「よこぬまちょう３ちょうめ」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

表面架橋吸水性樹脂は、表面架橋層の厚みが５０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であるか、および／または、表面架橋層の樹脂全体に対する重量割合が０．３〜３％であることを特徴とする。例文帳に追加

This surface-cross-linked water-absorbing resin characterized in that the thickness of a surface-cross-linked layer is 50 nm to 1,000 nm and/or in that the weight rate of the surface-cross-linked layer on the basis of the total amount of the resin is 0.3 to 3%. - 特許庁

現地表土１による法面Ｎの緑化工法として、現地表土１と団粒化剤３と水を混合して、この混合物Ａを緑化工の施工法面Ｎに撒き出すことを特徴としている。例文帳に追加

As a seeding and planting method of a slope face N by present ground surface earth 1, the present ground surface earth 1, a nodulizing agent 3 and water are mixed, and this mixture A is scattered on the execution work slope face N of seeding and planting. - 特許庁

本発明は、グローバルＩＰアドレス更新時、ＤＤＮＳクライアント端末３からＤＤＮＳサーバ２にＤＤＮＳ更新要求を行うときに、ＤＤＮＳクライアント端末３のファームウェアのバージョン番号と機種情報とを通知し、最新のバージョンのファームウェアがあるときにはＤＤＮＳサーバ２がＤＤＮＳクライアント端末３に対してバージョンアップ通知を行うことを特徴とする。例文帳に追加

In updating a global IP address, when a DDNS update request is issued from a DDNS client terminal 3 to a DDN server 2, the version number of the firmware of the DDNS client terminal 3 and its machine kind information are transmitted, and when the updated version firmware is present, version-up notification is noticed from the DDNS sever 2 to the DDNS client terminal 3. - 特許庁

更に好ましくは、該金属窒化物膜３が、ＡｌＮ及び／又はＳｉＮを主成分とし、化学気相成長（ＣＶＤ）法により、透明基板２の温度を４０℃以下で形成される。例文帳に追加

More preferably, the metal nitride film 3 contains AlN and/or SiN as principal components and can be deposited at a temperature of transparent substrate 2 of 40°C or less by a chemical vapor deposition (CVD) method. - 特許庁

この発明に係るマット１は、基布２の上面にパイル３が植設され、該基布２の下面に不織布層４が積層一体化され、該不織布層４の周側面に、樹脂が塗布されて硬化してなる樹脂コート部１０が形成されていることを特徴とする。例文帳に追加

The mat 1 has a pile 3 planted on the upper surface of a base fabric 2, a non-woven fabric layer 4 laminated and integrated on the lower surface of the base fabric 2, and a resin coating part 10 formed by applying and hardening a resin on the peripheral side surfaces of the non-woven fabric layer 4. - 特許庁

ポリオレフィン系樹脂と熱可塑性樹脂からなる二成分系ポリマーブレンドであって、溶融混練時の界面張力の大きさが0.05×10^-3〜20×10^-3Ｎ/ｍであることを特徴とする，両連続相構造が形成されている二成分系ポリマーブレンド組成物。例文帳に追加

The two-component polymer blend composition forming a bicontinuous phase structure is composed of a polyolefin resin and a thermoplastic resin and has surface tension of 0.05×10^-3 to 20×10^-3 N/m in melt kneading. - 特許庁

本発明の方法では、最初にＳｎＯ_2で被覆された基質が析出およびその後のか焼によって調製され、ついでこのＳｎＯ_2層がＦ^-および／またはＰＯ_4^3-でドープしたスズ混合酸化物層に転換される。例文帳に追加

In this method, a substrate coated with SnO2 is precipitated and then calcined; and thus formed SnO2 layer is converted into an F- and/or PO43--doped tin-mixed oxide layer. - 特許庁

本発明の金属薄膜形成用塗料は、厚みが５０ｎｍ以下かつ長径が５μｍ以下の板状金属微粒子を含有したもので、この板状金属微粒子のアスペクト比は３以上であることを特徴とする。例文帳に追加

The coating material for forming a metal thin film contains sheet-like metal particles having a thickness of ≤50 nm and an major axis length of ≤5 μm, wherein the aspect ratio of the sheet-like metal particles is ≥3. - 特許庁

極細繊維からなる織布または不織布を基布とし、液状樹脂を含浸して、硬化・成形してなるスピーカ振動板用エッジにおいて、前記基布の片面又は両面がエラストマーで覆われていることを特徴とする。例文帳に追加

In the edge for the speaker diaphragm, formed by using a woven fabric or nonwoven fabric, comprising very fine fibers 3 for a base fabric and impregnating a liquid resin to the base fabric, and curing and forming the impregnated base fabric, an elastomer 5 covers one side or both sides of the base fabric 2. - 特許庁

耐熱性で、ＤＮＡ鎖伸長の校正機能である3'-5'エキソヌクレアーゼ活性を有し、かつプライマー伸長活性が強く、高塩濃度下でも目的DNA領域を短時間で複製できる新規耐熱性ファミリーD DNAポリメラーゼ(PolD)を提供する。例文帳に追加

To provide a new heat resistant family D DNA polymerase (PolD) being heat resistant, having a 3'-5'exonuclease activity which is a proof-reading function of DNA chain-extension, having a potent primer lengthening activity, and duplicating an objective DNA region in a short time even under high salt concentration. - 特許庁

インジウムを含まないＡｌ_ｘＧａ_１−ｘＮよりなる活性層を従来の結晶成長温度（１０４０℃から１１００℃）より低温の、９５０℃以下で、且つ３ｎｍ以上５００ｎｍ以下の膜厚で形成することにより、活性層表面に周期が６〜５００ｎｍの凹凸形状を形成する。例文帳に追加

The uneven shape having a period of 6 to 500 nm is formed on the surface of the active layer by forming the active layer that is comprised of Al_xGa_1-xN not containing indium and has a film thickness between 3 nm and 500 nm at a low temperature below 950°C lower than conventional crystal growth temperature (1,040°C to 1,100°C). - 特許庁

つまり、各照明機器３において所望の調光レベルを実現できるように、各調光卓２から入力された複数のＤＭＸ信号から、夫々必要なＣｈａｎｎｅｌを選択して、それらの選択したＣｈａｎｎｅｌに格納された調光レベルデータを夫々読み出し、所定の処理を行い、再び一つのＤＭＸ信号として、各信号線上に夫々出力するものである。例文帳に追加

Namely, for the purpose of realizing an expected light control level at respective lighting devices 3, necessary channels are selected from a plurality of DMX signals inputted from respective light control desks 2, respective light control level data stored in those selected channels are read out and a prescribed process is applied, and signals are outputted on respective signal lines again as a DMX signal. - 特許庁

靴下（１）に足指付近に開き口（２）を設け、切り離された前後に押え止め下の前（４）と押え止め下の後（５）を設け、上から布（３）を覆い、布（３）の裏側部分に押え止め上の前（６）と押え止め上の後（７）を設けたことを特徴とする。例文帳に追加

The sock 1 has the following structure: an opening 2 is formed near a toe part; a lower front pressure hold 4 and a lower back pressure hold 5 are provided at the front and back cut-off part covered with a cloth 3; an upper front pressure hold 6 and an upper back pressure hold 7 are provided at the back side of the cloth 3. - 特許庁

この発明は、受光層３と、該層３に接する窓層４とを備える受光素子用エピタキシャルウェーハ１０において、窓層４がＩｎＡｓ_yＰ_(1-y)（０＜ｙ≦１）からなる、ことを特徴としている。例文帳に追加

In this epitaxial wafer 10 for a light-receiving element, having a light receiving layer 3 and a window layer 4 adjoining the layer 3, the window layer 4 is made of InAs_yP_(1-y), where 0<y≤1. - 特許庁

床面に貼着した床材２の上に、装飾フィルム３を載置（貼付）した後、かかる装飾フィルム３を水系の紫外線硬化型コーティング剤の塗膜４で覆い、該塗膜４を紫外線照射によって硬化する。例文帳に追加

A decorative film 3 is placed (stuck) onto a floor material 2 stuck to a floor surface, and then covered with a paint film 4 of aqueous ultraviolet ray-hardenable coating agent, and the paint film 4 is hardened by ultraviolet ray irradiation. - 特許庁

立体加飾部３の塗膜層４だけをレーザーＬにより除去するため、立体加飾部３はインストルメントパネル１の表面２の色が露出し、塗膜層４で覆われている他の一般面とは色調が異なることになる。例文帳に追加

Since only a coating film layer 4 of a three-dimensional decorative part 3 is removed by laser beams L, the color of a surface 2 of an instrument panel 1 is exposed in the three-dimensional decorative part 3, and the color tone thereof is different from that of other general surfaces covered by the coating film layer 4. - 特許庁

粒子３の分散液を用いて、基体２上に粒子３を規則的に配列させることにより粒子膜を形成する方法において、前記粒子分散液の表面張力を５０ｍＮ／ｍ以下とすることを特徴とする、粒子膜形成方法。例文帳に追加

In the method of forming the particle film by regularly arranging the particles 3 on the base body 2 using the dispersion of the particles 3, the surface tension of the dispersion is set to 50 mN/m or less. - 特許庁

活性層１を含むメサ構造を埋め込む埋込層であって、活性層１より上部に位置するｎ型電流ブロック層３を選択成長させる際に、ｎ型不純物とＩＩ族ｐ型不純物とを同時に含んだ雰囲気中で成長させる。例文帳に追加

A layer for burying a mesa structure including an active layer 1 is grown in an atmosphere simultaneously containing n- and II-family p-type impurities when an n-type current block layer 3 positioned at the upper part of the active layer 1 is selected for growing. - 特許庁

研磨布を貼付した上定盤と下定盤とを具備する両面研磨装置に対し、前記上定盤と下定盤の研磨布を同時にドレッシングするための研磨布用ドレッシングプレートであって、少なくとも２枚のプレート本体２と、それらのプレート本体の間に設けられた弾性体層３とからなるものであることを特徴とする研磨布用ドレッシングプレート１。例文帳に追加

The dressing plate 1 for the abrasive cloth for dressing the abrasive cloth of an upper polishing table and the abrasive cloth of a lower polishing table simultaneously in the double-sided polishing device provided with the upper polishing table and lower polishing table each with the abrasive cloth attached thereto, comprises at least two plate bodies 2 and an elastic body layer 3 provided between the plate bodies. - 特許庁

分子内にアミド基（−ＮＨＣＯ−）又はウレイド基（−ＮＨＣＯＮＨ−）と、−[Ｓｉ(ＣＨ_３)_２Ｏ]ｎ−Ｓｉ(ＣＨ_３)_３（ただし、ｎは０〜９００の数）で示されるポリシロキシ基とを有するシリコーン誘導体と、シリコーン油とを含有することを特徴とする外用剤組成物。例文帳に追加

This external preparation composition comprises a silicone derivative that bears, in its molecule, amido groups (-NHCO-) or ureido groups (-NHCONH-) and polysiloxy groups -[Si(CH_3)_2O]_n-Si(CH_3)_3 (wherein (n) is a number of 0-900) as well as silicone oil. - 特許庁

ＩｎＳｂ系化合物半導体多結晶膜３と接する基板１Ａ、１Ｂ最表面に凹凸（１_1〜１_n、２_1〜２_n）を形成し、結晶の核発生数を増加するよう構成したことを特徴とするＩｎＳｂ薄膜基板１０。例文帳に追加

Irreguralities (11-1n, 21-2n) are formed on the uppermost surfaces of substrates 1A, 1B which are in contact with an InSb based compound semiconductor polycrystal film 3, and this InSb thin film substrate 10 is so constituted that the number of generation nuclears of crystal is increased. - 特許庁

内面または外面、あるいは両面にセラミック薄膜4 がコーティングされたプラスチック容器本体2 の外側に、４００ｎｍ以上５２０ｎｍ以下の波長範囲全域で光線透過率が１％以下であるフィルム3 が巻かれている。例文帳に追加

A film 3 of which the light transmissivity within an entire wavelength range of 400-520 nm is 1% or less is wound around the outer surface of a plastic container main body 2 having a ceramic membrane 4 applied to the inner or outer surface or both surfaces thereof. - 特許庁

人体の頭部または顔面の皮膚にパルス状静電場を印加するための複数の電極３，４，５，６，７と、かつ人体の頭部または顔面の皮膚に中心波長が６３０ｎｍから７００ｎｍの波長範囲の光を照射するための複数のＬＥＤ９とを備えてなることを特徴としている。例文帳に追加

The device comprises a plurality of electrodes 3, 4, 5, 6 and 7 for applying a pulsed electrostatic field to a skin of a head or a face in a human body, and a plurality of LEDs 9 for emitting a light with a center wavelength of 630 to 700 nm to the skin of the head or the face in the human body. - 特許庁

少なくとも甲皮と、分子主鎖に二重結合を有するゴム製のアウトソール３からなる靴おいて、前記アウトソール３の一部が伸張された状態で甲皮またはその他の部材に接着された伸張部分４を有し、前記伸張部分４及びその周辺のみの表面に樹脂塗膜を有する。例文帳に追加

The shoe composed of at least an instep skin and an outer sole 3 made of a rubber having a double bond in the molecular main chain has an extended part 4 wherein a part of the outer sole 3 is attached to the instep skin or other members under extension and has the resin coat only on the extended part 4 and its periphery. - 特許庁

テクスチャー加工された緯糸（３）を、鎖編又はデンビ編した経糸（１）のループ（２）に通して組織（４）を形成し、その緯糸を面ファスナーの雌部材として用いることを特徴とする編物。例文帳に追加

This knitted fabric is characterized by passing textured wefts (3) through the loops (2) of chained or denbigh-stitched warps (1) to form a structure (4), and using the wefts as the female member of the hook-and-loop fastener. - 特許庁

この発明の有機薄膜トランジスタは、基板１、ゲート電極２、ゲート絶縁膜３、ソース電極６、ドレイン電極５及び有機半導体層４を備え、ゲート絶縁膜３が膜厚４１０ｎｍ以下５０ｎｍ以上のポリパラキシリレン誘導体膜であることを特徴とする。例文帳に追加

The organic thin film transistor comprises a substrate 1, a gate electrode 2, a gate insulation film 3, a source electrode 6, a drain electrode 5, and an organic semiconductor layer 4 wherein the gate insulation film 3 is a polyparaxylylene dielectric film having a film thickness of 50-410 nm. - 特許庁

屋根１の上面の周縁部に、降雨時に屋根１上に雨水４を溜める堰部材２を設けるとともに、堰部材２または屋根１に、雨水４を抜く排水機構３、５を設けたことを特徴とする。例文帳に追加

Characteristically, a weir member 2 for storing rainwater 4 on the roof 1 during the rainfall is provided at the peripheral edge of the top surface of the roof 1, and drainage mechanisms 3 and 5 for draining the rainwater 4 are provided in the weir member 2 or the roof 1. - 特許庁

本発明における多孔質塗膜３は、少なくともバインダー樹脂を含み、塗膜の内部に全体的にわたって多数の気泡４が均一に分散して形成されていることを特徴とするものである。例文帳に追加

The porous coating film 3 contains at least binder resin and has many air bubbles 4 uniformly dispersed and formed all over the inside of the coating film. - 特許庁

圧力容器５内に超臨界二酸化炭素または液体二酸化炭素を充填すると共に、ジャケット３とトレッド面Ｔ１で囲まれた室部１１に超臨界二酸化炭素または液体二酸化炭素とゴム添加剤との混合物ｎを充填してトレッド面Ｔ１に改質処理を行う。例文帳に追加

The pressure container 5 is filled with supercritical carbon dioxide or liquefied carbon dioxide, and a mixture n of supercritical carbon dioxide or liquefied carbon dioxide and a rubber additive is packed in a chamber 11 surrounded by the jacket 3 and the tread surface T1 to modify the tread surface T1. - 特許庁

前記光学多層膜３は、光学異方性材料層を黄変させる波長３２０ｎｍ以下の紫外線をカットし、重合性液晶組成物や光重合性接着剤を重合あるいは硬化させるために必要な波長３６０〜４１０ｎｍの紫外線を透過し、さらに波長４０５ｎｍ帯の光を反射防止する機能をもつ。例文帳に追加

The optical multilayer film 3 has functions for cutting ultraviolet rays of 320nm wavelength or less which may yellow the optical anisotropic material layer 5, transmitting ultraviolet lays of 360-410 nm wavelengths which are necessary for polymerizing or curing a polymerizable liquid crystal composition or optical polymerizable adhesives and preventing the reflection of light of a wavelength of 405 nm band. - 特許庁

前記光学多層膜３は、光学異方性材料層を黄変させる波長３２０ｎｍ以下の紫外線をカットし、重合性液晶組成物や光重合性接着剤を重合あるいは硬化させるために必要な波長３６０〜４１０ｎｍの紫外線を透過し、さらに波長４０５ｎｍ帯の光を反射防止する機能をもつ。例文帳に追加

The optical multilayered film 3 has functions for cutting ultraviolet rays of 320 nm wavelength or less yellowing the optical anisotropic material layer 5, transmitting ultraviolet lays of 360-410 nm wavelengths necessary for polymerizing or curing the polymerizable liquid crystal composition or a photo-polymerizable adhesive, and preventing reflection of light of a wavelength of 405 nm band. - 特許庁

本発明は、配向調整膜２がＣｏ、ＮｉおよびＦｅから選ばれる何れか１種類以上と、Ｗ、Ｍｏ、ＴａおよびＮｂから選ばれる何れか１種類以上とを含み、かつ、非磁性下地層３が少なくともＣｒＦｅ系合金を含むことを特徴とする。例文帳に追加

The orientation adjusting film 2 contains any one or more elements selected from among Co, Ni and Fe and any one or more elements selected from among W, Mo, Ta and Nb and the non-magnetic underlayer 3 contains at least a CrFe-based alloy. - 特許庁

合成樹脂からなる布状体３の片面又は両面にハイドロタルサイトを３〜２０重量％を含有するポリオレフィンフィルム４が積層されてなることを特徴とする保温性農業用合成樹脂シート。例文帳に追加

The synthetic resin sheet for the heat insulation agriculture comprises a polyolefin film 4 containing a hydrotalcite of 3 to 20 wt.% and laminated on one or both surfaces of a cloth-like material 3 made of a synthetic resin. - 特許庁

着色層３の形成の際に、中心波長４０５ｎｍのＨ線を照度６００〜８１０ｍＪ/ ｃｍ^2 の条件下で露光し、また着色層３を構成する光重合開始剤濃度を０. ５〜０. ６３ｗｔ％、熱重合剤濃度を０. ２〜０. ４２ｗｔ％の範囲で調整する。例文帳に追加

When a color layer 3 is formed, the layer is exposed to H-line light of 405 nm center wavelength under the condition of 600 to 810 mJ/cm2 illuminance, and the concentrations of the photopolymerization initiator and the thermal polymerization agent which constituted the color layer 3 are controlled to 0.5 to 0.63 wt.% and 0.2 to 0.42 wt.%, respectively. - 特許庁

ＩｎＧａＡｌやＩｎＧａＡｌＮやＩｎＧａＮおよびＧａＮ系の半導体発光素子４を有する光源装置１Ａにおいて、半導体発光素子４が透明性を有し、半導体発光素子４を載置する反射性を有したパターン２ａ上（または／および電気配線パターン上）に波長変換材料を混入した透明樹脂３によって半導体発光素子４を接着固定する。例文帳に追加

In a light source device 1A comprising a semiconductor light- emitting element 4 of InGaAl, InGaAlN, InGaN, and GaN, the semiconductor light-emitting element 4 is transparent which is bonded and fitted on a reflective pattern 2a (and/or an electric-wiring pattern) with a transparent resin 3 where a wavelength conversion material is mixed. - 特許庁

次に、図１（ｂ）で示すように、絶縁膜となる透明なＳｉＯ_２薄膜３を蒸着し、ナノコラム５を成長させるべき配置位置に、成長させるべき直径および間隔でＮｉ薄膜２が露出するまで貫通孔４を穿設しておく。例文帳に追加

Subsequently, as shown in the figure 1(b), a transparent SiO_2 thin film 3 as an insulating film is evaporated, and a through hole 4 is drilled on evaporation positions where the nano-columns 5 are grown at a diameter and a distance for growing the nano-columns until the Ni thin film 2 is exposed. - 特許庁

次に、図１（ｂ）で示すように、絶縁膜となる透明なＳｉＯ_２薄膜３を蒸着し、ナノコラム５を成長させるべき配置位置に、成長させるべき直径および間隔でＡｌＮ膜２が露出するまで貫通孔４を穿設しておく。例文帳に追加

Next, as shown in Fig.1(b), a transparent SiO_2 thin film 3, used as an insulating film, is vapor-deposited at the position where a nanocolumn 5 should be grown up; a through hole 4 is drilled until AlN film 2 is exposed at a diameter and intervals at which it is grown up. - 特許庁

この脚３は調湿ボックスよりなるものであり、直方体形状の箱体４と、この箱体４の１対の側面に設けられた開口５と、該箱体４内に配置された複数枚の板状調湿材６と、開口５に設けられた不織布７とを備えてなる。例文帳に追加

These legs 3 are composed of humidity control boxes, and comprise a rectangular solid-shaped box body 4, openings 5 arranged on a pair of side surfaces of this box body 4, a plurality of plate-shaped humidity control materials 6 arranged in the box body 4, and nonwoven fabrics 7 arranged in the openings 5. - 特許庁

袋状のマット地（１）に単線又は複線の縫目（３）を入れた複数の小袋（２）を作り、小袋の中に真菰粉末（４）を詰めて密封するのを特徴とする。例文帳に追加

This rush mat is constituted by making a plurality of the small bags (2) formed with single or a plurality of seams (3) at a bag-like material 1 and packing the Indian rice powder (4) into the small bags, then hermetically sealing the bags. - 特許庁

ウエーハ４の外周部を加工用研磨布３に摺接させてウエーハを面取り加工する方法において、前記ウエーハの面取り加工終了時に、該ウエーハと前記加工用研磨布とを回転させながらウエーハを加工用研磨布から引き離すことを特徴とするウエーハの面取り加工方法。例文帳に追加

The wafer-chamfering method comprises processes of bringing the peripheral part of the wafer 4 into contact with a polishing cloth 3 making it slide on the cloth 3, and separating the wafer 4 from the polishing cloth 3 while both the wafer 4 and the polishing cloth are kept rotating, after the chamfering operation of the wafer 4 is finished. - 特許庁

上記ディスプレーサ１は、フェノールを含浸させた帯状の布２を、張力を加えながら心棒４に巻き付けた後、加熱して、上記心棒４を抜いた筒状体３の開口端に詰物を固着して製造される。例文帳に追加

The above displacer 1 is manufactured by fixing plug to the opening end of a tubular body 3 being made by heating the band- shaped cloth 2 impregnated with phenol after winding it around an arbor 4 while adding tension to it, and then, pulling the above arbor 4. - 特許庁

備長炭により酸化を防止するようにした酸化防止装置において、複数の備長炭２，２，…と、これら備長炭２，２，…を直列に収容する耐熱性金属線の螺旋状巻回部材３と、該螺旋状巻回部材からの備長炭２，２，…の抜け出しを防止する係止手段４（係止部材５，係止部材６）とを備える。例文帳に追加

In this apparatus for preventing oxidation by Bincho charcoal, the apparatus is equipped with plural Bincho charcoal 2,2,..., a spiral wound member 3 of heat-resistant metal wire for storing the Bincho charcoals 2,2,... in series and an seizing means 4 (seizing member 5 and seizing member 6) for preventing the Bincho charcoal 2,2,... from slipping out from the spiral wound member. - 特許庁

ＷＳｉＮ膜３は、ＷＳｉ膜４がポリＳｉ膜２と反応してグレイン成長するのを抑制するため、ＷＳｉ膜４の結晶粒が小さくなり、遮光特性が向上する。例文帳に追加

Because the WSiN film 3 suppresses a reaction of the WSi film 4 with the polysilicon film 2 to produce grain growth, a crystal grain of the WSi film 4 gets smaller and the light shielding characteristics are improved. - 特許庁

トンネル３の内面における２点間に掛け渡す枕木材１において、前記枕木材１にトンネル３の内面に接触する前記枕木材１の端部を覆うように不織布２を配置したことを特徴としたトンネル３仮設用の枕木材１である。例文帳に追加

In the sleeper member 1 for a temporarily tunnel 3 stretched between two points on the internal surface of the tunnel 3, the nonwoven fabric 2 is arranged to the sleeper member 1 so as to cover the end section of the sleeper member 1 brought into contact with the internal surface of the tunnel 3. - 特許庁

犬用首輪１は、ベルト２および長さ調節具３からなる首輪本体４と、ここに埋め込まれた非接触型のＩＣチップ５とを備えている。例文帳に追加

A collar for the pet animal( dog ) 1 comprises a collar body 4 comprising a belt 2 and a length-adjusting tool 3 and a non-contact-type IC chip 5 embedded in the collar body 4. - 特許庁