「ʷ」に関連した英語例文の一覧と使い方(503ページ目) - Weblio英語例文検索

The width W_1 of the electrode 15 is set to 60 to 80% of the width of the flange W.例文帳に追加

本発明のコイル部品１０は、巻芯部１１及びその両端に形成された鍔部１２を有するコア１３と、各鍔部１２にそれぞれ設けられた電極１５と、を備え、電極１５は鍔部１２の端面１２Ａ、底面１２Ｂ及び内側面１２Ｃに渡って一体的に形成され、且つ電極１５の幅Ｗ_１は鍔部Ｗの幅の６０〜８０％に設定されている。 - 特許庁

The O/W-type emulsion contains one or more kinds of salts selected from rock salt, natural salt and crude salt having a potassium content of 0.001-30 wt.% derived from potassium chloride and a total calcium content of 0.001-0.5 wt.% derived from calcium chloride and calcium sulfate.例文帳に追加

塩化カリウム起源のカリウム分の含有量が０．００１〜３０重量％、塩化カルシウム起源のカルシウム分と硫酸カルシウム起源のカルシウム分の合計量が０．００１〜０．５重量％である岩塩、自然塩、天然塩の中から選ばれた１種又は２種以上の塩を含有することを特徴とする水中油型乳化物。 - 特許庁

The dry etching method of the device sheet includes a stage for sticking the device sheet 4 via wax W onto the flat surface of a ceramic substrate (substrate) 20 consisting of AlTiC or the like and a stage for performing dry etching e.g. ion beam etching(IBE) to the stuck device sheet 4.例文帳に追加

ＡｌＴｉＣなどからなるセラミック基板(基板)２０の平坦な表面上に、ワックスＷを介してデバイスシート４を貼り付ける工程と、この貼り付けられたデバイスシート４に対してイオンビームエッチング(ＩＢＥ)などのドイラエッチングを施す工程と、を含む、デバイスシートのドライエッチング加工方法。 - 特許庁

In the W/O type emulsion ink for a stencil printer composed of an oil phase and a water phase, a rosin-modified phenol resin and a soybean fatty acid-alkyd resin in the oil phase are included in the ink, and a pigment surface-treated with barium sulfate is used as a coloring material.例文帳に追加

油相及び水相によって構成される孔版印刷機用Ｗ／Ｏ型エマルションインキにおいて、油相中のロジン変性フェノール樹脂及び大豆油脂肪酸アルキド樹脂をインキ中に含有させるとともに着色剤として硫酸バリウム等の硫酸バリウムで表面処理された顔料を用いる。 - 特許庁

A sprayable oil-in-water type emulsion, especially an O/W microemulsion comprises an emulsifying agent having its lipophilic property depending upon pH or temperature and one or more kinds of UV filter substances selected from the group of compounds containing at least two sulfonic acid or sulfonate groups on their molecular main chains.例文帳に追加

その親油性がｐＨ又は温度に依存する乳化剤及び、それらの分子主鎖上に少なくとも２個のスルホン酸又はスルホン酸塩の基を担持する化合物の群からの１種類以上のＵＶフィルター物質を含んでなる、噴霧可能な水中油エマルション、なかでもＯ／Ｗミクロエマルション。 - 特許庁

The deposition method for the DLC membrane having the excellent biocompatibility comprises depositing the membrane by a plasma enhanced DVD process in a deposition time of ≥3 seconds by using a gaseous hydrocarbon containing at least carbon and hydrogen under pressure of 0.5 to 500 mTorr and using RF output of 30 to 3,000 W.例文帳に追加

このＤＬＣ膜の成膜方法は、優れた生体適合性を有するＤＬＣ膜の成膜方法であって、少なくとも炭素と水素を含む炭化水素系ガスを０．５ｍＴｏｒｒ以上５００ｍＴｏｒｒ以下の圧力で３０Ｗ以上３０００Ｗ以下のＲＦ出力を用いて３秒以上の成膜時間でプラズマＣＶＤ法により成膜するものである。 - 特許庁

When the cutting conditions of the workpiece W are inputted in a controller 9 from a numeric input part 10, the controller 9 controls a machine tool body 1 in accordance with the inputted cutting conditions and calculates output power of laser beam outputted from a laser oscillator 8 based on the cutting conditions.例文帳に追加

数値入力部１０から制御装置９に対してワークＷの切削条件を入力すると、制御装置９では入力された切削条件に従って工作機械本体１を制御動作させると共に、切削条件に基づいてレーザ発振器８から出力するレーザビームの出力パワーを算出する。 - 特許庁

The insertion amount of the attenuation filter 101 into the optical path M is adjusted, the wavelength region K of the ultraviolet rays is cut off which enter the predetermined number of the lenses of a plurality of the lens for the integrator 94, and wavelength intensity distribution is adjusted to be proper in the ultraviolet rays finally irradiated to the wafer W.例文帳に追加

そして，減衰フィルタ１０１の光路Ｍに対する挿入量を調整し，インテグレータ９４の複数のレンズのうちの所定数のレンズに入射する紫外線の波長領域Ｋを遮断して，ウェハＷに最終的に照射される紫外線の波長強度分布を適正なものに調整する。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device having a contact or via plug made of a material W which can be less influenced by a lower layer of a barrier metal film, even when the barrier metal film in the contact or via plug is formed to be thin, and also to provide a method of manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

Ｗを材質とするコンタクトプラグあるいはビアプラグを有する半導体装置およびその製造方法であって、コンタクトプラグあるいはビアプラグ内のバリアメタル膜を薄く形成する場合であっても、バリアメタル膜の下層に影響を与えにくい半導体装置およびその製造方法を実現する。 - 特許庁

At the time of the general laser operation such as a semiconductor exposing treatment, the spectral line width W, spectral purity E95 or contrast loss LC corresponding to the spectral line width in the line width threshold Thresu of the spectral waveform f(λ) measured by the etalon spectrometer 32 is determined by use of this spectral line width and the predetermined correlation.例文帳に追加

そして、半導体露光処理等のような通常のレーザ運転時に、エタロン分光器３２で計測されるスペクトル波形ｆ（λ）の線幅閾値Thresuにおけるスペクトル線幅Ｗと、予め求めた相関とを用いて、スペクトル線幅Ｗに対応するスペクトル線幅Ｗやスペクトル純度Ｅ９５やコントラストロスＣＬが求められる。 - 特許庁

The vehicle widthwise size of a batter frame 10 is substantially coincident with the width W of a vehicle so as to increase the space in the battery frame 10, and accordingly, gaps between the batteries 13 and the battery frame 10 and gaps S between the batteries 13 can be sufficiently ensured.例文帳に追加

バッテリフレーム１０の車幅方向サイズを車幅Ｗに略一致させたため、バッテリフレーム１０内の空間スペースが増し、従来と同じ数のバッテリ１３を搭載するにしても、バッテリ１３とバッテリフレーム１０との間、或いは、バッテリ１３同士の間の隙間Ｓを大きく確保することができる。 - 特許庁

This substrate treatment device comprises a spin chuck 58 for rotatably holding a substrate W in a plane including its main surface, a motor 57 for rotatably driving the spin chuck, a circulating pump 64 for circulating a remover liquid and supplying the remover liquid to a first nozzle 41, and a heater 69 for heating the circulating remover liquid.例文帳に追加

基板処理装置は、基板Ｗをその主面を含む平面内において回転可能に保持するスピンチャック５８と、スピンチャックを回転駆動するモータ５７と、除去液の循環と第１ノズル４１への除去液の送液とを行う循環ポンプ６４と、循環する除去液を加熱するためのヒータ６９とを備える。 - 特許庁

This knitted fabric is composed of a conjugate yarn comprising polyamide multifilaments and other synthetic multifilaments and has ≥60% exposed part of the polyamide multifilaments based on the multifilament part of one surface of the fabric and ≥0.08 W/cm^2 amount of heat transfer based on the one side of the fabric.例文帳に追加

ポリアミドマルチフィラメントと他の合成繊維マルチフィラメントの複合糸からなる編地であり、該編地の少なくとも片面のマルチフィラメント部分に対するポリアミドマルチフィラメントの露出率が６０％以上であり、かつ、該編地片面の熱移動量が０．０８Ｗ／ｃｍ^2以上であることを特徴とする清涼編地。 - 特許庁

At the tip part of the piston rod 39, a first board pressing pad 47 capable of press-fixing a work W to a table 5 of the shearing machine is disposed and a second board pressing pad 51 absorbing impact is attached so as to protrude from the underside of the first board pressing pad 47.例文帳に追加

前記ピストンロッド３９の先端部にはワークＷを剪断機１のテーブル５に押圧固定自在な第１板押えパッド４７が設けられ、さらにピストンロッド３９の先端部には衝撃を吸収する第２板押えパッド５１が前記第１板押えパッド４７の下面より突出するよう装着されている。 - 特許庁

A transmission type waveguide bandpass filter 90 changes the local even-mode characteristic impedance Z_even(z) and an odd-mode characteristic impedance Z_odd(z), with respect to the characteristic impedance Z_0 of a waveguide, with a varying and nonuniform width w(z) and with a varying and nonuniform interval s(z).例文帳に追加

本発明に係る透過型導波路バンドパスフィルタ９０は、変化のある不均一な幅ｗ（ｚ）と変化のある不均一な間隔ｓ（ｚ）によって局所的な偶モードの特性インピーダンスＺ_ｅｖｅｎ（ｚ）及び奇モードの特性インピーダンスＺ_ｏｄｄ（ｚ）を導波路の特性インピーダンスＺ_０に対して変化させたことを特徴とする。 - 特許庁

A reflection-type waveguide bandpass filter 90 changes the local even-mode characteristic impedance Z_even(z) and the odd-mode characteristic impedance Z_odd(z), with respect to the characteristic impedance Z_0 of a waveguide with a varying and nonuniform width w(z) and with a varying and nonuniform interval s(z).例文帳に追加

本発明に係る反射型導波路バンドパスフィルタ９０は、変化のある不均一な幅ｗ（ｚ）と変化のある不均一な間隔ｓ（ｚ）によって局所的な偶モードの特性インピーダンスＺ_ｅｖｅｎ（ｚ）及び奇モードの特性インピーダンスＺ_ｏｄｄ（ｚ）を導波路の特性インピーダンスＺ_０に対して変化させたことを特徴とする。 - 特許庁

The method for cleaning polluted water (W) includes a step for introducing the polluted water into a cleaning tank (12) and a step for applying a direct current pulse voltage to electrodes (8 and 10) arranged in the cleaning tank with mutually independent cycle, pulse width, voltage, and current.例文帳に追加

上述の課題を解決するために、本発明による汚染水の処理方法は、汚染水（Ｗ）を浄化処理する方法であって、汚染水を浄化処理槽（１２）に導入する段階と、浄化処理槽内に配置された複数の対の電極（８、１０）に、互いに独立した周期、パルス幅、電圧、及び電流で直流パルス電圧を印加する段階と、を有することを特徴としている。 - 特許庁

In this coater for supplying a liquid mixture of resist and thinner onto a wafer W from a nozzle 86, the nozzle 86 is connected to a liquid mixture feed pipe 88, and the liquid resist and thinner are respectively passed through a junction pipe 75 from the resist feed pipe 97 and thinner feed pipe 98 and supplied.例文帳に追加

レジスト液とシンナとの混合液をウエハＷ上にノズル８６から供給する塗布装置において、ノズル８６は混合液供給管８８に接続され、混合液供給管８８には、レジスト液供給管９７、シンナ供給管９８からそれぞれレジスト液及びシンナが合流管７５を通過して供給されている。 - 特許庁

The projection optical system PL comprises a plurality of optical systems, disposed on an optical path of an exposure light EL directed from a reticle R toward a wafer W.例文帳に追加

投影光学系ＰＬは、レチクルＲからウエハＷへ向かう露光光ＥＬの光路上に配置される複数の光学素子を含み、これら複数の光学素子のうちの露光光ＥＬの結像位置近傍に配置される光学素子の面形状の形状誤差のうち、０．２ ＜ ＰＤ／ＷＬ ＜ １０．０の範囲内の波長成分に関して、形状誤差のＲＭＳ値で２ｎｍ以下である条件を満足している。 - 特許庁

The brushless motor controller 10 is provided with a Hall element 11, that outputs a rotational position detection signal corresponding to the rotational position of a magnet rotor 3 to the stator 2 and a conduction control portion 15 that outputs a PWM signal that instructs conduction timing to coils U, V, W, based on the rotational position detection signal.例文帳に追加

ブラシレスモータ１の制御装置１０は、ステータ２に対するマグネットロータ３の回転位置に応じた回転位置検出信号を出力するホール素子１１と、回転位置検出信号に基づいてコイルＵ，Ｖ，Ｗへの通電タイミングを指示するＰＷＭ信号を出力する通電制御部１５を備えている。 - 特許庁

When a center of the pallet is flexed downward by a load W, the upper wire 6 is compressed along an axial direction while the first reinforcing member 8 extends along the axial direction, so that a stress in a compression direction functions to the upper wire 6 and a stress in a stretching direction functions to the first reinforcing member 8.例文帳に追加

荷重Ｗによってパレットの中央部が下方へ撓んだ際、上位の線材６が軸心方向に沿って圧縮されるとともに第１の補強部材８が軸心方向に沿って延びるため、上位の線材６には圧縮方向の応力が作用し、第１の補強部材８には延び方向の応力が作用する。 - 特許庁

Furthermore, the channel width W of the respective channel areas 7a is 5 μm or more and 30 μm or less.例文帳に追加

本発明に係わる有機電界発光型表示装置における薄膜トランジスタは、ソース領域７ｂとドレイン領域７ｃとを共通にした複数のチャネル領域７ａを備えて、かつそのパターン端がテーパー形状に加工されたポリシリコン膜７を備えたことを特徴としており、さらに各チャネル領域７ａのチャネル幅Ｗが５μｍ以上３０μｍ以下であることを特徴とするものである。 - 特許庁

Thus, when a head part 42A of an occupant 40 abuts to the headrest body 16 at vehicle collision time, input W acting obliquely downward to the vehicle rear side on the head part support plate 32 from a head part 40A is received by the waveform surface 50 via the skin 42 and a pad 36 of a headrest 16.例文帳に追加

従って、車両衝突時、乗員４０の頭部４２Ａがヘッドレスト本体１６に当接した場合には、頭部４０Ａから頭部支持プレート３２へ車両後側斜め下方に向かって作用するの入力Ｗをヘッドレスト１６の表皮４２及びパッド３６を介して波状面５０で受けるようになっている。 - 特許庁

The swaging hammer 7 is struck by a swaging roller 13 revolving around a periphery of the swaging hammer 7 to move the dies 5 towards a centripetal direction, so that a work W is reduced in diameter.例文帳に追加

中央で集合してワーク挿入孔を形成する複数のダイス５を放射方向へ移動自在に配置し、各ダイスの外側にスウェージングハンマー７を配し、該スウェージングハンマー７の外周を公転するスウェージングローラ１３にてスウェージングハンマー７を打撃することでダイス５を求心方向へ移動させてワークＷを縮径する。 - 特許庁

When preparation of a next transfer is not completed in each slave device, the clock weight signals w1-wN are transmitted by open drain connection to extend the inverse time of the transfer clock, are connected to a pull-up resistor R, are consolidated into one clock weight signal W, and are input into the master device.例文帳に追加

クロックウエイト信号w1〜wNは各スレーブデバイスにおいて次の転送準備が完了していない場合に転送クロックの反転時を延長させるためにオープンドレイン接続で送出され、プルアップ抵抗Ｒに接続されて一つのクロックウエイト信号Ｗに集約されマスタデバイスに入力する。 - 特許庁

The condensed point forming position of the laser beams L" condensed by the condenser lens CV1 and the condenser lens CV2 can be arbitrarily changed, and the forming position of the condensed point Pa (relatively shallow position) and the condensed point Pc (relatively deep position) can be continuously set at arbitrary positions even within the wafer W.例文帳に追加

これにより、これらの集光レンズＣＶ１、ＣＶ２により集光されたレーザ光Ｌ”は、その集光点の形成位置を任意に可変することができるので、ウェハＷの内部においても、集光点Ｐａ（比較的浅い位置）や集光点Ｐｃ（比較的深い位置）の形成位置を任意の位置に連続的に設定することができる。 - 特許庁

For music Wa of walking tempo, a standby time Tw-s when operation tempo of the user is changed from walking tempo to slow tempo or the like are set, for music Sa of slow tempo, a standby time Ts-w when operation tempo of the user is changed from slow tempo to walking tempo or the like are set.例文帳に追加

ウォーキングテンポの楽曲Ｗａに対しては、ユーザの動作テンポがウォーキングテンポからスローテンポに変化する場合の待機時間Ｔｗ−ｓなどが設定され、スローテンポの楽曲Ｓａに対しては、ユーザの動作テンポがスローテンポからウォーキングテンポに変化する場合の待機時間Ｔｓ−ｗなどが設定される。 - 特許庁

Output of the sensor W is commonly given to a first and a second first order time-lag circuits 11 and 12 forming a frequency and gain characteristic means 9.例文帳に追加

センサＳの出力は周波数・ゲイン特性手段９を構成する第１および第２の１次遅れ回路１１，１２に共通に与えられ、各１次遅れ回路１１，１２の出力Ａ，Ｂは、減算手段１３に与えられ、その差を表す出力Ｃは、変化計数手段２２を構成するヒステリシス特性を有する第１および第２レベル弁別手段２３，２４に与えられる。 - 特許庁

The fine bubble generation apparatus 11 comprises fine bubble generator 10 immersed in water W in a storage tank 12, a pump P for supplying water to the fine bubble generator 10, an air pump AP for supplying air with an increased oxygen concentration by passing air to an oxygen-enriching apparatus 90 to the fine bubble generator 10.例文帳に追加

微細気泡発生装置１１は、貯留槽１２の水Ｗ中に浸漬された微細気泡発生器１０と、微細気泡発生器１０へ水を供給するポンプＰと、酸素富化器９０を通過して酸素濃度を高めた空気を微細気泡発生器１０へ供給する空気ポンプＡＰと、ポンプＰと微細気泡発生器１０とを備えている。 - 特許庁

It is further preferable to introduce gas T such as an odor gas generated from the organic waste material A and/or a treated liquid W generated by its decomposition treatment into a planting base plate 10 where the peroxidase production plant R grows, crush the peroxidase production plant R grown on planting base plate 10 and mix with the organic waste material A.例文帳に追加

更に好ましくは、有機系廃棄物Ａから生じる臭気ガス等のガスＴ及び／又は分解処理により生じる処理液Ｗをペルオキシダーゼ産生植物Ｒが生育する植栽基盤10に導き、植栽基盤10上で生育したペルオキシダーゼ産生植物Ｒを粉砕して有機系廃棄物Ａと混合する。 - 特許庁

Based on the temperature and temperature distribution of the substrate W, measured by the thermography 28 and the prestored information at a position corresponding to each compartment of the heating plate 10 and a flat size, feedback control is performed on each division heater so that the average temperature in each region, corresponding to each compartment of the heat plate of the substrate, becomes equal.例文帳に追加

サーモグラフィ２８によって計測される基板Ｗの温度および温度分布と、熱プレート１０の各区画に対応する予め記憶された位置および平面的大きさの情報とに基づいて、基板の、熱プレートの各区画に対応する各領域における平均温度が等しくなるように、各分割ヒータをフィードバック制御する。 - 特許庁

To provide a performance inspecting device for a refrigerating cycle for inspecting the performance of a heat exchanger and an expansion device forming the refrigerating cycle, provided to measure the performance of a heat exchanger of small capacity and a micro orifice particularly adopted to the refrigerating cycle of several watt (w) capacity.例文帳に追加

冷凍サイクルをなす熱交換器及び膨張装置の性能を検査するための冷凍サイクルの性能検査装置、特に、数ワット（ｗ）級の容量を有する冷凍サイクルに採用される小容量の熱交換器及びマイクロオリフィスの性能が測定可能に設けられた冷凍サイクルの性能検査装置を提供すること。 - 特許庁

The DFB laser device 50 includes a DFB laser element 52 with a buried heterostrcture having a resonator length of 400μm, a differential resistance of 4 Ω and an oscillation wavelength of 1550 nm; and a heat sink 54 bonding and mounting the DFB laser element 52 in a junction-down manner so that heat resistance is ≤50 K/W.例文帳に追加

本ＤＦＢレーザ装置５０は、共振器長が４００μｍ、微分抵抗が４Ω、発振波長が１５５０ｎｍの埋め込みヘテロ型のＤＦＢレーザ素子５２と、熱抵抗が５０Ｋ／Ｗ以下となるように、ジャンクションダウンでＤＦＢレーザ素子５２をボンディング実装したヒートシンク５４とを有する。 - 特許庁

In the exhaust gas treating method using the apparatus, a temperature of carbonaceous adsorbents flowing down through the fluidizing beds S2, S3 is measured, when an actually measured value exceeds a previously set threshold value, supply of the exhaust gas W to a corresponding area is stopped, and a suffocation operation is carried out by introducing nitrogen gas Gn.例文帳に追加

本発明による排ガス処理方法は、この装置を用い、流動層Ｓ２，Ｓ３を流下する炭素質吸着剤の温度を測定し、その温度実測値が予め設定したしきい値を超えた場合に、対応する領域への排ガスＷの供給を停止し、更に、窒素ガスＧｎを流通させることにより窒息操作を行う。 - 特許庁

In the remote plasma CVD device 1, a plasma generating region P is separated from a treatment substrate S so that the treatment substrate S is not exposed to plasma and also a mesh-type shield member 5 composed of a substance selected among Mo, Ti, W and WC is provided between the plasma generating region P and a substrate stage 3.例文帳に追加

リモートプラズマＣＶＤ装置１において、処理基板Ｓがプラズマに曝されないように、プラズマ発生領域Ｐと処理基板Ｓとを離間すると共に、プラズマ発生領域Ｐと基板ステージ３との間に、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ及びＷＣから選ばれた物質で構成されているメッシュ状の遮蔽部材５を設ける。 - 特許庁

Some regions TRa and TRw of an inspection object range TR are estimated from member arrangement information showing arrangement of respective components (a substrate W, electronic components EP) constituting the analyte, and a region for obtaining tomographic image information from the imaging result of a transmission image is restricted to regions except the regions TRa and TRw.例文帳に追加

検査対象範囲ＴＲの一部の領域ＴＲa、ＴＲwについては、被検体を構成する各部材（基板Ｗ、電子部品ＥＰ）の配置を示す部材配置情報から推定することとし、透過像の撮像結果から断層画像情報を求める領域を領域ＴＲa、ＴＲw以外の領域に限定する。 - 特許庁

In the multilayer ceramic substrate 1 having ceramics with mullite being a main crystal thereof, mullite content is 93-99 mass% of the ceramic component, at least one type of Mg and Y is contained as a component other than the mullite; and also at least one type of W and Mo is contained inside the multilayer ceramic substrate as a component of a conductive layer.例文帳に追加

ムライトを主結晶とするセラミックを有する多層セラミック基板１であって、ムライトの含有量が、前記セラミック成分の９３〜９９質量％であり、且つ、ムライト以外の成分として、Ｍｇ及びＹの少なくとも１種を含むとともに、多層セラミック基板の内部に、導電層の成分として、Ｗ及びＭｏの少なくとも１種を含む。 - 特許庁

The sheet peeling device further includes a slack area forming means of forming a slack area SR of the peeling tape PT between the paying-out means 2 and the recovering means 5, and is configured to peel the adhesive sheet S from the adherend W while maintaining the slack area SR and sticking the slack area SR on the adhesive sheet S.例文帳に追加

繰出手段２と回収手段５との間に剥離用テープＰＴの弛み領域ＳＲを形成する弛み領域形成手段を更に含み、当該弛み領域ＳＲを維持してこの弛み領域ＳＲを接着シートＳに貼付しつつ、当該接着シートＳを被着体Ｗから剥離するように構成されている。 - 特許庁

The shock absorber 30 is composed of a bracket 31 provided with a fixed part 34 fixed to the wall surface W, and a support part 35 continuous with the fixed part 34; and an impact absorber 32 made of a gel material or silicone foam and interposed between the upper face side of the support part 35 and the floor panel.例文帳に追加

緩衝装置３０は、壁面Ｗに固定される固定部３４及び当該固定部３４に連なる支持部３５を備えたブラケット３１と、支持部３５の上面側に設けられて床パネルとの間に介装されるゲル状材料又は発泡シリコン製の衝撃吸収体３２とにより構成されている。 - 特許庁

In an array waveguide diffraction grating type optical composer and divider 1 that is one example of the optical circuit by this waveguide device, an array waveguide part 14 is divided into a first array part 14a having each channel waveguide formed with a core width W and a second array pat 14b having each channel waveguide formed with a core width W2 different from W1.例文帳に追加

光導波路装置による光回路の一例であるアレイ導波路回折格子型光合分波器１のアレイ導波路部１４を、各チャネル導波路がコア幅Ｗ１で形成されている第１アレイ部１４ａと、各チャネル導波路がＷ１とは異なるコア幅Ｗ２で形成されている第２アレイ部１４ｂとに区分する。 - 特許庁

When a sirocco fan 15 and a chuck table 12 are coaxially rotated together for spin-drying, a negative pressure directed outward is generated on the chuck table 12 in the radial direction by the rotation of the fan 15, and droplets flying from a silicon wafer W are forcibly exhausted through vanes 18.例文帳に追加

スピン乾燥時に、シロッコファン１５をチャックテーブル１２と同軸的に回転させると、このファン１５の回転により、チャックテーブル１２上に半径方向外側へ向かう負圧力が発生し、この負圧力により、シリコンウェーハＷから飛散した水滴を羽根板１８間から外へ強制的に排出させる。 - 特許庁

At the time of starting the three-phase brushless motor, the rush current and the electrical load imposed upon electric parts used for control are reduced by starting the rotation of a rotor in a sequence A in which electric currents are made to flow to armature windings 11 in three phases U, V, and W.例文帳に追加

三相ブラシレス電動機の起動に際して、まず、三つの相Ｕ，Ｖ，Ｗの電機子巻線１１に電流を流すシーケンスＡにより回転子の回転を開始させることにより、起動時の突入電流を小さくすることができ、制御に使用する電子部品の電気的な負担を軽減させることができるようにする。 - 特許庁

The system 1 for producing a semiconductor substrate comprises a CVD furnace 2 for growing an epitaxial layer on a semiconductor substrate (wafer) W, an exhaust gas bubbler 3 branched from the way of piping 23 for discharging exhaust gas, and an analyzer 4 for analyzing metals in the exhaust gas captured by pure water 33 in the bubbler 3.例文帳に追加

半導体基板の製造装置１は半導体基板（ウェーハ）Ｗにエピタキシャル層を成長させるＣＶＤ炉２、その排気ガスの排出用配管２３の途中から分岐して設けられた排気ガスのバブリング装置３、バブリング装置３の純水３３に捕捉された排気ガス中の金属を分析する分析装置４とから構成される。 - 特許庁

The graphite sheet 63 is formed in a shape having radiation intensity distribution characteristics in which the radiation intensity is uneven in a peripheral direction centering the graphite sheet 63 on a cross section, and is arranged such that a vertical direction dimension H on the cross section is larger than a horizontal direction dimension W.例文帳に追加

グラファイトシート６３は、横断面においてグラファイトシート６３を中心とした周方向に輻射強度が不均一となった輻射強度分布特性を有する形状に形成されており、横断面における鉛直方向寸法Ｈが水平方向寸法Ｗよりも大きくなるように配置されている。 - 特許庁

The propylene resin type foamed sheet comprises a foamed layer containing a propylene type resin and non foamed layer containing a propylene type resin which shows an endothermic curve having the highest melting peak of 15°C or higher half-value width ▵w in a differential calory scanning measurement, and the container is obtained by a vacuum molding of the foamed sheet.例文帳に追加

プロピレン系樹脂からなる発泡層と、示差走査熱量測定において、最も高いピークであって半値幅△ｗが１５℃以上である融解ピークを有する吸熱曲線を示すプロピレン系樹脂からなる非発泡層とを有するプロピレン系樹脂発泡シートならびに該発泡シートを真空成形して得られる容器。 - 特許庁