「あらいさわ」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

洗い場側の壁パネル１の前面部に一側端部が浴槽２のエプロン３に当接された洗面器置き台４を形成する。例文帳に追加

A washbowl placing base 4 one side end of which is butted to the apron 3 of a bathtub 2 is formed on the front part of a washing place- side wall panel 1. - 特許庁

このアライメントステージ装置は，一次側の電機子コイル３と二次側の界磁マグネット４から成るリニアモータが内蔵されている。例文帳に追加

The alignment stage device contains a linear motor comprising primary-side armature coils 3 and secondary-side field system magnets 4. - 特許庁

洗いやすすぎの終わりに行うほぐし動作の効果を確実に発揮させ、その後の脱水をスムーズに行えるようにした洗濯機を提供する。例文帳に追加

To provide a washing machine which can exhibit certainly the effects of disentanglement actions conducted in the end of washing and rinsing and can perform smoothly dewatering after these actions. - 特許庁

検者は、モニタに映し出された指標像とアライメントマークとを見ながら、被検眼と被検眼検査部との位置合わせを行う。例文帳に追加

An examiner aligns an eye to be examined with an eye-to-be examined examination section while watching an index image and an alignment mark projected on a monitor. - 特許庁

基板検査装置１は、基板３を所定検査位置に位置合わせする基板位置アライメント機構２を備える。例文帳に追加

The substrate examining device 1 comprises a substrate position alignment mechanism 2 for aligning the substrate 3 to a specific examination position. - 特許庁

ついで、マスクＭとワークＷを離間し、第１のアライメント量に基づいてマスクＭとワークＷの位置合わせを行い、マスクＭとワークＷを接触させて、マスクマークＭＡＭとワークマークＷＡＭの位置を検出し第２のアライメント量を求める。例文帳に追加

Then, the mask M and the work W are separated, the mask M and the work W are positioned on the basis of the first alignment amount, the mask M and the work W are brought into contact, the positions of a mask mark MAM and a work mark WAM are detected and a second alignment amount is obtained. - 特許庁

浴槽５の片側に設けた洗い場の床面６及び浴槽５に載置される支持枠１、及びこの支持枠１に洗い場の上方と浴槽５との上方とにわたって往復可能に、かつ、昇降可能に支持される座席４を備える。例文帳に追加

The apparatus includes a support frame 1 to be placed on the floor surface 6 of a washing place arranged at one side of the bathtub 5, and the bathtub 5, and a seat 4 to be supported by the support frame 1 so as to be reciprocated and elevated/lowered over the upper parts of the washing place and the bathtub 5. - 特許庁

柄の摺洗部側半体２と他端側半体３との枢軸が柄の軸線の外側に設けられ、二つ折り状態において柄の摺洗部側半体２と他端側半体３とが略々平行状に位置するものとなされている。例文帳に追加

A pivot for a scrubbing part half body 2 and the other end side half body 3 of the handle is provided outside the axis of the handle, and the scrubbing part side half body 2 and the other end side half body 3 of the handle, in the twofold state, are positioned approximately in parallel to each other. - 特許庁

次に、ブラック層８ａのうち、基板側アライメントマーク６に対応する部分にレーザ光が照射されて薄肉部９が形成され、この薄肉部９を介して外方へ現れる基板側アライメントマーク６を用いて、ブラック用マスク２１の位置決めが行なわれる。例文帳に追加

A portion corresponding to the substrate side alignment mark 6 of the black layer 8a is then irradiated with a laser beam to form a thin part 9 and positioning of the mask 21 for black is performed by using the substrate side alignment mark 6 appearing in an external side via the thin part 9. - 特許庁

また、被検眼Ｅがノズル３１の先端に接近して観察範囲が覆われて撮像受光面が全体に暗くなると眼圧測定部１は後方へ退避し、再び被検眼Ｅの瞳孔部やアライメント輝点が検出されると、オートアライメントが継続されて眼圧測定が行われる。例文帳に追加

As eyes to be examined approach the tip of a nozzle 31 to make an imaging detecting surface dark as a whole covering an observation range, the tonometry part 1 is retreated backward and when a pupil part and an alignment calescence point of the eyes E to be examined are detected again, an automatic alignment is continued to accomplish a tonometry. - 特許庁

ガイドピン７０の一端側が、下記の電気配線基板（Ａ）のアライメント用開口３２に嵌入され、上記ガイドピン７０の他端側が、下記の光配線基板（Ｂ）のアライメント用開口４２に嵌入されて、両者の位置合わせがなされている。例文帳に追加

Guide pins 70 have one end portions fitted in alignment openings 32 of an electrical wiring board (A) and the other end portions fitted in alignment openings 42 of an optical wiring board (B) to accomplish alignment therebetween. - 特許庁

半導体装置と同じ基板に形成されたディープトレンチからなるマスクアライメントの合わせマーク部を、ディープトレンチ内に埋め込まれた多結晶シリコンを最適な深さに形成することにより、アライメント時の信号強度をあげ、マスク位置あわせの精度を向上させる。例文帳に追加

To form a mask alignment mark part comprising a deep trench formed on the same substrate as that of a semiconductor device by forming a polycrystal silicon embedded in a deep trench in an optimal depth, in order to increase a signal strength at the time of the alignment and to improve an accuracy of the mask alignment. - 特許庁

ＸＹ方向およびＺ方向について装置本体（装置光学系）を被検眼Ｅの角膜Ｃの所定基準位置（アライメント原点）に自動的にアライメントする機能を有する眼科装置では、アライメント位置がアライメント原点に一致するように装置本体を移動させながら自動アライメント調整を行う。例文帳に追加

This ophthalmological apparatus has a function which carries out automatic alignment of the apparatus body (apparatus optical system) to a predetermined reference position (alignment origin) of the cornea C of the examined eyes E for the XY direction and Z direction, and automatic alignment control is performed with moving the apparatus body so that an alignment position may be in agreement with the alignment origin. - 特許庁

ブレード１６間に巻回されたコイル３０が挿入され、ブレードの先端にはアライメントツール７が嵌挿される。例文帳に追加

A wound coil 30 is inserted between the blades 16, and an alignment tool 7 is inserted to leading ends of the blades. - 特許庁

ステンレス熱延鋼材を酸洗液により酸洗するにあたり、該酸洗液は、Feイオン、Crイオン、Niイオンの少なくとも一つ以上を含み、Fe、Cr、Niの各イオンの総和量が50〜200g/Lであり、さらに、塩化ニッケルおよび10〜100g/Lの塩化ナトリウムを含む塩酸溶液である。例文帳に追加

When a stainless hot rolled steel material is pickled with a pickling solution, the pickling solution is a hydrochloric acid solution comprising at least one or more selected from Fe ions, Cr ions and Ni ions in such a manner that the total content of the respective ions of Fe, Cr and Ni is 50 to 200 g/L, and further comprising nickel chloride and sodium chloride of 10 to 100 g/L. - 特許庁

彼は答えた，「イエスと呼ばれる人が泥を作り，わたしの両目に塗って，わたしに『シロアムの池に行って洗いなさい』と言われました。それでわたしが行って洗うと，見えるようになったのです」。例文帳に追加

He answered, “A man called Jesus made mud, anointed my eyes, and said to me, ‘Go to the pool of Siloam, and wash.’ So I went away and washed, and I received sight.”  - 電網聖書『ヨハネによる福音書 9:11』

計画された逆洗工程の間に差圧が上昇した際に逆洗を行うことなく差圧を低下させることができる上向流濾過装置及び濾過方法を提供する。例文帳に追加

To provide an upward flow filtration apparatus and filtration method by which pressure difference increased between planed back washing processes is decreased without carrying out the back washing. - 特許庁

この電解洗い行程において、使用者によって誤って洗剤が投入され、洗濯物に洗剤分が多く残ったまま電解洗いが行われ、洗い水の洗剤濃度が高くなるなどの原因により、通電電流値が非常に大きくなった場合には、通電電流が上限電流値を超えるため、電解洗いの途中で電解装置の動作が中止される。例文帳に追加

In the electrolytic washing process, when an energizing current value becomes extremely large due to the erroneous feed of a detergent by a user, electrolytic washing performed with a lot of the detergent remaining on laundry and the increase of the detergent concentration of washing water, etc., since an energizing current exceeds an upper limit current value, the operation of an electrolytic device is stopped in the middle of the electrolytic washing. - 特許庁

この電解洗い行程において、使用者によって誤って洗剤が投入され、洗濯物に洗剤分が多く残ったまま電解洗いが行われ、洗い水の洗剤濃度が高くなるなどの原因により、通電電流値が非常に大きくなった場合には、通電電流が上限電流値を超えるため、電解洗いの途中で電解装置の動作が中止される。例文帳に追加

Because of the extreme increase of the current value when the electrolytic cleaning is performed with a large amount of a detergent remaining in the laundry caused by the accidental input of the detergent and the resultant increase of detergent concentration in washing water during the electrolytic washing cycle or the like, the operation of the electrolysis device is stopped halfway through the electrolytic washing because the power supply current exceeds the upper limit current value. - 特許庁

この電解洗い行程において、使用者によって誤って洗剤が投入され、洗濯物に洗剤分が多く残ったまま電解洗いが行われ、洗い水の電解濃度が高くなるなどの原因により、通電電流値が非常に大きくなった場合には、通電電流が上限電流値を超えるため、電解洗いの途中で電解装置の動作が中止される。例文帳に追加

If current carried extremely increases due to the inletting of a detergent by mistake by a user, execution of electrolytic washing with the detergent content left on washing and increase in the electrolytic concentration of washing water in an electrolytic washing process, since the value of current carried exceeds an upper limit value of current, an electrolytic device is stopped during electrolytic washing. - 特許庁

また、組み立て用のアライメントマーク３８Ａ、３８Ｂ、３８Ｃ、３８Ｄを基準にアクティブマトリクス基板３０と対向基板とを貼り合わせた後は、組み立て用のアライメントマーク３８Ａ、３８Ｂ、３８Ｃ、３８Ｄあるいは偏光板位置決め用のアライメントマークを基準に偏光板を貼り合わせる。例文帳に追加

After the active matrix substrate 30 and a counter substrate are bonded to each other on the basis of the alignment marks 38A, 38B, 38C and 38D for assembly, the polarizing plate is bonded on the basis of the alignment marks 38A, 38B, 38C and 38D for assembly or the alignment marks for positioning the polarizing plate. - 特許庁

また、組み立て用のアライメントマーク３８Ａ、３８Ｂ、３８Ｃ、３８Ｄを基準にアクティブマトリクス基板３０と対向基板とを貼り合わせた後は、組み立て用のアライメントマーク３８Ａ、３８Ｂ、３８Ｃ、３８Ｄあるいは偏光板位置決め用のアライメントマークを基準に偏光板１１を貼り合わせる。例文帳に追加

After an active matrix substrate 30 and a counter substrate are bonded to each other on the basis of alignment marks 38A, 38B, 38C and 38D for assembly, the polarizing plate 11 is bonded on the basis of the alignment marks 38A, 38B, 38C and 38D for assembly or the alignment marks for positioning the polarizing plate. - 特許庁

（ｂ）１つのアライメントマークを検出し、その検出された位置に基づき、当該アライメントマークに対応する被入射位置とレーザ光軸との位置合わせ情報を得る。例文帳に追加

(b) One alignment mark is detected, and on the basis of such detected position, alignment information is obtained for the incident position and the laser optical axis corresponding to the alignment mark. - 特許庁

酸洗鋼帯の水洗浄処理工程で、処理の低速運転時またはその後の運転停止時に、酸洗鋼帯に発生する変色を、わずかな変色防止剤を使用して確実に防止する。例文帳に追加

To securely prevent discoloration in a pickled steel strip generated during the low speed operation in a water purification treatment stage therefor or at the stop of the operation after that using a trace amount of discoloration inhibitors. - 特許庁

ウェハのエッジを把持しセンタリングとノッチ等の角度合わせを行うアライナー装置において、ウェハ外径のばらつきがあっても確実にウェハを把持し、パーティクルを発生させることなくアライメントができるようにする。例文帳に追加

To grip a wafer reliably regardless of variations in the outer diameter of the wafer for alignment without generating any particles in an aligner for performing centering and aligning the angle of a notch, or the like while gripping the edge of the wafer. - 特許庁

アライメント顕微鏡を光軸方向に移動させることなく、焦点深度範囲外にある２つのアライメントマークを検出しマスクとワークの位置合せをすること。例文帳に追加

To perform position alignment of a mask and a work piece by detecting two alignment marks located outside the depth of focus range without moving an alignment microscope in an optical axis direction. - 特許庁

主付勢路５ａ〜５ｃは、いずれも副コンベアライン８６側に向かってベルト３７を走行し、補助付勢路５ｄのベルト３７は、逆に主コンベアライン側に向かって走行する。例文帳に追加

In each of the main energizing paths 5a-5c, a belt 37 travels toward an auxiliary conveyor line 86, and the belt 37 in the assistant energizing path 5d travels in reverse toward the main conveyor line. - 特許庁

または、−π／２から＋πまで中間位相の画像を複数枚撮像し、位相補完を行なうことにより、アライメントマークの３次元構造を計測し、アライメントマークのトップ／ボトムに対して選択的に位置合わせを行なう。例文帳に追加

A plurality of images of an intermediate phase from -π/2 to +π/2 are picked up, the three-dimensional structure of the alignment mark is measured through phase extrapolation, and a target work is selectively aligned with the top/bottom of the alignment mark. - 特許庁

フード１４は、洗いボール１３の後方で、フード１４が立ち姿勢の第１位置と、洗いボール１３の左側側方に位置する第２位置とに移動できる。例文帳に追加

The hood 14 can be moved to a first position for the erecting attitude in the rear of the washing bowl 13 and a second position located on the left side of the washing bowl 13. - 特許庁

すなわち、クランプ部２が上部にあるウェハアライメント領域１０の直径を、上部にクランプ部２のないウェハアライメント領域１０の直径より小さくする。例文帳に追加

Precisely, the diameter of the wafer alignment area 10 having the clamping sections 2 on the upper part of the same is made smaller than that of the area 10 having no clamping section 2 on the upper part thereof. - 特許庁

そして、一のアライメントマークと略位置合わせされたときに、溶液状の材料の堆積を行い、溶液状の材料のアライメントドットを設ける。例文帳に追加

Then the material in solution is deposited when it is substantially aligned with one of the alignment marks to provide an alignment dot of the material in solution. - 特許庁

斜照明が消灯するタイミングで、基板側アライメントマーク１６のパターンを撮像し、斜照明が点灯するタイミングで、マスク側アライメントマーク１７のパターンを撮像する。例文帳に追加

A pattern of an alignment mark 16 at a substrate side is photographed at timing wherein the slant lighting is turned off, and a pattern of an alignment mark 17 at a mask side is photographed at timing wherein the slant lighting is turned on. - 特許庁

メガネ枠体１２で支持された浴槽１１と、該メガネ枠体１２と洗い場部２の洗い場２１との間を覆うエプロン部４とを有する。例文帳に追加

This bathroom structure has a bathtub 11 which is supported by the eyeglass frame 12, and an apron section 4 which covers a space between the eyeglass frame 12 and the body-washing place 21 of the body-washing section 2. - 特許庁

基板搬送機構２０は、基板搬入側領域ＩＡに設けられ、基板搬入側領域ＩＡで待機される基板Ｗのプリアライメントを行う基板プリアライメント機構５０を備える。例文帳に追加

The substrate transfer mechanism 20 is equipped with a substrate prealignment mechanism 50, which is provided in a substrate carry-in region IA and performs prealignment of the substrate W waiting in the substrate carry-in region IA. - 特許庁

ヘアラインの加工方法は、被加工体を、この被加工体の設計形状にあわせて転回しつつ、走行する研磨帯に接触させ、被加工体の周面の少なくとも一部にヘアラインを形成する。例文帳に追加

In the method of forming the hair lines, the hair lines are formed on at least a part of the peripheral surface of the workpiece by bringing the workpiece into contact with a running polishing belt while turning the workpiece according to the design shape of the workpiece. - 特許庁

表示基板Ｐをアライメントする時の処理辺の撓みや反りなどの姿勢によるアライメント誤差を矯正するために、基板を下から支える基準ベース２０から表示基板を浮上させ、または反り角度を求めて姿勢を矯正し、その後アライメント処理する。例文帳に追加

A display substrate is floated from a reference base 20 supporting a substrate from lower side to correct alignment error due to attitude such as deflection, warpage or the like of a processing side when aligning a display substrate P, or a warpage angle is found to correct the attitude, and then alignment is conducted. - 特許庁

アライメント矯正部材７が端子ホルダ５に対して可撓性の係止手段２８で支持され、アライメント矯正部材が端子ホルダから離間した状態で、端子３がアライメント矯正部材と端子ホルダとで二点支持される。例文帳に追加

The alignment correction member 7 is supported relative to the terminal holder 5 by flexible locking means 28, and the terminals 3 are subjected to two-point supporting by the alignment correction member 7 and the terminal holder 5 in a state that the alignment correction member is spaced from the terminal holder. - 特許庁

このテアラインは、モジュールカバー２２の左右の側端縁に沿って車体前後方向に設けられた第２のテアライン３６と、モジュールカバー２２の中央に車体幅方向に設けられた第１のテアライン３４とで構成されている。例文帳に追加

The tear line comprises a second tear line 36 provided in the longitudinal direction of a vehicle body along right and left side edges of the module cover 22, and a first tear line 34 provided in the width direction of the vehicle body at the center of the module cover 22. - 特許庁

手洗鉢５は裏側からの光を拡散させながら透過させるように半透明の合成樹脂にて構成されている。例文帳に追加

A handwash basin 5 is constituted of a translucent synthetic resin so as to transmit lights from the back while diffusing. - 特許庁

少なくともダイアライザ、該ダイアライザに連結される体外循環回路、該ダイアライザに連結される透析液回路及び該透析液回路に組み込まれた透析機器を含み、さらに、前記ダイアライザの下流側の前記透析液回路内に活性酸素種センサーが付設されてなることを特徴とする透析装置。例文帳に追加

The dialysis apparatus includes at least a dialyzer, an extracorporeal circuit coupled with the dialyzer, a dialysate circuit coupled with the dialyzer, and a dialysis device incorporated in the dialysate circuit and is also provided with a reactive oxygen species sensor in the dialysate circuit on the downstream side of the dialyzer. - 特許庁

この際、層間絶縁膜の初期厚さをアラインメントのために識別可能な最低段差と研磨量との和より大きく形成し、アラインメント用の段差を確保する。例文帳に追加

At the time of polishing the tungsten layer, a level difference for alignment is secured by making the initial thickness of the insulating film larger than the sum of the minimum distinguishable level difference for alignment and stock removal. - 特許庁

浴室の洗い場のカウンター３上面の支持部３０にホース２４と共にシャワーヘッド２２が引き出し自在に支持される浴室洗い場用の引き出しシャワー２０であって、シャワーヘッド２２は、支持部３０によって中間部位の高さに支持される。例文帳に追加

In the drawing shower 20 for a washing space in a bathroom whose shower head 22 is supported with the hose 24 in a drawable manner at a supporting part 30 on the upper surface of the counter 3 of the washing space in the bathroom, the showerhead 22 is supported by the part 30 at the height of an intermediate site. - 特許庁

浴槽１の洗い場２側の外側面１ａを覆うため浴槽１のフランジ１ｂと洗い場２との間に取り付ける浴槽用エプロンであって、上記の洗い場２に面する前面を、左右非対称で且つ上下対称に形成する。例文帳に追加

In this bathtub apron installed between a flange 1b of a bathtub 1 and a washing place 2 for covering a washing place 2 side outside surface 1a of the bathtub 1, a front face faced to the washing place 2 is formed bilaterally asymmetrically and vertically symmetrically. - 特許庁

柔軟なアライメント形状および固定したアライメント形状の多数の局所的な結合にわたって、寸法的および位置的な誤差を平均することにより、弾性平均は、より高価で複雑な運動学的アライメント技法と同じ精度を提供する。例文帳に追加

By averaging dimensional and positional errors over a large number of localized couplings of the flexible and fixed alignment features, elastic averaging provides the same accuracy as the more costly and complex kinematic alignment techniques. - 特許庁

ライセンス購入処理部１９は，組織の各部門ごとのソフトウェアライセンス使用数の合計が全社のソフトウェアライセンス保有数を上回るとき，その差の数をソフトウェアライセンス購入数として購入トランザクションを生成し，関連部門に購入費用を配賦する。例文帳に追加

When the total of the number of use of software licenses of each department of the organization exceeds the number of holding of software licenses of the whole corporation, a license purchase processing part 19 generates purchase transaction by defining the number of the difference as the number of purchase of software licenses, and distributes purchase costs to the related department. - 特許庁