「ぐりふぉせーと」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

成形時のフォームの流動性が良好であり、成形後の脱型性に優れ、圧縮強度が高く、熱伝導率を維持したポリウレタンフォームを与えるポリウレタンフォーム断熱材の製造法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for producing the subject thermal insulation material, favorable in foam fluidity during molding process, excellent in demoldability after the molding process, and capable of giving the polyurethane foam with high compressive strength and thermal conductivity retention. - 特許庁

ソース電極及びドレイン電極を塗布法及びフォトリソグラフ法により形成する。例文帳に追加

This organic thin film transistor has a source electrode and a drain electrode formed by a coating method and a photolithographic method. - 特許庁

又イヤフォンコード９は、前記コード引出し孔５を通りイヤフォンプラグ３に接続構成している。例文帳に追加

An earphone code 9 passes through the code drawing-out hole 5 and is connected to the earphone plug 3. - 特許庁

必要に応じてウレタン系プライマーが施用された基材の表面に塗布して硬化させることによりフォトクロミックコート層を与えるフォトクロミックコーティング剤であって、これら基材表面に対する施用性が良好であり、かつ基材に対する密着性が高く、優れたフォトクロミック特性を有するフォトクロミックコート層を与えるフォトクロミックコーティング剤を提供する。例文帳に追加

To provide a photochromic coating fluid that provides a photochromic coat layer by being applied over a surface of a base material with an urethane-based primer applied thereon when necessary, and cured, the photochromic coating agent providing the photochromic coat layer having excellent use for the surface of the base material, high adhesion to the base material, and superior photochromic characteristics. - 特許庁

これにより、ウォーム１１をウォームホイール１２に押付けた時、ウォーム１１が逃げることができ、ギヤ同士の食込みを防ぐと同時に、無負荷時の作動回転トルクを低減することができる。例文帳に追加

Thus, the worm 11 can escape when the worm 11 is pressed against the worm wheel 12, and biting of gears can be prevented and the rotational torque under a no-load condition can be reduced. - 特許庁

また、ウォーム１１又はウォームホイール１２に負荷が生じた場合、図（ｃ）に示すように、ウォーム１１がリフトアップし、歯面全体で噛合う為、摩耗耐久性の低下も防ぐことが出来る。例文帳に追加

Further, when the worm 11 or the worm wheel 12 is loaded, the worm 11 is lifted up as shown in Fig. (c), and engaged with the entire tooth flank, and thus degradation of the wear durability can also be prevented. - 特許庁

非常に幅の狭いトランジスタ・ゲート素子をフォトリソグラフィにより形成する方法例文帳に追加

FORMING METHOD OF VERY NARROW WIDTH TRANSISTOR GATE ELEMENT BY PHOTOLITHOGRAPHY - 特許庁

より優れた形状及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することを目的とする。例文帳に追加

To form a pattern having more satisfactory shape and focus margin. - 特許庁

「Login」をクリックすると、エラーメッセージを含むログインフォームが再表示されます。例文帳に追加

When you click Login, the login form page redisplays, containing an error message:  - NetBeans

Ｓ２では、自動合焦が無効のときはデマンドからのフォーカス信号によりフォーカス移動レンズ群を駆動する。例文帳に追加

In S2, when autofocus is disabled, a focus movement lens group is driven with a focus signal from the demand. - 特許庁

トラッキングオフセットが発生しても確実にプリフォーマット情報を再生することができる。例文帳に追加

The preformatted information can be recovered without fail, even if the tracking offset occurs. - 特許庁

Mac をご使用の方へ: UML モデリングモジュールは、現在のところ Macintosh OS X プラットフォームをサポートしていません。例文帳に追加

Note to Mac Users: NetBeans UML Modeling is currently not supported on the Macintosh OS X platform.  - NetBeans

UML モデリングモジュールは、現在のところ Mac OS X プラットフォームをサポートしていません。例文帳に追加

UML Modeling is currently not supported on the Macintosh OS X platform.  - NetBeans

フォトセンサの正確な検出動作を妨げることのないフォトセンサのクリーニング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a cleaning equipment of a photosensor which does not prevent accurate sensing operation of the photosensor. - 特許庁

また、フォーカスリング１６に設けられたフォーカスリングロックツマミ９０を一方向に回転させると、そのフォーカスリングロックツマミ９０のネジ部９４に螺合されたフォーカスリング押さえ板８６がフォーカスリング１６の外方向に移動し、カバー７０の縮径部７２の内周面に当接する。例文帳に追加

By also rotating a focus ring lock knob 90 provided in a focus ring 16 in one direction, a focus ring pressing plate 86 screwed on a screw part 94 of the focus ring lock knob 90 moves in an outward direction of the focus ring 16, and abuts on an inner peripheral surface of a reduced diameter part 72 of a cover 70. - 特許庁

フォトリソグラフィによって、フォトレジスト層２０から、膜の一部を覆うレジストパターン３２を形成する。例文帳に追加

A resist pattern 32 covering a part of the film 10 is formed by photolithography from the photoresist layer 20. - 特許庁

また、第１レンズ群Ｇ_11を光軸に沿って移動させることでフォーカシングを行う。例文帳に追加

Further, the first lens group G_11 is moved along the optical axis to perform focusing. - 特許庁

フォーム製造時における泡の安定性に優れ、得られたフォームは反発弾性、機械的強度に優れる軟質ポリウレタンフォーム用のポリイソシアネートを提供する。例文帳に追加

To provide a polyisocyanate for a flexible polyurethane foam, being excellent in foam stability in foam production and giving a foam excellent in impact repulsion and mechanical strengths. - 特許庁

スチームリフォーミングと水素精製装置とを組み合わせて一体化した装置を提供する。例文帳に追加

To provide an integrated device of a steam reformer and a hydrogen purification device. - 特許庁

フォーム強度、難燃性及び断熱特性に優れるペンタン発泡硬質ポリウレタンフォームを製造するためのポリオール組成物及びペンタン発泡硬質ポリウレタンフォームの製造方法を提供することにある。例文帳に追加

To obtain a polyol composition for producing a pentane-foamed rigid polyurethane foam having excellent foam strength, flame retardance and heat insulating properties and to provide a method for producing a pentane-foamed rigid polyurethane foam. - 特許庁

オートフォーカスモードとマニュアルフォーカスモードとの間の迅速かつ確実な切換えを実現すると共に、マニュアルフォーカシング時における操作性の向上を図ったレンズ鏡筒を提供する。例文帳に追加

To obtain a lens barrel by which the changeover of an autofocusing mode and a manual focusing mode is quickly and surely realized and operability of which at a manual focusing time is improved. - 特許庁

軸２と一体化させたポリウレタンフォーム層３を脱型した後、ポリウレタンフォーム層３の外周面に対するクラッシング処理と、ポリウレタンフォーム層３の二次キュア処理との双方を行う。例文帳に追加

After the polyurethane foamed layer 3 integrated with the axis 2 is released from the die, the polyurethane foamed layer 3 is subjected to both of the crashing treatment on the outer surface of the layer and to the secondary curing of the layer. - 特許庁

安定したディフェクト処理を行い良好なトラッキング制御とフォーカス制御を実現する。例文帳に追加

To realize excellent tracking control and focus control by performing stable defect processing. - 特許庁

半導体装置の製造工程におけるフォトリソグラフィでの露光量およびフォーカス等の露光条件の最適化を個別にかつ簡便に行う。例文帳に追加

To individually and simply optimize exposure conditions, such as the exposure amount and focusing in the photolithography performed for the semiconductor manufacturing process. - 特許庁

UML でフォワードエンジニアリング用にテンプレートを使用してコードを生成できるようになりました。例文帳に追加

UML now provides template based code generation for Forward Engineering.  - NetBeans

その後、圧電・電歪膜３０上にフォトレジスト１００を付着させ（Ｄ）、フォトリソグラフィ法を用いて、所定のパターンを有する遮光マスクで前記フォトレジスト１００をマスキングし、露光する。例文帳に追加

Then a photoresist 100 is adhered to the upper surface of the film 30 (D) and exposed to light by photolithography by masking the photoresist 100 with a light shielding mask having a prescribed pattern. - 特許庁

高ドライエッチング耐性ポリマー層を付加したフォトマスクブランクスおよびそれを用いたフォトマスクの製造方法例文帳に追加

PHOTOMASK BLANKS ADDED WITH HIGH DRY ETCHING RESISTANCE POLYMER LAYER AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK USING PHOTOMASK BLANKS - 特許庁

従来のフォトリフラクティブ有機材料よりも応答速度や回折効率が高く、かつ安定性に優れるフォトリフラクティブポリマーを用いたフォトニクスデバイスを提供すること。例文帳に追加

To provide a photonics device using a photorefractive polymer having response speed and a diffraction efficiency higher than that of a conventional photorefractive organic material and excellent stability and to provide the photorefractive polymer used for the photonics device. - 特許庁

使用する Java プラットフォームの指定を求めるダイアログが表示されたら、デフォルトのプラットフォームを選択します。 プロジェクトの構築スクリプトを変更する許可を求めるダイアログが表示されたら、「了解」をクリックします。例文帳に追加

If a dialog box is displayed asking for a Java Platform to use, choose the default platform.If a dialog box is displayed asking for permission to modify the project build script, click OK.  - NetBeans

フォント選択処理でラスターフラグがセットされていれば、指定の書体のラスターフォントが存在する可能性があるので、従来と同様に、ラスターフォントを検索する処理を行なう。例文帳に追加

Since a raster font of a designated font is possibly present if a raster flag is set in font select operation, a raster font is retrieved conventionally. - 特許庁

酸化膜１６を生成した後に、フォトリソグラフィーを行いフォトレジスト１７を塗布するとともに、受光面１１１に塗布したフォトレジスト１７に開口部１７１を形成する。例文帳に追加

After the formation of the oxide films 16, photolithography is conducted to apply a photo resist 17, and an opening 171 is made on the photo resist 17 applied to the light receiving surface 111. - 特許庁

IDE の GUI ビルダーを使用し Java GUI フォームをグラフィカルに編集する場合は、IDE の Java GUI フォームのテンプレートを使用してフォームのソースファイルを作成する必要があります。例文帳に追加

If you want to visually edit a Java GUI form using the IDE's GUI Builder, you have to create the form's source file using the IDE's Java GUI Forms templates.  - NetBeans

パネル組み立て工程における荷重によってフォトスペーサがその厚みを減じ過ぎることなく、また、フォトリソグラフィ法によって形成されたフォトスペーサの厚さ及び形状が安定したものとなり、さらに、ラビング処理において、フォトスペーサの厚さが均一なラビングの障害になることのないフォトスペーサを具備するフラットパネルディスプレイ用電極板を提供すること。例文帳に追加

To provide an electrode plate for flat panel display provided with a photo spacer having a uniform thickness and not causing hindrance to rubbing in the rubbing processing where the thickness of the photo spacer is not excessively decreased by a load in a panel assembling process and the thickness and the shape of the photo spacer formed by the photo lithography method can be made stable. - 特許庁

パネル組み立て工程における荷重によってフォトスペーサがその厚みを減じ過ぎることなく、また、フォトリソグラフィ法によって形成されたフォトスペーサの厚さ及び形状が安定したものとなり、さらに、ラビング処理において、フォトスペーサの厚さが均一なラビングの障害になることのないフォトスペーサを具備するフラットパネルディスプレイ用電極板を提供すること。例文帳に追加

To provide an electrode plate for a flat panel display provided with a photo spacer of which the thickness is not excessively reduced by a load added in a panel assembling step, also of which the thickness and the shape are stabilized in the case of being formed by a photolithographic method and further of which the thickness is not an obstacle to uniform rubbing in rubbing treatment. - 特許庁

上記過塩基性金属スルフォネートは、塩基価が３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましい。例文帳に追加

The per-basic metal sulfonate preferably has a base number of 300 mgKOH/g. - 特許庁

ウェハにフォトリソグラフィー処理を行い、レジストパターンを形成する（ステップＳ６）。例文帳に追加

Then, photolithographic processing is performed on the wafer to form a resist pattern (Step S6). - 特許庁

フォーミングプレート１５は、背面側に二つの切断刃４９が取り付けられる。例文帳に追加

The forming plate 15 has two cutting blades 49 on a back side thereof. - 特許庁

下記Ａ、Ｂ、Ｃ並びにＤ群の成分を含んでなる有機フォトリフラクティブ材料。例文帳に追加

The organic photorefractive material includes components of A, B, C and D groups mentioned below. - 特許庁

ブロック群は、特定の無線フォーマットモードでデータを処理するように動作させられる。例文帳に追加

The blocks are operated so as to process data in a specific wireless format mode. - 特許庁

ブロック群は、特定の無線フォーマットモードでデータを処理するように動作させられる。例文帳に追加

The blocks are operated to process data in the particular wireless format mode. - 特許庁

記録されたホログラム干渉縞を有するフォトポリマーホログラム11と、フォトポリマーホログラム11の第１の表面上に配置された透明な圧力感応接着剤層13と、フォトポリマーホログラム11の第２の表面上に配置された透明な硬質被覆層15とを具備していることを特徴とする。例文帳に追加

The decal consists of a photopolymer hologram 11 having recorded hologram interference fringes, a transparent pressure sensitive adhesive layer 13 applied on a first surface of the photopolymer hologram 11, and a transparent hard coating layer 15 applied on a second surface of the photopolymer hologram 11. - 特許庁

ポリエチレンテレフタレート系樹脂製壜体およびプリフォーム口筒部の熱処理方法例文帳に追加

BOTTLE BODY MADE OF POLYETHYLENE TEREPHTHALATE RESIN AND METHOD FOR HEAT-TREATING OPENING CYLINDRICAL PART OF PREFORM - 特許庁

ダイアログとフォームの間でデータをやり取りするための中間 Beans を作成する。例文帳に追加

Create intermediary beans to carry the data between the dialogs and form.  - NetBeans

フォトレジスト組成物、該組成物を使用したフォトレジストパターンを形成する方法、パターン化樹脂組成物及びフォトリソグラフィーの形成方法を提供する例文帳に追加

To provide a photoresist composition, a method for forming a photoresist pattern using the composition, a patterned resin composition, and a method for forming a photolithography. - 特許庁

特に、ユーザ装置で用いる第一の信号フォーマットと、ＯＶＰＮ内で用いる第二の信号フォーマットとが異なる場合には、第一の信号フォーマットによる信号を第二の信号フォーマットによる信号によってカプセリングしてＯＶＰＮ内を伝送させる。例文帳に追加

In particular, when a first signal format used by a user apparatus differs from a second signal format used in the OVPN, signals by the first signal format are capsulated by signals by the second signal format and the resulting signals are transmitted in the OVPN. - 特許庁