「あらいさわ」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

重ね合わせ精度測定器３は、露光装置１１〜１３各号機が実際にウェハ上に複数のチップ領域についてショットを実施した時に、アライメントマーク（アライメント計測マーク）を計測、評価する。例文帳に追加

When each aligner 11-13 executes shot in plural chip regions on a wafer, an alignment accuracy measuring instrument 3 measures and evaluates an alignment mark (alignment measurement mark). - 特許庁

そして、これらのアライメントマーク３ａ，３ｂと、相補分割マスク４に配されたアライメントマーク５ａ，５ｂとを、それぞれ光学的に検出して、ウエハ１と相補分割マスク４との相対的な位置合わせを行うようにする。例文帳に追加

In addition, the wafer 1 is aligned relatively to the mask 4 by optically detecting the alignment marks 3a and 3b and alignment marks 5a and 5b put on the mask 4. - 特許庁

アライメント顕微鏡４がワークステージ３の内部に挿入され、アライメント顕微鏡４により貫通孔３ｂを介してワークマークＷＡＭを検出する。例文帳に追加

The alignment microscope 4 is inserted into the inside of the work stage 3 so that the work-piece mark WAM may be detected by the alignment microscope 4 via the through tube 3b. - 特許庁

このため，アライメント光学系によって発生するアライメントマークの検出位置ずれが補正され，位置合わせ精度を向上させることが可能である。例文帳に追加

Thus, deviation in the detection position of alignment mark generated by an alignment optical system can be corrected, and the positioning accuracy can be improved. - 特許庁

制御部５は、給水温度が高温側のとき、相対的に逆洗水量を増加させる一方で、給水温度が低温側のとき、相対的に逆洗水量を減少させる。例文帳に追加

The controller 5 relatively increases the backwashing water amount when a feed water temperature is high and relatively decreases the backwashing amount when the feed water temperature is low. - 特許庁

「洗剤無しコース」の設定時には水道水が注水ケースを通さずに洗濯槽４内に注入され、洗い工程が「標準コース」に比べて長い洗い時間および強い水流で行われる。例文帳に追加

In the setting of the 'course without detergent', the city water is injected into a washing tub 4 without passing through an injection case and as compared with the 'standard course', the washing process is accomplished for a longer time and by a stronger water flow. - 特許庁

２つに分割された洗い場同士でも、又、分割された洗い場側と浴槽側でも、水の漏れないように接合することのできるユニットバス床接合構造を提供する。例文帳に追加

To provide a connecting structure for the floor of a unit bath, which can join two divided wash places, or join a wash place and a bathtub which are separately produced, to each other, so that there is no water leakage. - 特許庁

マスクの描画装置の誤差により，マスク上のアライメントマークとデバイス領域に相対的な位置誤差があり，露光時のアライメントに問題が無くとも，デバイス領域での重ねあわせ誤差が発生する。例文帳に追加

To make it possible to obtain an overlapping precision in a device region even when a relative position error exists between an alignment mark on a mask and the device region. - 特許庁

ガラス板に対する他のガラス板の位置合わせ精度を向上させることができるアライメントマークの形成法、及び該形成法により形成されたアライメントマークを提供することにある。例文帳に追加

To provide a method of forming an alignment mark, by which the precision of positioning of a glass plate to another glass plate is improved, and to provide the alignment mark formed by the method. - 特許庁

アライメント機構２００は、ステージ７６の搬入領域Ｍ_1に搬入された基板Ｇの四隅に複数本たとえば８本のアライメントピン２０２Ａ〜２０８Ｂを当接させて基板Ｇの位置合わせを行う。例文帳に追加

An alignment mechanism 200 carries out positioning of a substrate G transferred to a transportation region M_1 of a stage 76 by bringing a plurality of, for instance, eight, alignment pints 202A to 208B into contact with four corners of the substrate G. - 特許庁

側構体４の平坦面は、円柱形の回転ブラシ４０でヘアライン加工され、湾曲面１０は外周面が凹形状の回転ブラシ１００でヘアライン加工される。例文帳に追加

Hairline machining is performed to the flat surface of the side structure 4 by a cylindrical rotary brush 40, and hairline machining is performed to the curved surface 10 by a rotary brush 100 having a peripheral surface formed into a recessed shape. - 特許庁

そして、凹形状の第二のアライメントマーク５１の内部に対して凸形状の第一のアライメントマーク４８の頂点近傍を侵入させ、第一の基板４１と第二の基板４３とを重ね合わせる。例文帳に追加

The part in the vicinity of the top of the first protruding alignment mark 48 intrudes into the second recessed alignment mark 51, and the first and the second substrates 41, 43 are overlapped. - 特許庁

コイル巻きされた厚板鋼板を、端部間の溶接を行うことなく通板しながら酸洗を行う酸洗槽１の入側と出側の一方または双方に、フリーループ５を設ける。例文帳に追加

Free loops 5 are provided on either or both of the inlet side and the outlet side in a pickling tank 1 where each coiled thick steel plate is pickled while the plate is passed through without performing welding to the space between the edge parts. - 特許庁

裏側支持層に溝状に凹設されるティアラインを表側意匠層まで確実に到達させ得るようにする。例文帳に追加

To make a tear line recessed in a groove shape on a back side supporting layer certainly reach a front side designing layer. - 特許庁

さらに、加熱洗い後のすすぎにおいても、すすぎ水が蒸気によって加熱され、低温設定の４０℃ですすぎが行なわれる。例文帳に追加

In rinsing after the heat washing, rinse water is heated by the steam and rinsing is performed at 40°C to be set to low temperature. - 特許庁

また、ＲＯ膜モジュール５の１次側とＭＦ膜モジュール３Ａ，３Ｂの２次側とは逆洗ライン２９によって連絡されている。例文帳に追加

Then, the primary side of RO membrane module 5 and the secondary side of the MF membrane modules 3A, 3B are communicated by a backwashing line 29. - 特許庁

パラメータ修正後の重ね合わせ誤差を算出することで、他のアライメント処理条件の最適化も同時に行える。例文帳に追加

The overlapping error after parameter modification is thus calculated to optimize other alignment processing conditions at the same time. - 特許庁

めいめいの通信デバイス宛のグループのそれぞれのデータ・パケットは、それぞれ、タイム・アラインされ、直交して組み合わされる。例文帳に追加

The data packets in each of the groups intended for the respective communications devices are time-aligned and orthogonally combined. - 特許庁

第２送風路２３２は、第２ハンガーパイプ３２の架設位置を通して、洗い場として使用される床面１２へ空気流を向かわせる。例文帳に追加

The second air blowing passage 232 directs the air flow to a floor surface 12 used as a washroom through an installation position of a second hanger pipe 32. - 特許庁

めいめいの通信デバイス宛のグループのそれぞれのデータ・パケットは、それぞれ、タイム・アラインされ、直交して組み合わされる。例文帳に追加

The data packets in each of the groups intended for the respective communications devices are respectively time aligned and orthogonally combined. - 特許庁

ウエーハ上のアライメントマーク２９の高さに合わせて、カメラ８のフォーカス高さをＺ２軸ステージ９により調整する。例文帳に追加

In accordance with the height of an alignment mark 29 on a wafer, the focus height of a camera 8 is adjusted by a Z2-axis stage 9. - 特許庁

次に、洗濯槽２内の水位が第１洗い水位３６Ｌまで上げられ、その後、水位が段階的に上げられつつ、洗濯槽２内に相対的に弱い第１洗い水流が形成されるとともに、循環水拡散部材６４から洗濯槽２内の洗濯物に洗濯水が降り注がれることによる洗いが行われる（第１洗い行程）。例文帳に追加

Next, the water level in the wash tub 2 is raised to the first washing water level 36L and then the first washing water flow being weak relatively is formed in the tub 2 as the water level is raised in stages, while the washing water is poured onto the washing in the tub 2 from the diffusing member 64 and thereby wash is executed (the first washing process). - 特許庁

第２の逆洗工程は、第１の流量より小さい第２の逆洗速度Ｓ２で所定時間ｔ２行われる第１の段階と、第２の流量より小さい第３の流量Ｓ３で所定時間ｔ３行われる第２の段階とから構成される。例文帳に追加

The second backward washing stage consists of a first step which is performed at a second backward washing rate S2 smaller than the first flow rate S1 for a second predetermined time t2 and a second step which is performed at a third flow rate S3 smaller than the second flow rate S2 for a third predetermined time t3. - 特許庁

次にフォトマスク４をプリント基板６上に設定し、マスクアライメントマーク５を撮像して、記憶したプリント基板アライメントマーク７の位置と比較し、その位置ずれが０に成るようにプラテン８を移動させてマスクアライメントマーク５とプリント基板６の位置合わせを行う。例文帳に追加

Subsequently, the photomask 4 is set on the printed substrate 6, a mask alignment mark 5 is photographed and is compared with the stored position of the alignment mark 7 of printed board, a platen 8 is moved so as to make the deviation of the position zero and the positioning between the mask alignment mark 5 and the printed board 6 is performed. - 特許庁

前記トレイは、前記チャックピンのＸＹＺθ方向への移動を許容する３以上のピン穴と、前記ウエハの位置決め用のアライメントマークと、前記トレイ自体を位置合わせするアライメント部とを備えた。例文帳に追加

The tray includes three or more pin holes for allowing movement of the chuck pin in the XYZθ directions, an alignment mark for positioning the wafer, and an alignment unit for positioning the tray itself. - 特許庁

浴槽２と隣接する洗い場７の一側に段差のない出入口９を設け、この出入口９の下枠１５ａまたはその近傍の洗い場側に集水部１８を設ける。例文帳に追加

An access 9 with no level difference is provided at one side of a washing area 7 adjacent the bathtub 2 and a water gathering area 18 is provided on the side of the washing area at or near the lower frame 15a of the access 9. - 特許庁

Ｓ_2 で重ねあわせ測定器を使ってターゲット層Ｘ_n （１≦ｎ≦Ｍ）及びアライメント層Ｙ_n のアライメント・マークの位置を測定して測定データＡ_n とする。例文帳に追加

In step S_2, the positions of alignment marks of a target layer X_n (1≤n≤M) and an alignment layer Y_n are measured, by using the superposition measuring instrument to obtain measured data A_n. - 特許庁

そして、仮接合ステーション３に設置されたアライメント装置１２の下側の吸着板には、アライメントマークを認識するカメラと、位置決めされたシートを仮接合させるための電熱コテとが内蔵されている。例文帳に追加

A camera for recognizing alignment marks and a heating iron for temporarily bonding a positioned sheet are built in a suction plate below an alignment device 12 installed in the temporary bonding station 3. - 特許庁

シフト機構３８は、撮影画像に基づいて、ガラス基板２１に施されたアライメントマークと、フイルム１５ａに施されたアライメントマークとの位置が一致するように、保持枠３７を移動させる。例文帳に追加

A shift mechanism 38 moves, based on the photographed image, a holding frame 37 so that an alignment mark applied to the film 15a matches with the position of the alignment mark applied to the glass substrate 21. - 特許庁

好ましくは、浴槽１１の足側に、浴槽１１側と洗い場１２側とに首振り可能なカラン１３を配設する。例文帳に追加

Preferably a faucet 13 swingable between the sides of the bathtub 11 and the wash place 12 is provided at the foot side of the bathtub 11. - 特許庁

アライメント光ＬＡ，ＬＢを色収差補正系１５ａ〜１５ｄ，１６及び投影光学系を介してウエハ９上のアライメントマークＷＭＹに照射し、アライメントマークＷＭＹから発生する±１次回折光ＬＡ（１），ＬＢ（−１）を検出し、アライメントマークＷＭＹのＹ方向の位置を検出する。例文帳に追加

The position of the alignment mark WMY formed on the wafer 9 in the Y-direction is detected by projecting alignment light rays LA and LB upon the mark WMY through chromatic aberration correcting systems 15a-15d and 16 and the projection optical system and detecting the ±1st order diffracted light rays LA(1) and LB(-1) generated from the mark WMY. - 特許庁

少なくとも浴槽１，エプロン２，洗い場パン３の主要３部品に分割された洗い場付き浴槽において、エプロン２は、止水部分Ｃより浴槽１側で、ボルト５，ナット７等の機械的固定手段により洗い場パン３に水密状に連結される。例文帳に追加

In a bathtub with washing place, which is divided into at least three main components, a bathtub 1, an apron 2 and a washing place pan 3, the apron 2 is water-tightly connected to the washing place pan 3 with mechanical fixing means of bolts 5, nuts 7 or the like on the bathtub 1 side from a water proof part C. - 特許庁

11月になると、1日から晦日（みそか。月末）までは散斎（あらいみ。簡略な物忌。）、祭儀の行われる卯の日の前の丑（うし）の日から3日間は致斎（まいみ。厳重な物忌。）とされ、穢れに触れることを戒めた。例文帳に追加

In November, from the first day to the Misoka (last day of month) was Araimi (capsule Monoimi, 'avoiding something regarding as ominous'); the three days from Ushi no hi (the day of ox), right before the U no hi on which the festival was held, were Maimi (strict Monoimi) and associating with impurities was admonished during the period.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

ＴＦＴ基板検査装置及びＴＦＴ基板のアライメントにおいて、アライメントマークが任意の位置に設定されたＴＦＴ基板に対して位置合わせを行うこと。例文帳に追加

To position a TFT substrate on which alignment marks are set on optional positions as to a TFT substrate inspection apparatus and the alignment of the TFT substrate. - 特許庁

その際、同時に透明電極材料によるアライメントマーカー４３を基板上に形成し、そのアライメントマーカー４３をパネル組み立てにおける位置合わせに用いる。例文帳に追加

At this time, at the same time, the alignment marker 43 is formed on the substrate using the material of the transparent electrode and the alignment marker 43 is used for the alignment of position in panel assembling. - 特許庁

化学的機械研磨を利用した半導体装置のアライメントマーク形成プロセスにおいて、エロージョンを低減し、アライメントマークの重ね合わせ精度を向上させる。例文帳に追加

To reduce erosion and improve an overlay accuracy of an alignment mark in an alignment mark formation process of a semiconductor device using chemical machine polishing. - 特許庁

第２の配線層を有する第２の基板を、第１の配線層を有する第１の基板へ実装する際、透明性を有する第１のアライメントマークと、第２のアライメントマークとを利用して位置合わせがなされる。例文帳に追加

When mounting the second substrate having the second wiring layer on the first substrate having the first wiring layer, they are aligned by utilizing the first alignment mark exhibiting transparency and the second alignment mark. - 特許庁

意匠面部２５の外周縁部よりも内側から背面側に突出する乗員の目に付かない壁部３９に副ティアライン４３を設けることで、意匠面部２５に設けるティアラインを最小限にする。例文帳に追加

The tier line provided on the designed surface part 25 is minimized by providing the auxiliary tier line 43 on the wall part 39 projected to the back side from the inside more than the outer peripheral edge part of the designed surface part 25 and invisible to the eyes of an occupant. - 特許庁

浴室出入口の下枠部内に侵入した水を洗い場に直接排水でき、しかも下枠部と洗い場との間の段差による、浴室出入の不便さを解消できるようにする。例文帳に追加

To directly discharge water entering into a lower frame in a bath room doorway to a washing area, and avoid the inconvenience of access to a bath room due to a level difference between the lower frame and the washing area. - 特許庁

アライメントマークを位置あわせに用いた後、痕跡を残さずに基板表面から容易に除去することができるアライメントマークの作製方法を提供する。例文帳に追加

To provide a preparing method of such an alignment mark that can be easily removed from the surface of a substrate without leaving traces after using the alignment mark for alignment. - 特許庁

各チップパターン２１のエッジ部にメタルパターン３０を形成した後のアライメントには、Ｙ方向のスクライブライン２９Ｙとの交差部に形成する微調アライメントターゲット３１を使用する。例文帳に追加

The fine adjustment alignment target 31 formed at a cross part with the scribe line 29Y in the Y-direction is used for alignment, after a metal pattern 30 is formed at the edge part of each chip pattern 21. - 特許庁

泡立ち、泡質が良く、洗い流し時のぬるぬるした感触を抑え、かつ、目にしみることなく、つっぱり感がなく、さっぱりした洗い上がりの、使用感に優れた液体皮膚洗浄料を提供する。例文帳に追加

To provide a liquid skin cleanser good in foamability and foam quality, suppressed in slimy touch feeling when rinsed, causing no eye irritation, free from tense feeling, yielding refreshing washing finish, good in feeling in use. - 特許庁

逆洗ノズル３９は、バグフィルタ５の外側から内側へ向けて空気を噴出することで、バグフィルタ５に付着する粉粒体を払い落とし、逆洗ノズル昇降装置４０により上下動される。例文帳に追加

The back-washing nozzle 39 ejects air from the outer side of the bag filter 5 to the inner side so that particulates adhering to the bag filter 5 are brushed out, and is made to move up and down by the back-washing elevator 40. - 特許庁

位置合わせ操作では、ＣＣＤカメラ装置により、アライメント用貫通孔１を介してアライメント用パターン２を確認することにより、これら貫通孔１とパターン２とを合致させる。例文帳に追加

In the alignment operation, the through-holes 1 are aligned with the alignment pattern 2 by confirming the pattern 2 through the through-holes 1 using a CCD camera. - 特許庁

エプロン（３）の少なくとも立上り部と洗い場（２）とが一体に形成され、洗い場（２）側の浴槽（１）の上縁部には下方へ折り返された被り部（１３）が形成される。例文帳に追加

At least the built up part of the apron 3 and the wash place 2 are formed together, and an upper edge of the bathtub 1 near the wash place 2 is formed with a covering part 13 which bends back down. - 特許庁