「Complexing」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

A plating device of a two-tank structure separated to an anode chamber and a plating chamber by using a cation exchange membrane is used in the electroplating of the Ni-W alloy, by which the oxidation decomposition of an organic complexing agent contained in the plating liquid on anodes is suppressed.例文帳に追加

Ｎｉ−Ｗ合金の電気めっきにおいて、カチオン交換膜を用いて陽極室とめっき室に分離した２槽構造のめっき装置を用いることにより、めっき液に含有される有機錯化剤の陽極における酸化分解を抑制する。 - 特許庁

The negative electrode material for lithium secondary battery comprises graphite composite mixture powder (C) that consists of a graphite composite powder (A) formed by complexing graphite (D) having an aspect ratio of 1.2-4.0 and graphite (E) having orientation different from that of the graphite (D) and artificial graphite (B).例文帳に追加

アスペクト比が１．２以上、４．０以下である黒鉛質（Ｄ）及び前記黒鉛質（Ｄ）とは配向性の異なる黒鉛質（Ｅ）が複合化した黒鉛複合体粉末（Ａ）と、人造黒鉛粉末（Ｂ）とからなる黒鉛複合体混合粉末（Ｃ）を備える。 - 特許庁

That is, when this driving circuit incorporated type panel is used, the high-quality display is obtained without increasing the scale of external circuits and without complexing a horizontal driving circuit by preventing flicker while raising a frame frequency to roughly the two times at the time of performing a frame inversion driving.例文帳に追加

すなわち、この駆動回路一体型パネルによれば、フレーム反転駆動を行うに際して、フレーム周波数を約２倍に上げてフリッカの防止を図って、外部回路の規模を増加させたり、水平駆動回路を複雑化することはなく、高品位な表示を得ることができる。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel, a liquid crystal display device, and a liquid crystal display system that can vary display luminance over a wider range, secure a sufficient viewing angle while suppressing gradation inversion, and suppress complexing of a wiring structure.例文帳に追加

より広い範囲で表示輝度を変化させることが可能で、階調反転の発生を抑制しつつ充分な視野角を確保することが可能で、且つ、配線構造の複雑化を抑制することが可能な液晶表示パネル、液晶表示装置および液晶表示システムを提供する。 - 特許庁

Alternatively, the plating chemical containing the complexing agent and the reducing agent of ≥3 mols based on a first metal material of 1 mol mainly constituting a plating film, and prepared to ≥pH 9 is accommodated and used under the inert gas or ammonium atmosphere.例文帳に追加

あるいは、無電解メッキ処理薬液として、メッキ膜の主成分を供給する第１金属材料１モルに対してそれぞれ３モル以上の錯化剤と還元剤を含有し、ｐＨ９以上に調整された処理薬液を不活性ガスあるいはアンモニアガス雰囲気下に収容して用いる。 - 特許庁

To provide an adsorbent with a coating film which imparts the adsorption capabilities by complexing the adsorbent, while the conventional adsorbent has not such capabilities and can remove substances (for example, humus polar substances and the like in activated carbon), which can not be eliminated by the conventional adsorbent, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

吸着剤を複合化させることによって元の吸着剤にない吸着能を付与し、元の吸着剤が除去できなかった物質(例えば活性炭におけるフミン質の極性物質等)を吸着除去できるコーティング皮膜付き吸着剤及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Plating treatment is performed by using an electroless Ni plating liquid obtained by adding phosphoric acid or phosphate to the conventional electroless Ni plating liquid containing an Ni source, a reducing agent, a complexing agent or the like, so that the electronic component such as a ceramic multilayer substrate or the like is produced.例文帳に追加

Ｎｉ源、還元剤、及び錯化剤等が含有された従来の無電解Ｎｉめっき液にリン酸又はリン酸塩を添加し、該リン酸又はリン酸塩が添加された無電解Ｎｉめっき液を使用してめっき処理を施し、セラミック多層基板等の電子部品を製造する。 - 特許庁

In this noncyanic gold-tin alloy plating bath containing the salt of gold sulfite, the salt of thiosulfate, the soluble auric salt of halogenated auric acid or the like, a complexing agent of gold and soluble tin salt, a high polymer cationic surfactant and/or a high polymer cationic agent is incorporated.例文帳に追加

亜硫酸金塩、チオ硫酸金塩、ハロゲン化金酸などの可溶性金塩、金の錯化剤、可溶性スズ塩を含有する非シアン系金−スズ合金メッキ浴において、高分子カチオン系界面活性剤及び／又は高分子系カチオン性剤を含有する非シアン系金−スズ合金メッキ浴である。 - 特許庁

To provide a method for purifying peptides or proteins by incorporating the peptide or proteins into a diketopiperazine or competitive complexing agent to facilitate removal of one or more impurities (i.e. undesirable components), from the peptides or proteins.例文帳に追加

ペプチドまたはタンパク質から１つ以上の不純物（すなわち、望ましくない成分）を除去することを容易にするために、ペプチドまたはタンパク質を、ジケトピペラジンまたは競合的な複合体化薬剤中に取り込ませることによる、ペプチドまたはタンパク質を精製するための方法の提供。 - 特許庁

In a tinning bath of pH 3 to 10 in which stannous salt, at least one kind of complexing agent selected from citric acid, gluconic acid, pyrophosphoric acid, their salts and gluconolactone, aromatic aldehyde and aliphatic aldehyde are added, a prescribed nonionic surfactant is further added.例文帳に追加

第１錫塩と、クエン酸、グルコン酸、ピロリン酸、及びこれらの塩、またはグルコノラクトンから選ばれる少なくとも１種の錯化剤と、芳香族アルデヒドと、脂肪族アルデヒドとを添加したｐＨ３〜１０の錫めっき浴において、さらに、所定の非イオン系界面活性剤を添加する。 - 特許庁

When performing electroless Ni plating of the conductive part 4 formed on the surface of the ceramic prime field 1 containing the borosilicate glass, an amine compound such as glycine is added as a complexing agent to the electroless Ni plating solution used to form an Ni-P coating 5 on the conductive part 4.例文帳に追加

ホウケイ酸系ガラスを含有したセラミック素体１の表面に導電部４を形成し、該導電部４に無電解Ｎｉめっきを施す場合、錯化剤としてグリシン等のアミン化合物が添加された無電解Ｎｉめっき液を使用し、導電部４にＮｉ−Ｐ皮膜５を形成する。 - 特許庁

The composition is suitable for depositing an electroless plating catalyst on a substrate having ≤1 μm apertures comprising one or more metal salts, one or more copper complexing agents, one or more organic binders, one or more reducing agents and a base.例文帳に追加

１またはそれ以上の金属塩、１またはそれ以上の銅錯生成剤、１またはそれ以上の有機バインダー、１またはそれ以上の還元剤および塩基を含む、１μｍ以下の開口部を有する基体上に無電解メッキ触媒を堆積させるのに適した組成物および方法。 - 特許庁

The plating liquid suitable for FePt plating contains at least an Fe ion, a Pt ion and a complexing agent, wherein the molar ratio (Fe/Pt) of the Fe ion to the Pt ion is made to be 0.75≤Fe/Pt≤3.例文帳に追加

本発明は、少なくとも、Ｆｅイオン、Ｐｔイオン、錯化剤を含み、前記Ｆｅイオン濃度と前記Ｐｔイオン濃度のモル比（Ｆｅ／Ｐｔ）が０．７５≦Ｆｅ／Ｐｔ≦３であることを特徴とするめっき液を用いることによって、ＦｅＰｔをめっきする良好なめっき液を提供する。 - 特許庁

There are provided: a metal-containing azo pigment dispersant obtained by using a salt obtained by complexing an azo compound composed of naphthalenesulfonic acid, its derivative and a benzenesulfonic acid derivative with a metal; and a pigment composition containing the metal-containing azo pigment dispersant, a resin dispersant, and an organic pigment.例文帳に追加

ナフタレンスルホン酸およびその誘導体とベンゼンスルホン酸誘導体からなるアゾ化合物を金属で錯体化した塩を用いることによりなる含金アゾ顔料分散剤及び、含金アゾ顔料分散剤、樹脂分散剤及び有機顔料を含有する顔料組成物。 - 特許庁

This invention relates to the electroless copper plating liquid forming a copper film on a nickel film by substitution reaction with a nickel metal, wherein the electroless copper plating liquid does not contains a reducing agent of copper and contains a complexing agent of copper relaxing the substitution reaction.例文帳に追加

ニッケル皮膜上にニッケル金属との置換反応によって銅皮膜を形成する無電解銅めっき液であって、前記無電解銅めっき液には、銅の還元剤が非含有であると共に、前記置換反応を緩和する銅の錯化剤が含有されていることを特徴とする。 - 特許庁

A protective film for covering buried wiring itself and/or its surface for protection is formed by plating by the use of a plating solution composed of copper ions, ions of a copper alloy composed of copper and non- solid solution metal, a complexing agent, and a reducing agent which includes no alkaline metal.例文帳に追加

銅イオン、銅と非固溶の金属からなる銅合金を得る金属の金属イオン、錯化剤、及びアルカリ金属を含まない還元剤を有するめっき液を使用しためっきを施して、埋込み配線自体及び／または該配線の表面を覆って保護する保護膜を形成するようにした。 - 特許庁

For reduction of cost of a catalyst material, low-cost precursor bodies of Pt and Ru are used, to which a complexing agent forming chelates in a synthetic system under existence of a reducing agent to narrow reduction potential differences of Pt and Ru, and synthesize PtRu system catalyst with Pt and Ru atoms fully combined into an alloy.例文帳に追加

触媒材料コスト低減のため、安価なPtおよびRuの前駆区体を使用し、還元剤の存在下、合成系内にキレートを形成する錯化剤を添加することにより、PtとRuの還元電位差を狭め、PtとRu原子が十分に混合合金化したPtRu系触媒を合成する。 - 特許庁

The polishing composition is used which contains: a water-soluble resin (A) obtained by polymerizing 55-100 pts.wt. vinyl monomer containing amide group and 0-45 pts.wt. another vinyl monomer, an anti-corrosion agent, an auxiliary anti-corrosion agent, a complexing agent, an oxidizer and water.例文帳に追加

アミド基を含有するビニル単量体５５〜１００重量部とその他のビニル単量体０から４５重量部とを重合して得られる水溶性樹脂（Ａ）と、防食剤、防食補助剤、錯化剤、酸化剤及び水を含むことを特徴とする、研磨用組成物を用いる。 - 特許庁

The autocatalytic electroless gold-plating liquid is formed of an aqueous solution including; (1) a water-soluble gold compound; (2) a complexing agent; (3) a reducing agent; and (4) at least one component selected from the group consisting of a compound containing a quaternary ammonium group and a compound containing a quaternary phosphonium group.例文帳に追加

（i）水溶性金化合物、（ii）錯化剤、（iii）還元剤、並びに（iv）第四級アンモニウム基を含む化合物及び第四級ホスホニウム基を含む化合物からなる群から選ばれた少なくとも一種の成分、を含有する水溶液からなる自己触媒型無電解金めっき液。 - 特許庁

The composition comprises about 0.01 to 1.4 wt.% of available iodine, about 10 to 125 ppm of free iodine, about 0.005 to 0.5 wt.% of an iodate ion, about 0.1 to 15 wt.% of a complexing agent, about 0.004 to 0.50 wt.% of an iodide ion and has a pH of about 2 to 5.5.例文帳に追加

約０．０１〜１．４重量％の有効ヨウ素、約１０〜１２５ｐｐｍの遊離ヨウ素、約０．００５〜０．５重量％のヨウ素酸イオン、約０．１〜１５重量％の錯化剤、約０．００４〜０．５０重量％のヨウ化物イオンからなり、約２〜５．５のｐＨを持つ組成物。 - 特許庁

To provide a liquid container in which an erroneous insertion prevention means can be formed with a small number of parts, and many incompatible patterns can be formed in small space by a simple design and simple structure without enlarging and complexing the structure of the erroneous prevention means.例文帳に追加

少ない部品数で誤挿入防止手段を形成すると共に、誤挿入防止手段の構造を大型化及び複雑化せず、小さなスペースで多くの完全非互換パターンを容易な設計かつ簡素な構造で形成できる液体収容容器を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the plated powder comprises charging the core material particles into an aqueous solution including a complexing agent, dispersing the particles, and adding gold ions to the obtained dispersion liquid to displacement-deposits them to directly form the plating layer on the surface of the core material particles.例文帳に追加

このめっき粉体は、錯化剤を含む水溶液中に前記芯材粒子を投入し分散させ、得られた分散液中に金イオンを添加しこれを置換析出させて、該芯材粒子の表面に前記めっき層を直接形成することで好適に製造される。 - 特許庁

To provide constitution being resistant to disturbance and suitable for high accuracy and to prevent complexing of the constitution, increase of a manufacturing cost, or the like, in a rotary type head device having structure in which each signal system of recording and reproducing is electrically separated and a recording and reproducing device using the device.例文帳に追加

記録と再生の各信号系統を電気的に分離する構造とされた回転式ヘッド装置及びこれを用いた記録再生装置において、外乱に強く高精度化に適した構造を提供するとともに、そのために構成の複雑化やコスト上昇等を伴わないようにする。 - 特許庁

The electroless palladium-nickel bath prepared by selecting and using amine and carboxylic acid or its derivative as a complexing agent in the electroless palladium-nickel bath containing hydrazine as a reducing agent, the plating method using the same and the plated products obtained by the method.例文帳に追加

ヒドラジンを還元剤とする無電解パラジウム−ニッケルめっき浴において錯化剤としてアミンとカルボン酸またはその誘導体を選択、使用することを特徴とする無電解パラジウム−ニッケル浴およびこれを用いるめっき方法ならびにこの方法により得られるめっき製品。 - 特許庁

This replaced bismuth plating bath uses aminocarboxylic acids and thioureas as a complexing agent, in which the aminocarboxylic acids are particularly preferably a diethylenetriamine pentaacetic acid having ≥5 carboxy groups in the molecule, triethylenetetramine hexaacetic acid or hydroxyethylethylenediamine triacetic acid having a hydroxy group within the molecule.例文帳に追加

アミノカルボン酸類とチオ尿素類を錯化剤に使用する置換ビスマスメッキ浴であり、上記アミノカルボン酸類には、分子内に５個以上のカルボキシル基を有するジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、或は、分子内に水酸基を有するヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸などが特に好ましい。 - 特許庁

The electroless copper plating solution is obtained by incorporating a compound having a disulfide bond (S-S bond) into an electroless copper plating solution containing a solvent, a copper salt, a complexing agent for copper ions, a pH conditioner, and a reducing agent.例文帳に追加

課題を解決するために本発明の無電解銅めっき液は、溶媒、銅塩、銅イオンの錯化剤、ｐＨ調整剤、及び還元剤を含む無電解銅めっき液において、ジスルフィド結合（Ｓ−Ｓ結合）を有する化合物をさらに含むことをその特徴とするものである。 - 特許庁

The method for producing a charge controlling agent for toner is used for obtaining a charge controlling agent composed of an azo series chromium complex, and comprises: a stage where an azo compound and chromium lactate as a complexing agent are reacted, so as to synthesize an azo based chromium complex.例文帳に追加

トナー用荷電制御剤の製造方法は、アゾ系クロム錯体からなる荷電制御剤を得るための荷電制御剤の製造方法であって、アゾ化合物と、錯化剤として乳酸クロムとを反応させることによってアゾ系クロム錯体を合成する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the polyimide wiring board for forming the wiring part after forming a modified layer with an imide ring opened on the surface of the polyimide substrate removes a metal-ion attached to the modified layer with the use of a complexing agent solution.例文帳に追加

ポリイミド基板表面にイミド環が開環された改質層を形成した後、配線部を形成するポリイミド配線板の製造方法において、錯化剤溶液を用いて、改質層に付着する金属イオンを除去することを特徴とするポリイミド配線板の製造方法。 - 特許庁

The metal particulates 1 are suitably produced by mixing the ions of the metal, an acid aqueous solution comprising a complexing agent and polycrystal metal raw material particles made of the metal, and selectively dissolving crystal particles 4 into crystal grain boundaries 3' in the metal raw material particles.例文帳に追加

この金属微粒子１は、好適には、その金属のイオンと、錯化剤を含む酸性水溶液と、該金属からなる多結晶の金属原料粒子とを混合し、該金属原料粒子における結晶粒界３’に対して、結晶粒４を選択的に溶解させることによって製造される。 - 特許庁

Polishing is carried out using an aqueous composition useful for CMP of a semiconductor wafer containing a metal and comprising an oxidizing agent, a nonferrous inhibitor, a nonferrous complexing agent, modified cellulose, 0.001-10 wt% of copolymer blend of first copolymer and second copolymer, and the remainder of water.例文帳に追加

金属を含有する半導体ウェーハのＣＭＰに有用な水性組成物であって、酸化剤、非鉄金属のインヒビター、非鉄金属の錯化剤、改質セルロース、第一のコポリマーと第二のコポリマーとのコポリマーブレンド０．００１〜１０重量％及び残余としての水を含む組成物を使って研磨する。 - 特許庁

Alternatively, a carboxylic acid may be added to the Ni-plating solution as the complexing agents in addition to the amine compound, provided that ≥50% amine compound, calculated in terms of ligand concentration, is contained in the Ni plating solution against the total of organic compounds in the Ni plating solution.例文帳に追加

また、錯化剤としてアミン化合物に加え、カルボン酸をＮｉめっき液に添加してもよいが、その場合はＮｉめっき液中の全有機化合物に対し、アミン化合物の含有比率が配位子濃度基準で５０％以上となるようにＮｉめっき液を調製する。 - 特許庁

The polishing slurry for the copper CMP includes a first complexing agent including a heterocyclic compound forming a water-insoluble complex with copper, and a second complex agent including a heterocyclic compound forming a slightly water-soluble or water-soluble complex to leave one and more a ligand after forming the complex.例文帳に追加

銅と水不溶性錯体を形成するヘテロ環化合物を含有する第１の錯体化剤と、銅と水難溶性ないし水可溶性錯体を形成し、錯体形成後に１個以上の配位子を余すヘテロ環化合物を含有する第２の錯体化剤とを含むことを特徴とする銅のＣＭＰ用研磨スラリー。 - 特許庁

To provide a suspension which gives necessary flexural rigidity while suppressing an increment of weight to the minimum, further gives high flexural rigidity without complexing manufacturing processes and without increasing a manufacturing cost severely, a HGA provided with this suspension, and provide a HDD provided with this HGA.例文帳に追加

重量の増加を最小限に抑えつつ必要な曲げ剛性を得ることができ、さらに、製造工程が複雑化することなくかつ製造コストを大幅に上昇させることなく、高い曲げ剛性を得ることができるサスペンション、このサスペンションを備えたＨＧＡ及びこのＨＧＡを備えたＨＤＤを提供する。 - 特許庁

The porous ceramic is obtained by dissolving a compound containing at least one metal element constituting the ceramic into water or an acid to obtain an aqueous solution, then adding a complexing agent, an alcohol having at least two hydroxyl groups and an oxidant into the solution, heating the resultant solution to obtain an organometallic compound and burning/sintering the organometal compound by heating it.例文帳に追加

セラミックを構成する金属元素を含む化合物を、水または酸に溶解して水溶液とした後、水溶液に錯体形成剤、２個以上の水酸基を有するアルコール、および酸化剤を添加し加熱して有機金属化合物を得た後、有機金属化合物をさらに加熱して、燃焼させると共に焼結させる。 - 特許庁

A copper solution containing CuSO_45H_2O as a copper source, potassium sodium tartrate 4H_2O or trisodium citrate as a complexing agent, glyoxylate, glyoxylic acid or sodium phosphate as a reducing agent, a sulfur organic compound as a stabilizing agent, and a pH adjusting agent, is used to from the copper interconnection layer on the substrate.例文帳に追加

銅源としてのＣｕＳＯ_４５Ｈ_２Ｏ、錯化剤としての酒石酸カリウムナトリウム４Ｈ_２Ｏまたはクエン酸三ナトリウム、還元剤としてのグリオキシル酸塩、グリオキシル酸またはリン酸ナトリウム、安定剤としての有機硫黄化合物、およびｐＨ調節剤を含む銅溶液を使用し、基板上に銅相互接続層を形成する。 - 特許庁

A divalent copper oxide is mixed with a reducing agent in a liquid medium to produce metallic copper microparticles, in the presence of: at least one complexing agent selected from amines, nitrogen-containing heterocyclic compounds, nitriles and cyanogen compounds, ketones, amino acids and alkanolamines, or the salts or derivatives of them; and a protective colloid.例文帳に追加

アミン類、窒素含有複素環化合物、ニトリル類及びシアン化合物、ケトン類、アミノ酸類、アルカノールアミン類またはそれらの塩または誘導体から選ばれる少なくとも１種の錯化剤、及び保護コロイドの存在下で、２価の銅酸化物と還元剤とを媒液中で混合して、金属銅微粒子を生成させる。 - 特許庁

The electroless gold plating composition contains (a) one or more water soluble gold compounds; (b) one or more gold complexing agents; and (c) one or more organic stabilizer compounds of the formula: R-SO_2-Y wherein R is a 1-18C alkyl, aryl, or heteroaryl, and Y is hydrogen or a univalent cation; and (d) one or more agents for improving uniformity.例文帳に追加

ａ）１以上の水溶性金化合物；ｂ）１以上の金錯化剤；ｃ）式Ｒ‐ＳＯ_２‐Ｙの１以上の有機安定剤化合物、ここで、Ｒは（Ｃ_１〜Ｃ_１８）アルキル、アリール又はヘテロアリールであり、及びＹは水素又は一価のカチオンである；及びｄ）１以上の均一性向上剤を含む無電解金めっき組成物。 - 特許庁

(b) a complexing agent which stabilizes gold ions into a plating soln. but substantially does not dissolve nickel, cobalt or palladium and (c) a gold precipitation inhibitor capable of suppressing the partial and excessive etching of the base metal generated at the time of executing gold plating by substitution reaction with the base metal.例文帳に追加

（イ）水溶性金化合物、（ロ）めっき液中に金イオンを安定化するが、ニッケル、コバルト又はパラジウムを実質的に溶解しない錯化剤、及び（ハ）下地金属との置換反応によって金めっきを行なう際に生じる下地金属の部分的かつ過剰なエッチング又は浸食を抑制することのできる金析出抑制剤。 - 特許庁

The method includes the steps of providing an abrasive particle 32, providing a chemical including at least one of an oxidant, a corrosion inhibitor, a complexing agent and a surfactant, combining the chemical with the abrasive particle to form slurry 12, and polishing the implant 18 with the slurry.例文帳に追加

研磨粒子３２を準備するステップと、酸化体、腐食防止剤、錯化剤、および界面活性剤のうちの少なくとも１つを含む化学物質３０を準備するステップと、スラリー１２を形成するためにその研磨粒子と化学物質とを混ぜ合わせるステップと、インプラント１８をそのスラリーで研磨するステップと、を含む方法。 - 特許庁

A complex of an ion conductive liquid crystalline compound having ion complexing sites and liquid crystal phase-developing mesogene moieties, and an organic or inorganic salt is contained in a polymer network structure in which a polymerization monomer compound having a polymerizable portion and a compatibility portion with the above complex is polymerized.例文帳に追加

イオンの複合化部位と液晶相を発現させるメソゲン部位とを有するイオン伝導性液晶性化合物と、有機もしくは無機の塩との複合体が、重合可能部位と前記複合体との相溶性部位とを有する重合性モノマー化合物が重合されてなる高分子ネットワーク構造内に含有されているとする。 - 特許庁

The plating solution is used for depositing the Ni-B alloy film by electroless plating at least on a part of the wiring of electronic device equipment having buried wiring structure and contains a nickel ion, a complexing agent for the nickel ion, alkylamine borane or borohydride compound as a reducing agent for the nickel ion, and an ammonia ion (NH4+).例文帳に追加

埋め込み配線構造を有する電子デバイス装置の配線の少なくとも一部にＮｉ−Ｂ合金膜を無電解めっきで形成するめっき液であって、ニッケルイオン、ニッケルイオンの錯化剤、ニッケルイオンの還元剤としてのアルキルアミンボランまたは硼素化水素化合物及びアンモニアイオン（ＮＨ_４^＋）を含有する。 - 特許庁

In the electroless copper plating solution containing copper ions, a complexing agent for copper ions, a copper ion reducing agent, and a pH control agent, the copper ion reducing agent consists of glyoxalic acid or the salt thereof, and the electroless copper plating solution contains 0.1 to 1,000 ppm succinic acid.例文帳に追加

銅イオン、銅イオンの錯化剤、銅イオン還元剤、及びｐＨ調整剤を含む無電解銅めっき液において、前記銅イオン還元剤がグリオキシル酸又はその塩であり、前記無電解銅めっき液がコハク酸を０．１〜１０００ppm含む無電解銅めっき液、無電解銅めっき用補給液及び配線板の製造方法。 - 特許庁

The method for producing a hydrogenated polymer comprises hydrogenating the carbon-carbon unsaturated bond of a polymer in an organic solvent in the presence of the platinum family element-containing hydrogenation catalyst, then complexing the platinum family element-containing hydrogenation catalyst, adsorbing the formed complex on the adsorbent and separating adsorbent from the reaction mixture.例文帳に追加

白金族元素含有水素化触媒の存在下に、有機溶媒中で重合体の炭素−炭素不飽和結合を水素化し、次いで、前記白金族元素含有水素化触媒を錯化し、生成した錯化物を吸着剤に吸着させて反応混合物から分離することを特徴とする水素化重合体の製造方法。 - 特許庁

An organic/inorganic complex gel sufficiently exhibiting functional properties of ionic liquids while keeping the strength, elasticity, flexibility and stretchability of a gel is produced by including an ionic liquid (C) in a three-dimensional network formed by complexing a polymer of a radically polymerizable monomer (A) and a clay mineral (B).例文帳に追加

ラジカル重合性モノマー（Ａ）の重合体と粘土鉱物（Ｂ）とが複合化して形成された三次元網目の中にイオン液体（Ｃ）を包含させることにより、ゲルが有する強度、弾性、柔軟性、伸縮性を維持しながら、イオン液体が有する機能的性質を十分に発揮できる有機無機複合ゲルを得る事ができる。 - 特許庁

The organic particles is preferably made of a copolymer that is obtained by emulsion polymerization of vinyl-based monomer of 1-50 wt% and other vinyl-based monomer of 99-50 wt% in terms of weight of whole monomer, and furthermore it preferably contains a complexing agent and an oxidant.例文帳に追加

有機粒子は、全単量体の重量をベースとして、ビニル系単量体１〜５０重量％、およびその他のビニル系単量体９９〜５０重量％を乳化重合して得られる共重合体から構成されるものであることが好ましく、さらに錯化剤および酸化剤を含有してなることが好ましい。 - 特許庁