの群からなる構成を有し、当該直線状パターンを分岐部から切断することによりコンデンサ容量が調整可能とされていることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a tape and a sheet to be adhered to a pain area easily with an adhesive surface of an article adherable to a skin where a linear pattern having vertical and horizontal lines and diagonal lines added from both sides is printed as a method of removing a pain quickly.例文帳に追加
痛みを早急に取り除く方法として、肌に貼る事が出来る物の接着面に縦、横、両サイドから斜めを加えた線状の模様をプリントして、痛みのある部位に簡単に貼ることの出来るテープやシートを提供する。 - 特許庁
Hereby, during a lighting time of the light source 4, not only the boss surface is made to shine by shining light on the boss surface but also a radial light linear pattern is shown on the boss 3 surface, to thereby emphasize the boss 3.例文帳に追加
これにより、光源4の点灯時では、単にボス表面に光をあててボス表面を光らせるだけでなく、ボス3の表面に、放射線状の光の線模様を表すことができ、ボス3を強調することができる。 - 特許庁
To provide a pattern formation method by which the direction of bulges formed in a linear pattern is controlled as compared with that in the case linear patterns are formed by applying droplets of a composition without forming patterns for inducing bulges on the surface of a substrate.例文帳に追加
基材の表面にバルジを誘導するためのパターンを形成せずに組成物の液滴を付与して線状パターンを形成する場合に比べ、線状パターンに生じるバルジの方向が制御されるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
In the alignment processing method for radiating optical energy to an alignment film formed on a substrate through a photomask to provide alignment characteristics on a surface of the alignment film, the photomask is relatively moved along a linear pattern formed on the substrate, and a deviation is detected by a positional relation between the linear pattern and a reference pattern formed on the photomask, and the photomask is moved in a direction orthogonal to a movement direction of the substrate to correct the deviation.例文帳に追加
基板上に形成した配向膜に、フォトマスクを介して光エネルギを照射して前記配向膜表面に配向特性を与える配向処理方法であって、前記フォトマスクを、前記基板に形成された線状パターンに沿って相対的に移動させると共に、前記線状パターンと、前記フォトマスクに形成された基準パターンとの位置関係からズレ量を検出し、前記フォトマスクを、前記基板の移動方向と直交する方向に移動させてズレ量を補正させる。 - 特許庁
The linear pattern 21 provided on the coil substrate 20 electrically connects the adjacent two linear patterns 11 provided on the coil substrate 10 via the connections 12, 22, and the linear patterns 11, 21 and the connections 12, 22 form a spiral winding.例文帳に追加
コイル基板20に設けた線状パターン21は、接続部12,22を介してコイル基板10に設けた隣接する2個の線状パターン11を電気的に接続し、線状パターン11,21と接続部12,22とにより螺旋状の巻線が形成される。 - 特許庁
To provide an image collating method, an image collating device and a program that can ensure accurate collating even when collating a linear pattern in an image according to a distance and an angle depending on reference coordinates and a reference axis.例文帳に追加
画像中の線形状パターンについて基準座標と基準軸に応じた距離および角度を基に照合する場合であっても、高精度に照合を行うことができる画像照合方法、画像照合装置、およびプログラムを提供する。 - 特許庁
The image processing unit receives a multi-value image, converted from a color image or a black/white image or the like and a crushing touch binary image generating means 10 generates a crushing touch binary image that contains a tending to crushing touch linear pattern and no background noise.例文帳に追加
カラー画像や白黒画像などを多値画像に変換した後の多値画像を入力とし、つぶれ気味二値画像生成手段10がつぶれ気味の線状パターンを含み背景ノイズを含まないつぶれ気味二値画像を生成する。 - 特許庁
Liquid containing a functional component is ejected from an ink jet head, and a plurality of liquid droplets, which are ejected sequentially from the ink jet head, are adhered to a nonpermeable medium to form a linear pattern in which the mutual liquid droplets are mutually connected on the medium.例文帳に追加
機能性成分を含有する液体をインクジェットヘッドから吐出し、インクジェットヘッドから順次吐出された複数の液滴を非浸透性の媒体に付着させ、これら液滴同士が媒体上でつながった線状パターンを形成する。 - 特許庁
A thin double-sided speaker includes: a large number of linear pattern 12 corresponding to a neutral zone of a permanent magnet plate formed on a diaphragm disposed between two units of the permanent magnet plates; and two sound emitting surfaces for emitting sounds to the opposite direction from each other.例文帳に追加
2枚の永久磁石板間に配置された振動板上に、永久磁石板のニュートラルゾーンに対応する多数の直線パターン12が形成され、互いに反対方向へ放音する2つの放音面を有する薄型両面スピーカを構成している。 - 特許庁
The linear pattern is formed by sequentially discharging a liquid (16) containing a functional component and having the effect of curing by irradiation with active light beam toward a non-permeable medium (12) from an ink jet head (18), and mutually combining such landed droplets on the medium (12).例文帳に追加
機能性成分を含有し、活性光線の照射によって硬化する作用をもつ液体(16)を非浸透性の媒体(12)に向けてインクジェットヘッド(18)から順次吐出して、媒体(12)上でこれら着弾液滴同士を合一させて線状パターンを形成する。 - 特許庁
When inspecting, the two virtual lines the same as that have been set are set on the binarized image of the linear pattern of an object to be inspected, and whether, while the contour tracing with an edge point on one virtual line as the starting point is performing, a detected edge point is contained in the route allowable range.例文帳に追加
検査では、検査対象の線状パターンの2値画像に設定時と同一の2本の仮想ラインを設定し、一方の仮想ライン上のエッジ点を起点にした輪郭追跡を行いながら、検出されたエッジ点が経路許容範囲に含まれるかを判別する。 - 特許庁
The device is simply constituted by using a flash as a light source, and narrows a blurring width in a direction perpendicular to a projected image pattern by disposing wide and narrow slit-like diaphragms in a direction parallel with and a direction perpendicular to a linear pattern to be projected, respectively, thereby obtaining the high-definition pattern light.例文帳に追加
フラッシュを光源とする事で簡易な構造とし、投影する直線状のパターンと平行な方向には広く、垂直な方向には狭いスリット状の絞りを設ける事により、投影された像のパターンと垂直な方向のぼけ幅を小さくし、高精細なパターン光を得る。 - 特許庁
To provide a method which can improve the degree of production margin in a phase shift mask manufacturing process and takes the actual width and length of a linear pattern into consideration as a correcting method for photomask data for a drawing device for manufacturing a substrate digging type Levenson phase shift photomask.例文帳に追加
基板掘り込みタイプのレベンソン型位相シフトフォトマスクを作製のための、描画装置用フォトマスクデータの補正方法であって、位相シフトマスク製造プロセスの製造余裕度を向上させることができ、且つ、線状パタンの実際の幅と長さを考慮した方法を提供する。 - 特許庁
An initial pattern image IPP, consisting of a first linear pattern image IPP1 in parallel with the main scanning direction on the surface of an image carrier and a second pattern image IPP2, whose position in a subscanning direction is shifted stepwise is formed, and is read by a detection sensor 232.例文帳に追加
像担持体の表面に主走査方向に平行な直線状の第1パターン画像IPP1と、副走査方向の位置を階段状に変位させた第2パターン画像IPP2と、からなる初期パターン画像IPPを形成し、これを検出センサ232により読み取る。 - 特許庁
A semiconductor substrate comprising the modulator region 22 and the laser region 24 which are butt-joint-joined, semiconductor laser formed in the laser region, the bent waveguide formed in the modulator region and the mounting marker 74 formed in the modulation region are provided, and the mounting marker is formed of a linear pattern.例文帳に追加
変調器領域22とレーザ領域24とがバットジョイント接合された半導体基板と、レーザ領域に形成された半導体レーザと、変調器領域に形成された曲がり導波路と、変調器領域に形成された実装用マーカ74とを備えていて、実装用マーカが直線パターンで形成されている。 - 特許庁
A conductor film 2 is provided to nearly the entire face of a glass pane 1 such as a rear window glass pane made of laminated glass, and an antenna conductor 3 comprising a conductor film or a sliver print linear pattern or the like is placed between the outer board and the intermediate film of the laminated glass at the outside of the vehicle from the conductor film 2.例文帳に追加
合わせガラスで形成された後部窓ガラスなどのガラス板1において、ガラス板1のほぼ全面に導電膜2を設けるとともに、この導電膜2より車外側の合わせガラスの中間膜と外板との間などに、導電膜あるいは銀プリントの線状パターンなどによるアンテナ導体3を配置する。 - 特許庁
In branch point detection processing that finds a branch point of a line element within an original image 15a including an irregular linear pattern composed of linear elements of an irregular shape, a binarized image 15b is obtained from the original image 15a, and padding processing that eliminates noises in the line element is subsequently performed to obtain a padding image 15c.例文帳に追加
不規則形状の線要素より構成される不規則線状パターンを含む原画像15a内の線要素の分岐点を求める分岐点検出処理において、原画像15aより2値化画像15bを得た後に線要素内の野路図を除去する穴埋め処理を行って穴埋め画像15cを得る。 - 特許庁
Furthermore, the padding image 15c is subjected to thinning processing to find a thinned image 15d in which the line width of the line element is one pixel, and a branch point of the line element of the irregular linear pattern is detected by collating a plurality of preregistered branch patterns 30 with the thinned image 15d.例文帳に追加
更に穴埋め画像15cに対して細線化処理を行って前記線要素の線幅が1画素の細線化画像15dを求め、この細線化画像15dに対して予め登録されている複数の分岐パターン30を照合することにより不規則線状パターンの線要素の分岐点を検出する。 - 特許庁
The rotation table, for example, transforms an L-shaped pattern B1 positioned in the upper left of the image spaced from the origin O into a pattern B3 as changing the coordinate positions thereof, and transforms a linear pattern B2 positioned in the lower left of the image near the origin O into a pattern B4 as keeping the coordinate positions thereof intact.例文帳に追加
この回転テーブルにより、例えば原点Oから離れた画像の左上に位置するL字状の模様B1が模様B3に変換され、その座標位置の変化が生じる一方、原点Oの近傍で画像の左下に位置する直線状の模様B2が模様B4に変換されるが、その座標位置の変化が生じない。 - 特許庁
A linear pattern layer 3 formed of a water-soluble ink is provided on the insulating board 1, a molybdenum-containing metal thin film 4 is formed on the whole surface of the board 1, the metal thin film 4 located on the pattern layer 3 is removed together with the pattern layer 3 by rinsing, and the metal thin film 4 is partially, linearly removed.例文帳に追加
絶縁性を有する基板1上に水溶性インキからなる線状のパターン層3を形成した後、少なくともモリブデンを含む金属薄膜4を全面的に形成し、次いで水洗を行ってパターン層3とともにパターン層3の上に位置する金属薄膜4を除去し、金属薄膜4の一部を線状に除去する。 - 特許庁
The dummy pattern 3 is arranged while folded in a rectangular wave shape to the line width of a conventional linear pattern and then the peeling load of the dummy seal 3 per unit area of a glass is improved to obtain the large effect that a serious defect which is seal peeling is hardly caused in a process of cutting the stuck glass to a panel individual piece size.例文帳に追加
また、ダミーパターン3を従来の直線パターンの線幅で矩形波状に折り曲げて配置することにより、ガラスの単位面積当たりのダミーシール3の剥離荷重が向上し、貼り合わせガラスをパネル個片サイズに切断する工程において、シール剥離という重大欠陥を誘発しにくくなるという効果も多大と成りうる。 - 特許庁
To improve freedom in designing a waveguide width by butt-joint-joining a modulator region and a laser region, reduce reflectivity on an emission end surface of laser light by providing a bent waveguide structure in the modulator region, and accurately align angles by making a mounting marker into a linear pattern.例文帳に追加
変調器領域とレーザ領域とをバットジョイント接合させることにより、導波路幅の設計の自由度が高められ、変調器領域に曲がり導波路構造が設けられることにより、レーザ光の出射端面での反射率が低減され、及び、実装用マーカを直線状パターンにすることにより、精度の良い角度合わせをする。 - 特許庁
This apparatus for forming the pattern is provided with: a stage moving mechanism for moving the substrate 9 in an X direction on which a plurality of first linear pattern elements 91 are formed beforehand in a Y direction; a discharge part for discharging a pattern forming material from a discharge port 541 toward the substrate 9; and a light emitting part 53 for emitting ultraviolet rays toward the substrate 9.例文帳に追加
パターン形成装置は、Y方向を向く直線状の複数の第1パターン要素91が予め形成されている基板9をX方向に移動するステージ移動機構、吐出口541からパターン形成材料を基板9に向けて吐出する吐出部、および、基板9に向けて紫外線を出射する光出射部53を備える。 - 特許庁
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