「電解研磨された」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

その後、この材料金属を硫酸水溶液などの電解液中に浸漬し（ステップＳ４）、これを陽極としてこれに対向する陰極との間で通電し（ステップＳ５）、材料金属を電解研磨する（ステップＳ６）。例文帳に追加

Thereafter, this metallic material is dipped into electrolytic solution, such as sulfuric acid aqueous solution (Step S4), and this material is used as an anode and energized between this anode and a cathode faced to this anode (Step S5) and this metallic material is electrolytically ground (Step S6). - 特許庁

ウェハー上の導電性膜の電解研磨方法は、ウェハー上に入射した電解質流体がウェハー表面上をウェハー縁部に向かって流れるのに十分な速度で、ウェハー・チャックを回転させることを含む。例文帳に追加

The method for electropolishing an electroconductive film on a wafer comprises rotating a wafer chuck at a velocity sufficient for an electrolyte fluid injected onto the wafer to flow toward the wafer edge on the surface of the wafer. - 特許庁

酸化スケール除去装置は、ステンレス鋼５の溶接部分５０に発生する酸化スケールを電解研磨により除去するためのもので、装置本体１と電解液１０とから成る。例文帳に追加

The apparatus for removing the oxide scales is used for removing the oxide scales generated at a welded part 50 of stainless steel 5 by electropolishing and includes an apparatus body 1 and an electrolyte 10. - 特許庁

それから、その第１電解銅めっき層の上に第２電解銅めっき層４０を形成し、そののちそれらの銅めっき層５０の表面を研削用砥石５１などを用いて物理的に研削して、平らな研削面５２を有する導電体層５３を形成し、その導電体層の表面を研磨用ローラ５４などで研磨する。例文帳に追加

Subsequently, a second electrolytic copper plating layer 40 is formed on the first electrolytic copper plating layer and the surface of these copper plating layers 50 are ground physically using a grinding whetstone 51 to form a conductor layer 53 having a flat ground surface 52 and then the surface of the conductor layer is polished by means of a polishing roller 54. - 特許庁

本発明による電解加工液は、基板に形成されたバリア層又は銅を主成分とする配線層の少なくとも１層を電解研磨して基板表面を平坦化するための電解加工液であって、アルカリ溶液又は弗素系溶液のいずれか１つとインヒビタを含む。例文帳に追加

An electrolytic machining liquid of the present invention functions to planarize the surface of a substrate through subjecting at least either of a barrier layer formed on the substrate or a wiring layer mainly composed of copper to electrolytic polishing, and such an electrolytic machining liquid comprises either of alkaline solution or fluorine series solution and inhibitor. - 特許庁

電解液中に金属膜２が形成された基板１と対向電極３とを所定の間隔をもって対向配置するとともに、金属膜２に対して非接触状態とした陽極４により電解液を介して金属膜２に通電し、金属膜２を電解研磨する。例文帳に追加

A substrate 1 formed with a metal film 2 and a counter electrode 3 are opposedly arranged at a predetermined interval in electrolyte. - 特許庁

無電解還元法により作製された、Ｎｉと半金属で構成された球状Ｎｉ合金粒子であって、その組織中にはＮｉと該半金属の金属間化合物が析出しているサンドブラスト用研磨材である。例文帳に追加

The polishing material for sandblasting consists of spherical Ni-alloy particles formed from Ni and a semi-metal and is prepared by the non-electrolytic reduction process, in which inter-metal compound of Ni and semi-metal is precipitated in the structure. - 特許庁

表面を電解研磨処理したステンレス製のコの字型のフレーム１は上部において樹脂製の連結材１１が固定してあり、左右のフレーム１は、スペーサ材１２によって間隔が保持されている。例文帳に追加

In a carrier, connecting materials 11 made of resin are fixed to an upper portion of a U-shaped frame 1 having electrolytically polished and treated surfaces and being made of stainless, and right and left frames 1 are spaced by spacer materials 12. - 特許庁

基板の電解研磨時間を短縮することで生産性を向上させることができ、さらには、単位面積当たりのクラックの発生を低減させ、且つ水平度に優れている超伝導ケーブル用基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of producing a substrate for superconductive cables which can be improved in productivity by shortening electrolytic polishing period of the substrate and reduced in the number of cracks per unit area and is excellent in levelness. - 特許庁

装置は、ウェハーを保持するためのウェハー・チャック1002、ウェハー・チャックを回転させるためのアクチュエータ1000、及び、ウェハーを電解研磨するように構成されたノズル1010を含む。例文帳に追加

The apparatus includes a wafer chuck 1002 for holding the wafer, an actuator 1000 for rotating the wafer chuck and a nozzle 1010 configured to electropolish the wafer. - 特許庁

装置は、ウェハーを保持するためのウェハー・チャック(1002)、ウェハー・チャックを回転させるためのアクチュエータ(1000)、及び、ウェハーを電解研磨するように構成されたノズル(1010)を含む。例文帳に追加

The apparatus comprises a wafer chuck (1002) for holding a wafer, an actuator (1000) for rotating the wafer chuck, and a nozzle (1010) constructed so as to electropolish the wafer. - 特許庁

短時間の電解研磨によって所望の表面粗さまで平滑化することができる、切削時の耐「むしれ」性に優れた半導体製造装置の部材用鋼材の提供。例文帳に追加

To provide a steel material for a member of a semiconductor-manufacturing apparatus, which can be smoothed into desired surface roughness by electrolytic polishing in a short period of time and has superior gouge resistance when cut. - 特許庁

高真空下において電解研磨された金属体表面からのガス放出が少なく、かつ表面光沢度に優れた金属体の表面構造を得る。例文帳に追加

To obtain a surface structure of a metallic body which lessens the release of the gas from the metallic body surface subjected to electrolytic polishing under a high vacuum and has excellent surface glossiness. - 特許庁

このような転走面２は電解研磨仕上げにより形成された鏡面上に、球状の投射材をショットブラスト処理することによって形成される。例文帳に追加

The rotation running face 2 is formed by shot-blast-treating a spherical projection material, on a mirror finished face formed by electrolytic polishing. - 特許庁

ステンレス鋼表面に対する電解研磨法において、僅かの添加量でステンレス鋼の耐蝕性を飛躍的に向上させる添加物により、人体に悪影響を与えるフッ化物の中性塩の使用を最小限に抑えること。例文帳に追加

To suppress the use of the neutral salt of fluoride exerting adverse influence on the human body to a minimum with an additive remarkably improving the corrosion resistance of stainless steel by a trace amount to be added. - 特許庁

機械的加工により製作されたｃＢＮ焼結体の表面をメカノケミカルポリッシング処理、化学エッチング処理または電解研磨処理により加工変質層を除去する。例文帳に追加

Mechanochemical polishing treatment, chemical etching treatment or electrolytic polishing treatment is applied to the surface of the cBN sintered compact manufactured by machining to remove the damaged layer. - 特許庁

本発明のサンドブラスト用研磨材は、無電解還元法により作製された球状Ｎｉ合金粒子を加熱処理する製造方法により、作製することが可能である。例文帳に追加

This polishing material for sandblasting may be fabricated through such a manufacturing process that the spherical Ni-alloy particles prepared by the non-electrolytic reduction process are subjected to a heat treatment. - 特許庁

電化学放電加工作業２０は非電導材料加工技術であり、電解液におけるプリント配線基板と加工および研磨されたプローブとが接触した箇所に電流パスを形成する。例文帳に追加

An electrochemical discharge machining operation 20 uses nonconductive material machining techniques and forms a current path in the portion of contact between a printed wiring board in an electrolytic solution and the probe machined and polished. - 特許庁

廃棄物５に付着した放射性物質が金属の場合、円筒状陰極４に回収され、その他の化合物の場合、廃棄物５自体を電解研磨する。例文帳に追加

The radioactive material adhered to the waste 5 is recovered by the negative electrode 4 when it is a metal, and the waste 5 itself is electrolytically polished when it is another compound. - 特許庁

電解研磨を行うため所定時間の通電を行うと、凹凸面３６ａの凸部が徐々に削られ、素線表面の凹凸面３６ａが図５（Ｂ）に示す平滑面３６ｂになる。例文帳に追加

When a current is applied for a specified time to perform electropolishing, the protruding parts of the rugged surface 36a are gradually chipped, and the rugged surface 36a of the element wire surface becomes a smooth surface 36b shown in figure 5 (B). - 特許庁

制御部４は、ワーク１個あたりの最適電流値にワーク数を掛け算して得られた電流値となるように電解研磨用の全体電流を制御して高品質処理を実現する。例文帳に追加

The control part 4 controls the whole current for the electrolytic grinding so as to get the value of current obtained by multiplying the optimum current value per one workpiece by the number of the workpieces to attain high grade treatment. - 特許庁

本発明のステンレス鋼の電解研磨液は、酢酸濃度が９０．０％〜９７．５％で残部の主成分が過塩素酸である混合溶液に対し、重量比で５０ｐｐｍ〜５００ｐｐｍの鉄分を添加したことを特徴とする。例文帳に追加

The electrolytic polishing liquid for stainless steel is made by adding an iron content in a weight ratio of 50 to 500 ppm to a mixed solution in which the concentration of acetic acid is 90.0 to 97.5% and the balance mainly comprises perchloric acid. - 特許庁

これはメチルアルコールは水と比較して小さな表面張力及び粘性係数を持ち、研磨終了時に探針先端部分を電解液２から素早く分離できるからである。例文帳に追加

This is because methyl alcohol has a smaller surface tension and viscosity coefficient than water, and the tip part of the probe can be speedily isolated from the electrolyte 2 at the time of the completion of grinding. - 特許庁

鉄、タングステン、軽金属およびこれらの合金の表面を電解研磨するのに適した、作業の安全性や環境保護については実質的に無害な方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method suitable for the electropolishing of metal surfaces comprising iron, tungsten, magnesium, aluminum or an alloy of these metals, and substantially harmless regarding operational stability and environmental protection. - 特許庁

製造方法は、端子部に金属柱が電解鋳造された回路部品をベース板に仮搭載した後、これらの各回路部品を絶縁樹脂で封止し、次いで、当該絶縁樹脂を研磨して表面に金属柱を露出させ、露出された金属柱間に所要の回路パターンを電解鋳造する。例文帳に追加

The manufacturing method comprises provisionally mounting the circuit components having the metal posts electrocast to the terminals on a base board, sealing the components with an insulation resin, polishing the resin to expose the metal posts on the surface, and electrocasting required circuit pattern between the exposed metal posts. - 特許庁

ステンレスを超純水製造装置用の構成部材の構造に成形する工程と、バフ研磨及び電解研磨を行うことなく、硝酸、フッ酸、塩酸、及び硫酸からなる群から選択された少なくとも一種の酸を含む酸溶液を用いてステンレスを洗浄する工程と、により製造した超純水製造装置用のステンレスを使用した超純水製造装置。例文帳に追加

The ultrapure water producing apparatus uses stainless steel for the ultrapure water producing apparatus, manufactured by steps of forming stainless steel into the structure of a component for the ultrapure water producing apparatus and washing the stainless steel using an acid solution containing at least one acid selected from a group consisting of nitric acid, hydrofluoric acid, hydrochloric acid and sulfuric acid without carrying out buffing and electrolytic polishing. - 特許庁

アルミニウム系合金からコーナー部のバリサイズが３００μｍ以下、根元の幅が５０μｍ以下に成形加工された、ハードディスクドライブ用アクチュエータアームの表面を、電解研磨処理を行った後、リン酸および硝酸を含む混合水溶液を用い、温度８０〜１１０℃で化学研磨するアクチュエータアームの表面処理方法とすることによって、解決される。例文帳に追加

The surface of the actuator arm is subjected to electrolytic polishing and then chemical polishing by using a mixed aqueous solution containing a phosphoric acid and a nitric acid at a temperature of 80 to 110 °C. - 特許庁

Ｍｏを含まないＮｉ−Ｃｒ合金からなり、その表面が電解研磨または化学研磨された金属基材上にイオンビームアシスト法によって多結晶中間薄膜が設けられ、該多結晶中間薄膜上に酸化物超電導体薄膜が設けられてなることを特徴とする酸化物超電導導体。例文帳に追加

In this oxide superconductive conductor, a polycrystalline intermediate thin film is provided by an ion beam assist method on the metal substrate which comprises a Ni-Cr alloy and the surface of which is polished by electrolytic polishing or chemical polishing, and an oxide superconductive conductor thin film is provided on the polycrystalline intermediate thin film. - 特許庁

銅の電解メッキの原料として使用されるメッキ用アノード銅ボールの製造方法であって、銅素材を冷間鍛造によってボール状に形成する鍛造工程と、前記鍛造工程により前記銅ボールの表面に付着した油分を揮発させるための加熱工程と、前記銅ボールを乾燥した状態で研磨するバレル研磨工程と、を有することを特徴とする。例文帳に追加

The method for producing an anode copper ball for plating used as the raw material for the electroplating of copper comprises: a forging stage of subjecting a copper stock to cold forging, so as to be formed into a ball shape; a heating stage for volatilizing oil stuck to the surface of the copper ball in the forging stage; and a barrel polishing stage of polishing the copper ball in a state of being dried. - 特許庁

弱酸性の水または空気が溶解した水、または電解イオン水２３２の中で、Ｇａ，Ａｌ及びＩｎのいずれかを含有する化合物半導体の基板１４２の表面と、表面の少なくとも基板１４２と接触する部位に導電性部材２６４を有する研磨パッド２４２の該表面とを互いに接触させつつ相対運動させて、基板１４２の表面を研磨する。例文帳に追加

In electrolytic ion water 232 in which weakly acidic water or air is dissolved, the surface of the substrate 142 made of the compound semiconductor containing one of Ga, Al and In, and the surface of a polishing pad 242 having an electrically conductive member 264 in at least the portion of the surface contacting the substrate 142 are relatively moved in contact with each other to polish the surface of the substrate 142. - 特許庁

長手軸線方向に沿って傾斜面が形成された断面が角形のビームにおいて、この各角部の傾斜面を良好に研磨することができ、それによって電気抵抗の原因となる酸化物や硫酸化物の皮膜を除去し、清浄な状態に保ち、電圧降下の低減及び電流分布の均一化を図ることのできる電解用カソードビーム研磨装置を提供する。例文帳に追加

To provide a device for polishing a cathode beam for electrolysis which can excellently polish an inclined surface of each corner part, remove a film of oxides and sulfates causing electric resistance thereby, keeping the inclined surface clean, reducing the voltage drop and unifying the current distribution. - 特許庁

金属箔片は、両側縁にナイフエッジ２１、２２を形成したモリブデンからなる長尺のリボン状の金属箔材料を所定の長さに切断して金属箔片を得ることができ、また金属箔片の切断により形成された両端部の少なくとも一方の縁辺を上記硫酸系電解研磨液中で電界研磨してナイフエッジ２２を形成することができる。例文帳に追加

The metal foil piece can be obtained by cutting in a prescribed length a metal foil material of a long ribbon shape made of molybdenum in which knife edges 21, 22 are formed on both end edges, and the knife edge 22 can be formed by performing electrolytic polishing on at least one of edge side of both ends formed by cutting the metal foil piece in the above sulfuric acid series electrolytic polishing liquid. - 特許庁

錫シート１１の片面に樹脂層１３が積層されており、かつ前記錫シート及び樹脂層を貫く多数の貫通孔１７を有する研磨層２ａと、陰極層３とを熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、又はホットメルト接着剤を用いて接着する工程を含む電解研磨パッドの製造方法。例文帳に追加

The manufacturing method for an electrolytic polishing pad includes a step of gluing the polishing layer 2a formed by laminating a resin layer 13 on one side of a tin sheet 11 and having a plurality of through-holes 17 penetrating the tin sheet and the resin layer, and the negative electrode layer 3, by using a thermoplastic resin, a thermoplastic elastomer, or a hot-melt adhesive. - 特許庁

ステンレス鋼表面に対する電解研磨法において、交流及び直流及び交直重畳で使用できると共に、オーステナイト系ステンレス鋼だけでなくマルテンサイト系、フェライト系ステンレス鋼でも耐腐食性能を向上させる電解液を提供する。例文帳に追加

To provide an electrolytic solution that can be used in AC and DC and AC/DC superposition system in an electrolytic polishing method on a surface of stainless steel and that can improve corrosion resistance not only in austenitic stainless steel but martensitic and ferritic stainless steel. - 特許庁

ステンレス鋼表面に対する電解研磨法において、交流及び直流及び交直重畳で使用できると共に、オーステナイト系ステンレス鋼だけでなくマルテンサイト系、フェライト系ステンレス鋼でも耐腐食性能を向上させる電解液を提供する。例文帳に追加

To provide an electrolytic solution for use in an electropolishing process for the surface of stainless steel, which can be used in the electropolishing process using any one of an alternating current, a direct current and a superimposed direct current on an alternating current, and contributes to improvement in a corrosion resistance of not only austenitic stainless steel but also of martensitic or ferritic stainless steel. - 特許庁

導体層１１をカソードにして電解めっきを行い、複数の開口部３１、３２及び３３に導体電極４１を形成し、第３レジスト層２３表面より突出した導体電極４１の先端部分を研磨して、導体電極４１ａを形成する。例文帳に追加

An electrolytic plating is carried out by using the conductor layer 11 as a cathode, two or more opening parts 31, 32 and 33 and a conductor electrode 41 are formed, the tip part of the conductor electrode 41 protruded from the surface of the third resist layer 23 is polished to form a conductor electrode 41a. - 特許庁

細線１２を色選別用電極薄板１０のテープ状グリッド素体５上に直交するように架張して成るカラー陰極線管及びその製造方法において、細線１２として電解研磨法により表面の凹凸が０．５μｍ以下とされた細線を用いる。例文帳に追加

In the color cathode-ray tube and its manufacturing method wherein filaments 12 are extendingly bridged so as to orthogonally cross on the tape state grid element 5 of electrode thin plates 10 for color selection, the filaments are used whose unevenness of surface as the filaments 12 is made not more than 0.5 μm using an electrolytic polishing method. - 特許庁

電解研磨によって溝に金属膜を残して溝配線を形成した後、金属膜表面に形成される窒化膜からなる酸化防止膜の密着性を確保して、配線抵抗の上昇、エレクトロマイグレーション特性が悪化等の信頼性上の問題を解決する。例文帳に追加

To solve problems of reliability such as an increase of wiring resistance, deterioration of electromigration characteristic or the like by insuring the adhesion of an oxidation preventing film consisting of a nitride film formed on a surface of a metal film after forming a groove wiring in the state that the metal film is left in a groove by an electrolytic polishing. - 特許庁

ステンレス鋼表面に対する電解研磨法において、僅かの添加量でステンレス鋼の耐蝕性を飛躍的に向上させる添加物により、人体に悪影響を与えるフッ化物の中性塩の使用を最小限に抑えること。例文帳に追加

To provide a method for electropolishing the surface of stainless steel, in which the bath contains a minimal amount of a neutral salt of fluoride that adversely affects the human body, by employing additives for remarkably improving corrosion resistance of stainless steel with a slight amount of addition. - 特許庁

鉄系線材Ｗに対し電解脱スケール処理を行うのに先立って、研磨粒子を含んだ気流６２を鉄系線材Ｗに吹き付けることにより、該線材の表面に形成されたスケール層を部分的に除去するショットブラスト処理を行う。例文帳に追加

Before applying electrolytic descaling treatment to the ferrous wire rod W, by blowing an air current 62 containing abrasive particles against the ferrous wire rod W, shotblasting for partially removing the scale layer formed on the surface of this wire rod is executed. - 特許庁

配線パターンのクリームはんだ印刷用の開口部が設けられたメタルマスク原板に、間歇電解研磨処理を施した後、該メタルマスク原板の少なくとも開口部壁面をフッ素樹脂微粒子を含有する金属メッキ皮膜で被覆する。例文帳に追加

According to the method of manufacturing the metal mask, a metal mask flat having the opening for cream solder printing for a wiring pattern, is subjected to intermittent electro-polishing, and thereafter at least a wall surface of the opening formed in the metal mask flat is coated with a metal plating film containing fluorocarbon resin particulates. - 特許庁

銅めっき膜表層の結晶粒界三重点や配線用の溝部分に高濃度に残存・析出した添加剤（特にブライトナ）に起因する電流集中を解消して先行溶出や異常溶出を抑え、表面平滑性に優れた銅めっき膜の電解研磨表面を得る。例文帳に追加

To obtain electrolytically polished surface of a copper plating film exhibiting excellent surface smoothness by eliminating current concentration due to an additive (especially, brightener) remaining or deposited with high concentration at a crystal grain boundary triple point or a wiring trench part on the surface layer of the copper plating film and further suppressing an elution. - 特許庁

ステータギヤ２１及びドリブンギヤ２２、並びにフレキシブルギヤ２３の歯面３０に化学研磨処理又は無電解メッキ処理を施すことにより、各ギヤの歯面３０に残るツールマークを除去又は被覆しその表面を平滑化する。例文帳に追加

Chemical polishing treatment or electroless plating treatment is applied to each tooth face 30 of a stator gear 21, a driven gear 22, and a flexible gear 23 to remove or cover tool marks remaining on the tooth faces 30 of these gears so as to flatten the surfaces thereof. - 特許庁

ステンレス素鋼を冷間加工し、アルカリ液等に浸漬する浸漬脱脂を施した後、砥粒を吹き付けるブラスト法やフェルトクリーニング等を用いる機械研削による脱脂または電解研磨による脱脂を行い、続いて熱処理を行う。例文帳に追加

A stainless steel stock is cold-worked, is subjected to immersion degreasing so as to be immersed into an alkali liquid or the like, is thereafter degreased by mechanical grinding using a blast process of spraying abrasive grains, felt cleaning or the like or electrolytic polishing, and is successively heat-treated. - 特許庁

陰電極用電源ケーブル１８に接続された可撓性を有する陰電極ワイヤ１２と、前記陰電極ワイヤ１２を囲繞し、周面に複数の電解液噴出用開口を有する絶縁材製のスプレー用ホース１１とを組合せて可撓性を有するスプレー式電解研磨除染装置に使用するスプレー陰電極ホース１０を構成した。例文帳に追加

A spray cathode electrode hose 10 used for a spray type electrolytic polishing decontamination device having flexibility is composed in such a manner that a cathode electrode wire 12 having flexibility and connected to a power source cable 18 for a cathode electrode, and a hose 11 for a spray made of an insulation material surrounding the cathode electrode wire 12 and having a plurality of openings for jetting an electrolytic solution on the circumferential face are combined. - 特許庁