「ʷ」に関連した英語例文の一覧と使い方(507ページ目) - Weblio英語例文検索

There is provided a discharge part 16 having a cylindrical barrel 16a of the dispensation nozzle 11 discharging an adhesive to the substrate W and an opening 16c discharging an adhesive along the center axis of the barrel part, and a smaller diameter part than the diameter of the barrel part is formed at the top end part 16b of the side discharging the adhesive of the discharge part.例文帳に追加

接着剤を基材Ｗに吐出するディスペンスノズル１１の円筒状の胴部１６ａと、胴部の中心軸に沿って接着剤を吐出させる開孔１６ｃとを有する吐出部１６が設けられ、吐出部の接着剤を吐出させる側の先端部１６ｂに胴部の径よりも小さい小径部が形成されている。 - 特許庁

A CCD camera 8 for receiving the reflected light B of a laser beam A which is reflected from a laser beam irradiation area through an optical filter 7 is fixed to a laser beam torch 1 for irradiating a material W to be welded with the laser beam and the image of a molten pool 5 including a key hole 4 and its periphery are picked up by the CCD camera 8.例文帳に追加

被溶接物Ｗにレーザ光Ａを照射するレーザトーチ１に、レーザ照射域から反射されるレーザ光の反射光Ｂを光学フィルタ７を介して受光するＣＣＤカメラ８を取付け、このＣＣＤカメラ８によりキーホール４を含む溶融池５およびその周辺を撮像する。 - 特許庁

A non-humidified high-speed proton conductor contains a reaction product (a hybrid compound) of (A): a heteropolyacid which is a solid acid (H_mXM_12O_40)*nH_2O (X is a hetero element of P or Si; M is a poly-element of W or Mo; m is the number of H), and B: an ionic liquid.例文帳に追加

（Ａ）固体酸であるヘテロポリ酸（Ｈ_ｍＸＭ_１２Ｏ_４０）・ｎＨ_２Ｏ（ここで ＸはＰ又はＳｉのヘテロ元素、ＭはＷ又はＭｏのポリ元素、ｍはＨの数である）と、（Ｂ）イオン性液体と、との反応物（ハイブリッド化合物）を含んでなる無加湿高速プロトン伝導体で、これは次の三つの工程を経て製造できる。 - 特許庁

The cooling plate holes a vacuum chuck for fixing a wafer, and it is made of ceramics base material whose thermal conductivity is 10 W/K m or higher, thermal expansion factor between 0 and 50°C is 7×10^-6/°C or lower, and Young's modulus is 200 GPa, and then it is provided with a vacuum suction route and a coolant route therein.例文帳に追加

本発明の冷却プレートは、ウェハを固定する真空チャックを保持するための冷却プレートであって、熱伝導率が１０Ｗ／Ｋ・ｍ以上、０℃〜５０℃間の熱膨張係数が７×１０^-6／℃以下、ヤング率が２００ＧＰa以上のセラミックス基材からなり、内部に真空吸引経路および冷却媒体経路が配設されていることを特徴とする。 - 特許庁

This floating chuck mechanism is furnished with a chuck body part 40 furnished with a plurality of the clamping clicks 41 to hold a cylindrical workpiece W held in along a rotation axis Z1 by a pair of center members 20 arranged opposed to each other from the outer peripheral direction and a chuck base part fixed by a main spindle 12 rotating around the rotation axis Z1 and to rotate with the center member 20.例文帳に追加

対向配置した一対のセンタ部材２０にて回転軸Ｚ１に沿って挟み込んだ円筒状のワークＷを外周方向から挟む複数のクランプ爪４１を備えたチャック本体部４０と、回転軸Ｚ１回りに回転する主軸１２に固定されてセンタ部材２０とともに回転するチャックベース部３０とを備える。 - 特許庁

Waveform sections 41a to 41e or 41f to 41j in a time range corresponding to a W value are extracted from an input waveform 40a or 40b at intervals of a period corresponding to the frequency Hz of tuning object, composed of finer resolution than the display update period, and binary information showing periodicity of waveforms 41a to 41e or 41f to 41j in respective sections is generated.例文帳に追加

入力波形４０ａ又は４０ｂから、表示更新周期よりも細かい分解能からなる調律対象周波数Ｈｚに応じた周期毎に、Ｗ値に応じた時間範囲にわたる波形区間４１ａ〜４１ｅ又は４１ｆ〜４１ｊを抽出し、抽出された各区間毎の波形４１ａ〜４１ｅ又は４１ｆ〜４１ｊの周期性を示す２値の表示情報を作成する。 - 特許庁

To enable the execution of high density (high IPF) ice storage by utilizing characteristics of stream charging possessed by emulsion by preventing a circulation passage from being clogged due to adhesion of ice occurring in a heat exchanger and a flow passage in a dynamic ice storage system to make and store ice in a suspension state through circulation, recirculation, and cooling of a W/O type emulsion.例文帳に追加

Ｗ／Ｏ型エマルションを循環・還流・冷却して、サスペンションの氷を造り蓄氷するダイナミック型の氷蓄熱システムにおいて、エマルションが流動帯電する特徴を利用して、熱交換器や流路内での氷着に基づく循環路の閉塞を防ぎ、高密度（高ＩＰＦ）の蓄氷を可能とする方法を提供するものである。 - 特許庁

In this discharge lamp of 140 W or less provided with a pair of tungsten electrodes oppositely arranged in a discharge vessel composed of a nonconductive material, and a blocking-up body arranged for airtightly sealing the discharge vessel, and sealing a light emitting substance in the airtightly sealed discharge space, the content unit volume of the discharge space is set to 15 mm3 to 60 mm3.例文帳に追加

非電導性材料からなる放電容器内に対向配置された一対のタングステン電極と、前記放電容器を気密封止するために配設された閉塞体とを具備し、前記気密封止される放電スペース内に、発光物質を封入した１４０Ｗ以下の放電ランプであって、前記放電スペースの内容積を１５ｍｍ^3〜６０ｍｍ^3としたことを特徴とした放電ランプとする。 - 特許庁

The substrate has in one body an array surface provided with a plurality of recessed grooves 24 and two support surfaces disposed across it and the respective recessed grooves 24 of the array surface is gradually increased in width (w) at the same depth from the highest position of the array surface at both end positions on sides of the two support surfaces as both the end part positions approach the corresponding support surfaces.例文帳に追加

複数の凹溝２４が設けられた整列面と、それを挟んだ両側に位置する二つの支持面とを一体的に有する基板における整列面の各凹溝２４を、二つの支持面側の両端部部位における、整列面の最高位置から同一の深さ位置の幅：ｗが、それら両端部部位が各々対応する支持面に近づくに従って、それぞれ漸増せしめられるように構成した。 - 特許庁

A hole 5 that contains a groove cut on the surface of a silicon substrate W as an object of processing is filled through a filling method comprising a titanium film forming process in which a titanium metal film 6 is formed on the surface of the substrate, an etching process in which the surface of the titanium metal film 6 is uniformly removed as thick as prescribed excluding its part that combines with the ground material.例文帳に追加

シリコン基板Ｗよりなる被処理体の表面に形成されている溝を含むホール５を埋め込む埋め込み方法において、前記被処理体の表面にチタン金属膜６を形成するチタン膜形成工程と、前記チタン金属膜の表面を、チタン塩化物ガスをエッチングガスとして下地と化合した部分を除いて所定の厚さだけ略均一に除去するエッチング工程とを有する。 - 特許庁

The system comprises a translator device (1) for rows of crates that brings about the movement of at least one row of crates (C), so as to create at least one aisle (W) for passing between one row and another of the module, in which it is possible to gain access through a crates manipulator (3), which is able to move along the module and through such aisles.例文帳に追加

少なくとも１列のクレートＣの移動をもたらす、クレート列のための変換装置から成り、１列と別の１列の間を通過する少なくとも１つの側廊Ｗを形成するようになり、その側廊の中で、モジュールＭに沿い、当該側廊を通って移動することができるクレート・マニピュレータ３を介してアクセスすることができるように構成されている。 - 特許庁

A work supply device has a work clamp detection means 35 to detect the position where an upper clamper 1 clamps a work W, a comparison means 60 to compare a detected value (t) by the work clamp detection means 35 with a work sheet thickness T inputted beforehand and an alarm means 61 to send an alarm when the detected value (t) is different from the work sheet thickness T.例文帳に追加

ワーク供給装置は、上側クランパ１がワークＷをクランプしたときの位置を検出するワーククランプ位置検出手段３５、該ワーククランプ位置検出手段３５による検出値ｔを予め入力されたワーク板厚Ｔと比較する比較手段６０、及び上記検出値ｔがワーク板厚Ｔと異なる場合にアラームを発するアラーム手段６１を有する。 - 特許庁

This thermally conductive sheet contains a plate-like boron nitride particle 2, the thermal conductivity in the plane direction (orthogonal direction) SD perpendicular to the thickness direction TD of the thermally conductive sheet 1 is 4 W/m K or greater, the maximum resisting force to cutting which acts on the cutting edge at the cutting work of the thermally conductive sheet 1 is 120 N/30 mm or less.例文帳に追加

板状の窒化ホウ素粒子２を含有する熱伝導性シート１であり、熱伝導性シート１の厚み方向ＴＤに直交する面方向（直交方向）ＳＤの熱伝導率が、４Ｗ／ｍ・Ｋ以上であり、その熱伝導性シート１の切断加工時に切断刃にかかる最大切断抵抗力が、１２０Ｎ／３０ｍｍ以下である。 - 特許庁

The antipruritic agent for external use includes a solvent containing a lower alcohol and water, and, dissolved or dispersed therein, urea, an antihistamine agent and a local anesthetic, where the weight ratio of the lower alcohol to water is 1:(0.6 to 1.3) and the total amount of the lower alcohol and water is 60-90 w/v% based on the whole antipruritic agent.例文帳に追加

低級アルコール及び水を含む溶媒中に、尿素、抗ヒスタミン剤及び局所麻酔剤を溶解乃至分散させてなる皮膚外用かゆみ止め剤であって、低級アルコール：水（重量比）＝１：０．６〜１．３であり、低級アルコールと水の合計量が、該かゆみ止め剤全体を基準として、６０〜９０w/v ％であることを特徴とする皮膚外用かゆみ止め剤。 - 特許庁

By moving a carriage 41 arranged with a clamp device 23 (23A, 23B) in the left/right direction (X direction) with a carriage base 35 and the carriage base 35 in the back/forth direction (Y direction), a work W clamped to the clamp device 23 is positioned to a working part K of a plate working machine, working is conducted.例文帳に追加

クランプ装置２３を備えたキャレッジ４１をキャレッジベース３５で左右方向（Ｘ方向）に移動せしめると共にキャレッジベース３５を前後方向（Ｙ方向）に移動せしめることにより、クランプ装置２３にクランプしたワークＷを板材加工機の加工部Ｋに位置決めして加工が行われる。 - 特許庁

A laser beam machining apparatus 10 is provided with: a laser beam source 11 emitting an ultra-short pulse laser beam L; a convergent lens 14 for convergently irradiating a workpiece W with the pulse laser beam emitted from the laser beam source; and a controller 12 for alterably setting the laser power of the pulse laser beam, with which the workpiece is irradiated, based on an external signal.例文帳に追加

レーザ加工装置１０は、超短光のパルスレーザ光Ｌを出射するレーザ光源１１と、レーザ光源から出射されたパルスレーザ光を加工対象物Ｗに収束させて照射する収束レンズ１４と、外部信号に基づき加工対象物に照射にされるパルスレーザ光のレーザパワーを変更可能に設定するコントローラ１２とを備える。 - 特許庁

High slidable sheet material 10 is arranged over the almost all area in the lateral direction the inclined surface 2d of the shelf board 2 inclined forward, thereby even containers W of a paper which hardly move forward smoothly move forward, and a plurality of partitioning boards partitioning the line of the commodities continuing in a longitudinal direction on the surface of the sheet material are detachably arranged in the shelf board 2.例文帳に追加

前方に向かって傾斜した棚板２の傾斜面２ｄの左右方向略全域にわたって高滑り性能のシート材１０を配設して、滑りにくい紙製の容器Ｗであっても前方への移動がスムーズに行えるようにし、棚板２にはシート材面上で前後方向に連なる商品列を仕切る仕切板が係脱自在に複数設けられている。 - 特許庁

As retraction action is conducted by the clamp cylinder 39 to lower the clamp arm 37, the claw main body 47 is oscillated around an extended direction of the clamp arm 37 by the ball joint 43, and it is also oscillated in a perpendicular direction to above around the oscillation support shaft 49, thereby pressure to the workpiece W by the three clamp claws 53 is equalized.例文帳に追加

クランプシリンダ３９がクランプアーム３７を下降させるべく引き込み動作を行うと、爪本体４７が、ボールジョイント４３によりクランプアーム３７の延長方向を中心として揺動するとともに、揺動支持軸４９を中心として上記と直交する方向に揺動し、これにより３つのクランプ爪５３によるワークＷへの押圧力が均等化される。 - 特許庁

The crystal grains having a uniform particle size and a uniform interval r are formed and the grain boundary width (the magnetization transition region width W) between grains is accurately adjusted by appropriately setting the distance between a substrate 1 plated with metal of NiP or the like and a copper member 2, depositing Cu deposits 4 on the substrate 1 at a uniform interval r and replacing the Cu deposits 4 with magnetic particles 10.例文帳に追加

ＮｉＰ等の金属めっきされた基板１と銅部材２との距離を適切に設定して、基板１上にＣｕ析出物４を均等間隔ｒで析出させ、Ｃｕ析出物４を磁性粒子１０に置き換えることにより、均一な粒径と均等間隔ｒとをもつ結晶粒を形成し、結晶粒間の粒界幅（磁化遷移領域幅Ｗ）を精度良く調整する。 - 特許庁

The article pickup device 20 of the vending machine equipped with an article receiving box 21 which receives the article W carried out of the machine while facing an article pickup opening 14 in the front is equipped with a block material 23 which projects from nearby a lower edge of the article pickup opening 14 into the article receiving box 21.例文帳に追加

前面に開口する商品取出口１４を臨む態様で、機内から搬出された商品Ｗを受け止めるための商品受け箱２１を備えた自動販売機の商品取出装置２０において、商品取出口１４の下縁部近傍から商品受け箱２１の内部に突出した態様のブロック材２３を備えたものである。 - 特許庁

An insulating film sidewall 11a is formed by carrying out etch-back treatment on the sidewall insulating film before the sidewall insulating films 11b, 11c are patterned, and the dimension W of the insulating sidewall 11a in a direction crossing the side face of a gate electrode 9 is equal to thicknesses T of the sidewall insulating films 11b, 11c.例文帳に追加

絶縁膜サイドウォール１１ａはサイドウォール用絶縁膜１１ｂ，１１ｃがパターニングされる前のサイドウォール用絶縁膜に対してエッチバック処理が施されて形成されたものであってゲート電極９側面に直交する方向の寸法Ｗがサイドウォール用絶縁膜１１ｂ，１１ｃの厚みＴと同じである。 - 特許庁

Then, while the molten metal is jetted from a jetting nozzle 2 having the pore size of ≤0.2 mm, the same is cooled and solidified in a cooling gas to obtain an Ni-Ti series shape memory alloy wire rod W formed into the wire diameter of ≤0.2 mm and in which the maximum size of crystal grains in the axial orthogonal cross-section is 1 to 15 μm.例文帳に追加

そして、その溶湯を孔径０．２ｍｍ以下の噴射ノズル２から噴射させつつ、これを冷却ガス中にて冷却・凝固させることにより、線径０．２ｍｍ以下に形成され、かつ軸直交断面における結晶粒の最大径が１〜１５μｍであるＮｉ−Ｔｉ系形状記憶合金線材Ｗを得る。 - 特許庁

The thermosetting resin molding material for a board made of resin for electronic/electric part comprises 50-150 parts by mass of a glass fiber and 80-150 parts by mass of a thermal conductivity imparting filler based on 100 parts by mass of the thermosetting resin, and has a thermal conductivity of ≥0.5 W/m K and has an insulation resistance of ≥1×10^12Ω.例文帳に追加

熱硬化性樹脂１００質量部に対し、ガラス繊維５０〜１５０質量部、熱伝導率付与充填材８０〜１５０質量部を含有し、熱伝導率が０．５Ｗ／ｍ・Ｋ以上であり、絶縁抵抗が１×１０^12Ω以上である電子・電気部品用樹脂製基板用熱硬化性樹脂成形材料。 - 特許庁

By this setup, a wafer W subjected to an exposure processing can be transferred from the exposure system S4 to the heating section 31 in a state of restraining resolution reaction from proceeding in resist, so that resist can be kept almost at the same level of resolution reaction, and a developed line can be improved in uniformity of width, by preventing unevenness from occurring in its width.例文帳に追加

このようにすると露光後のウエハＷをレジストの解像反応の進行を抑えた状態で露光装置Ｓ４→加熱部３１に搬送でき、現像処理を行うときのレジストの解像反応の進行の程度が揃えられるので、現像線幅のムラの発生が抑えられ、均一性の向上を図ることができる。 - 特許庁

The semiconductor device is provided with the interlayer insulating film 101; another interlayer insulating film 103 provided on the laminate; and the conductive plug penetrating through the interlayer insulating film 103 and the etching adjusting film 115 while being constituted of the other Ti film 117, the other TiN film 119, and a W film 121, and whose end surface is positioned in the TiN film 113.例文帳に追加

半導体装置は、層間絶縁膜１０１および積層体上に設けられている層間絶縁膜１０３と、層間絶縁膜１０３およびエッチング調整膜１１５を貫通し、端面がＴｉＮ膜１１３中に位置しているＴｉ膜１１７、ＴｉＮ膜１１９およびＷ膜１２１からなる導電プラグと、を備える。 - 特許庁

After that, the video signal having the resolution converted is inversely weighted by the first format and also weighted by a second format by a weighting (IW*W) section 18, then quantized by a quantizing (Q) section 19, coded by variable-length coding by a variable-length coding (VLC) section 20, and output as a digital signal of a second format (MPEG video signal).例文帳に追加

そして、解像度変換後のビデオ信号は、重み付け処理（ＩＷ＊Ｗ）部１８で第１のフォーマットによる逆重み付けと第２のフォーマットによる重み付けとが併せて行われ、量子化（Ｑ）部１９で量子化され、可変長符号化（ＶＬＣ）部２０で可変長符号化されて、第２のフォーマットのディジタル信号（ＭＰＥＧビデオ信号）として出力される。 - 特許庁

Lengths of optical films F11 and F21 before cut corresponding to the input number of products for a production schedule are calculated based on an inspection result by an inspection device 30 for an optical display units W after the optical films F11 and F21 are stuck to each other and a roll raw sheet formed by winding the optical films F11 and F21 having the lengths is ordered.例文帳に追加

検査装置３０による光学フィルムＦ１１，Ｆ２１が貼り合せられた後の光学表示ユニットＷの検査結果に基づいて、入力された生産計画数に対応する切断前の光学フィルムＦ１１，Ｆ２１の長さを算出し、その長さの光学フィルムＦ１１，Ｆ２１が巻回されることにより形成されたロール原反を発注する。 - 特許庁

The electrostatic attraction table 64 of the vacuum treatment equipment 1 set with the conductive work W having a through-hole Wa has a table body 64a built in with an electrostatic attraction mechanism 70 and a protection sheet 5 composed of either of an insulating material or a semiconductor material.例文帳に追加

貫通孔Ｗａを有する導電性のワークＷがセットされる真空処理装置１の静電吸着テーブル６４において、上部に静電吸着機構７０を組み込んだテーブル本体６４ａと、テーブル本体６４ａの上面に敷設され、絶縁性材料および半導体材料のいずれかで構成された保護シートＳと、を有している。 - 特許庁

The above problem is solved by a metal recovery method comprising: an adsorption stage 11 where metals M comprised in acidic bleeding water W are adsorbed with an adsorbent material; a first metal recovery stage 12 where the metals M adsorbed into the adsorbent material by the adsorption stage 11 are separated from the adsorbent material using acidic water or alkaline water and are recovered.例文帳に追加

酸性の湧出水Ｗに含まれる金属Ｍを吸着材で吸着する吸着工程１１と、吸着工程１１により吸着材に吸着した金属Ｍを酸性水またはアルカリ性水を用いて吸着材から分離して回収する第一金属回収工程１２と、を有することを特徴とする金属回収方法により、上記課題を解決する。 - 特許庁

Natural water containing magnesium chloride which is a fast-acting coagulant, as a main component is minutely and uniformly dispersed in fat and oil and stabilized in a W/O (water in oil) state, and when this water is added to soybean milk, coagulation speed can be delayed to produce bean curd of high quality.例文帳に追加

本発明によれば、速効性凝固剤である塩化マグネシウムが主成分である天然澗水を油脂に微細且つ均一に分散させてＷ／Ｏ（Ｗａｔｅｒ ｉｎ Ｏｉｌ；油中水）状態で安定化させて、豆乳に添加するときに凝固速度を遅らせることができて良質の豆腐を生産することができる。 - 特許庁

This black light 11 is provided with an irradiation box 12, UV lamps 13 disposed within the box 12, a carrying conveyer 14 carrying a work W for passing through the irradiation box 12, hydraulic cylinders 18 for changing irradiation angles of the UV lamps 13, and a control device 15 generally controlling the whole device.例文帳に追加

紫外線照射装置１１は、照射ボックス１２と、その照射ボックス１２内に配置されるＵＶランプ１３と、ワークＷを搬送して照射ボックス１２内を通過させる搬送コンベア１４と、ＵＶランプ１３の照射角度を変更するための流体圧シリンダ１８と、装置全体を統括的に制御するための制御装置１５とを備える。 - 特許庁

The metal-ceramic composite material having the excellent thermal conductivity is formed by coating the surface of the composite material manufactured from ceramic powder which is a reinforcing material and aluminum or aluminum alloy which is a matrix with ceramic fiber and thermal conductivity of the surface described above is ≥200 W/m.°C.例文帳に追加

強化材であるセラミックス粉末またはセラミックス繊維とマトリックスであるアルミニウムまたはアルミニウム合金とで作製された複合材料の表面がＣｕで被覆され、その表面の熱伝導率が２００Ｗ／ｍ・℃以上であることとした熱伝導性に優れた金属−セラミックス複合材料。 - 特許庁

The design assist program PG1 changes automatically and gradually the ratio (width ratio W) of width Sw of a segment magnet 20 to tip width Tw of teeth 13, and calculates automatically a first width ratio W1 in which cogging torque becomes the minimum value and a second width ratio W2 in which torque ripple becomes the minimum value.例文帳に追加

本実施形態の設計補助プログラムＰＧ１は、セグメント磁石２０の幅Ｓｗとティース１３の先端幅Ｔｗとの比（幅比Ｗ）を徐々に自動変更し、コギングトルクが極小値になる第１の幅比Ｗ１と、トルクリップルが極小値になる第２の幅比Ｗ２とを自動演算する。 - 特許庁

Even when we assess the same products, there would be a case that products are made w ith materials from different countries, having different transportation processes and recycling system etc. So it would not accurate to adapt only one or average pattern for the same products, therefore it would be difficult to make a comparison using the results of such assessment. 例文帳に追加

同じ製品でも、原料の生産国が異なったり、輸送経路が異なったり、リサイクルシステムが異なったりする場合があるが、そのような場合に、ある一つのパターンや平均的なパターンを適応して評価しても正確ではないし、そのようにして評価した結果を比較に使用するのは難しいのではないか。 - 経済産業省

This ceramic heater obtained by embedding a heating element, which mainly contains at least one kind out of silicides, nitrides and carbides of Mo, and silicides, nitrides and carbides of W, in a base mainly containing silicon nitride.例文帳に追加

Moの珪化物、窒化物及び炭化物、並びに、Wの珪化物、窒化物及び炭化物のうち、少なくとも1種を主成分とする発熱体を窒化珪素を主成分とする基体に埋設し、前記基体は、前記基体は、気孔率が5%以下であり、希土類元素を酸化物換算で4〜25質量%含有し、以下の条件下に、珪化物及び/又は炭化珪素を含有し、かつ前記基体の表層部に炭化珪素が存在せずに珪化物が存在する場合、前記基体の表層部に珪化物が存在せずに炭化珪素が存在する場合及び前記基体の表層部に珪化物と炭化珪素とが存在する場合のいずれにおいても珪化物及び炭化珪素の最大粒径が15μｍ以下であることを特徴とするセラミックヒータ。 - 特許庁

In the plate making method, a photosensitive planographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer containing a compound having at least one addition polymerizable ethylenically unsaturated double bond and a photopolymerization initiator on a support is exposed and developed with the developing solution.例文帳に追加

Ａ−Ｗ （Ｉ） （式中、ＡはA-HのlogPが１．５以上の疎水性有機基を表し、ＷはW-HのlogP が１．０未満の非イオン性の親水性有機基を表す。）；付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を少なくとも１個有する化合物及び光重合開始剤を含有する光重合性感光層を支持体上に有する感光性平版印刷版を露光後、上記の現像液によって現像することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

An ozone gas supply means 40 for supplying an ozone gas 2 into a sealed treatment container 10 for accommodating the wafer W, and a vapor supply means 30 for supplying vapor 1 into the treatment container 10, are provided.例文帳に追加

ウエハＷを収容する密閉された処理容器１０内にオゾンガス２を供給するオゾンガス供給手段４０と、処理容器１０内に水蒸気１を供給する水蒸気供給手段３０とを設け、オゾンガス供給管路４２に介設される開閉弁４９と、水蒸気供給管路３４に介設される開閉弁３６と、オゾンガス生成手段４１のスイッチ４８及び開閉弁４９を、制御手段であるＣＰＵ１００によって制御可能に形成する。 - 特許庁

The toner for an electrostatic charge image developer comprises at least a colorant and a binder resin and is manufactured by an O/W wet granulation method.例文帳に追加

少なくとも着色剤、結着樹脂を有し、Ｏ／Ｗ型湿式造粒方式で製造されるトナーにおいて、前記結着樹脂は少なくとも３種類のポリエステル樹脂を含有し、そのうち１種類のポリエステル樹脂が架橋樹脂であり、２種類のポリエステル樹脂が分子量、酸価の異なる非架橋樹脂Ａ，Ｂから構成され、非架橋樹脂Ａのピーク分子量ＭｐＡ、酸価ＡｖＡ、非架橋樹脂Ｂのピーク分子量ＭｐＢ、酸価ＡｖＢが以下の関係を示すことを特徴とする静電荷現像剤用トナー。 - 特許庁

δ=0, and w=3 are satisfied as standard values, but these values may be shifted from reference values within a range in which the perovskite oxide can take a perovskite structure.例文帳に追加

（Ｐｂ_１−ｘ＋δＡ_ｘ）（Ｚｒ_ｙＴｉ_１−ｙ）_１−ｚＭ_ｚＯ_ｗ・・・（Ｐ）（式中、Ｐｂ及びＡはＡサイト元素であり、ＡはＰｂ以外の少なくとも１種の元素である。Ｚｒ，Ｔｉ及びＭはＢサイト元素であり、ＭはＮｂ，Ｔａ，Ｖ，Ｓｂ，Ｍｏ及びＷからなる群より選ばれた少なくとも１種の元素である。０．０１＜ｘ≦０．４、０＜ｙ≦０．７、０．１≦ｚ≦０．４。δ＝０及びｗ＝３が標準であるが、これらの値はペロブスカイト構造を取り得る範囲内で基準値からずれてもよい。） - 特許庁

The antenna device 10 includes an antenna conductor 12 of a predetermined shape, a dielectric substrate 14 in which the antenna conductor 12 is formed on one surface with its dielectric constant being changed to satisfy predetermined resonance conditions including a length W of one side of the antenna conductor 12 and a frequency of a signal supplied to the antenna conductor 12, and a grounding conductor 16 formed on the other surface of the dielectric substrate 14.例文帳に追加

アンテナ装置１０は、予め定めた形状のアンテナ用導体１２と、一方の面にアンテナ用導体１２が形成され、アンテナ用導体１２の一辺の長さＷ及びアンテナ用導体１２に供給される信号の周波数を含む予め定めた共振条件を満たすように誘電率が変化する誘電体基板１４と、誘電体基板１４の他方の面に形成された接地用導体１６と、を備える。 - 特許庁

This exoergic die-bonding film for sticking and fixing a semiconductor element on a sticking object includes at least: a thermoplastic resin; a thermosetting resin; and a thermally-conductive filler having a heat conductivity ≥12 W/m K, wherein the content of the thermally-conductive filler is 50-120 wt.% with respect to the total of an organic resin constituent and the thermally-conductive filler.例文帳に追加

本発明に係る放熱性ダイボンドフィルムは、半導体素子を被着体上に接着して固定させる放熱性ダイボンドフィルムであって、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、及び熱伝導率が１２Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導性フィラーを少なくとも含み、前記熱伝導性フィラーの含有量は有機樹脂成分と熱伝導性フィラーの合計に対し５０重量％〜１２０重量％の範囲内であることを特徴とする。 - 特許庁

The vapor phase deposition apparatus 10 includes a reactor 11, a barrel type susceptor 12 arranged inside the reactor, and a tray 13 arranged on the surface of the susceptor to mount a wafer W, wherein the tray 13 rotates by a rotary shaft which is different from that of the barrel type susceptor 12, the barrel type susceptor 12 rotates by an electric motor 14 for revolution, and the tray 13 rotates by an electric motor 15 for rotation.例文帳に追加

リアクタ１１と、該リアクタの内部に配置されたバレル型サセプタ１２と、ウエーハＷを装着するために該サセプタの表面に配置されたトレイ１３とを備えた気相成長装置１０において、前記トレイ１３は前記バレル型サセプタ１２とは異なる回転軸で回転するものであり、かつ前記バレル型サセプタ１２は公転用電動モータ１４によって回転し、前記トレイ１３は自転用電動モータ１５によって回転する。 - 特許庁

A difference sinogram WsM is generated for each high density features image 704 by subtracting a sinogram M of the high density features image 704 from a sinogram W of the original image 702 (step 308), a final sinogram WsMaP is generated by adding a sinogram P generated according to the compensation image to the difference sinogram WsM (step 310), and the corrected reconstructed CT image is formed according to the final sinogram WsMaP (step 312).例文帳に追加

個々の高密度部分像７０４について、その高密度部分像７０４についてのサイノグラムＭを元々の像７０２についてのサイノグラムＷから減ずることで差分サイノグラムＷｓＭを生成し（３０８）、補償像に従い生成されたサイノグラムＰをそのサイノグラムＷｓＭに加えることで最終的なサイノグラムＷｓＭａＰを生成し（３１０）、そのサイノグラムＷｓＭａＰに従い補正版の再構成ＣＴ像を生成する（３１２）。 - 特許庁

The preferable polymer having the polyacrylic acid amide skeleton is a thickener comprising a microgel obtained by dissolving dimethylacrylamide and 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid or a salt thereof in a dispersion phase under a condition of the composition containing a surfactant and forming a single phase microemulsion or a fine W/O emulsion, and carrying out a radical polymerization in the dispersion phase.例文帳に追加

好ましい前記ポリアクリル酸アミド骨格を有する重合体は、有機溶媒若しくは油分を分散媒とし水を分散相とする組成物において、前記組成物が界面活性剤を含有し一相マイクロエマルションあるいは微細Ｗ／Ｏエマルションを形成する条件下において、ジメチルアクリルアミドと2-アクリルアミド2-メチルプロパンスルホン酸又はその塩とを分散相に溶解し分散相中にてラジカル重合して得られるミクロゲルからなる増粘剤。 - 特許庁

This production method comprises (a) charging, in a vessel, a first reactant including one or more selected from the group consisting of sodium borohydride and potassium borohydride, a second reactant including lithium chloride and a solvent capable of dissolving lithium borohydride, and (b) mixing the content of the vessel while applying the electric power per unit volume of at least 500 W/m^3 thereto without using attrition media.例文帳に追加

（ａ）容器中に、水素化ホウ素ナトリウムおよび水素化ホウ素カリウムからなるもののうちの１またはそれ以上を含む第一の反応物質、塩化リチウムを含む第二の反応物質、および水素化ホウ素リチウムを溶解させることができる溶剤を入れ；（ｂ）前記容器の内容物を混合することを含み、前記混合により少なくとも５００ワット／ｍ^３の単位体積あたりの電力が前記容器の内容物に付与され、アトリションメディアを使用せずに行われる水素化ホウ素リチウムの製造法。 - 特許庁