「Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(278ページ目) - Weblio英語例文検索

To realize a defect inspecting apparatus which eliminates the need for resetting of two or more different thresholds, conducts a stable inspection, improves detection precision of defective strength and enables defective strength values to be compared with one another.例文帳に追加

異なる複数の閾値の再設定の必要がなく、安定した検査ができると共に欠陥強度の検出精度を向上させ、欠陥同士の強度の比較を可能とする欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁

To provide a surface treatment of a cylinder block which can be adopted even to the cylinder block or V-engine block having journal parts without the occurrence of defect, such as a difference in level of plating films and plating scorching, on the inside surfaces of cylinder bores.例文帳に追加

シリンダボア内面にメッキ皮膜の段差やメッキ焦げ等の不良を発生させず、ジャーナル部を有するシリンダブロックやＶ型エンジンブロックにでも採用することができるシリンダブロックの表面処理方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a processing release paper having no defects, such as a crack caused by electrostatic discharge, on a releasing resin layer, and therefore make it possible to produce a good artificial leather having no defect, such as a crack, by preventing the electrostatic discharge from generating.例文帳に追加

静電気発生によるひび割れ等の欠陥を離型性樹脂層にもたず、静電気の発生を抑えてひび割れ等の欠陥のない良好な合成皮革の製造を可能とした工程剥離紙を提供する。 - 特許庁

The film-forming apparatus can prevent Se from re-vaporizing from the formed CIGS film and inhibit the film defect, because the apparatus always supply Se excessively not only in a film-forming step performed while placing a substrate 4 in a high-temperature atmosphere but also in a slow cooling step.例文帳に追加

基板4を高温下におく成膜工程だけでなく徐冷工程でもSeを常に過剰に供給することにより、形成されるCIGS膜からのSeの再蒸発を防止し、膜欠陥を抑えることができる。 - 特許庁

To provide an high qualified image display on an overall image plane, eliminating nonuniformity of brightness and defect by a beam dislocation produced by charge-up of a display spacer and nonuniformity of a printing brightness, and improving a display image quality.例文帳に追加

ディスプレイのスペーサの帯電や輝点の印刷精度むらによって生じるビームの位置ずれによる明（暗）線むらや欠陥をなくし、表示画質の改善を図り、画面全体にわたって高品質の画像を表示する。 - 特許庁

To provide an EUV exposure mask for leaving a buffer film, in which a pattern defect of an absorbing film is corrected and a decrease in a reflection rate is prevented, and to provide a pattern forming method employing the mask.例文帳に追加

緩衝膜を残すタイプのＥＵＶ露光用マスクにおいて、吸収膜のパターン欠陥が修正され、かつ、反射率の低下が防止されたマスク、およびそのマスクを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photodiode where a high integration, high density, and shallow pinning layer are formed, and a method for manufacturing this; and to provide a photodiode where any substrate surface defect is minimized and a noise is reduced, and to provide a method for manufacturing it.例文帳に追加

高集積、高濃度及び浅いピンニング層のフォトダイオード及びその製造方法並びに基板表面欠陥を最小化して、ノイズの少ないフォトダイオード及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

On the occasion of photographing a still image, when exposure has been completed and a light blocking device 12b enters in operating state, a signal received by an imaging device 13 is once supplied to a defect correction unit 17 via an A/D converter 14.例文帳に追加

静止画を撮像する際、露光が完了して遮光装置１２ｂの状態になると、撮像素子１３により受光された信号がA/D変換器１４を介して一旦欠陥補正部１７、供給される。 - 特許庁

A format area where prepits of a disc are formed is irradiated with light emitted from a light irradiation part in this defect inspection device to measure light quantity of return light from the disk detected by a photodetecting part.例文帳に追加

本欠陥検査装置の光照射部から照射された光はディスクのプリピットが形成されているフォーマット領域に照射され、光検出部で検出したディスクからの戻り光の光量が測定される。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus etc. capable of preventing defect that image data of a job having a high order of precedence must wait when transfer processes are overlapped between a work memory and non-volatile storing means such as a hard disk etc.例文帳に追加

ワークメモリとハードディスク等の不揮発性記憶手段との間での転送処理が重なった場合に、優先順位の高いジョブの画像データが待たされる不都合を防止できる画像処理装置等を提供する。 - 特許庁

To provide a high viscous material coating nozzle capable of preventing the generation of soldering defect such as bridge, soldering ball, pinhole and, the contact of nozzle tip with mounted electronic parts and the increase in working time.例文帳に追加

ブリッジ、半田ボール、ピンホール、及びテンプラ等の半田付け不良の発生、及び、実装済みの電子部品へのノズル先端の接触を防ぎ、且つ、作業時間の増大を防ぐことができる高粘度物質塗布ノズルを提供する。 - 特許庁

Each recess processed part 8 converges backlight light 52, lighting pixels operating normally in the circumference of the pixel where the bright spot defect occurs, on the side of the bright spot defective pixel to artificially generate an illumination state.例文帳に追加

この凹欠加工部８は、輝点不良が発生している画素の周囲で正常に動作している画素を照明しているバックライト光５２を当該輝点不良の画素側に集光させ、擬似的に点灯状態とする。 - 特許庁

To specify a fault/defect of a polyphase analog input circuit while capable of easily dealing with the case that rates of a main current transformer to be monitored and an auxiliary current transformer of an analog input unit have a difference.例文帳に追加

監視対象の主変流器とアナログ入力部の補助変流器との間の定格に違いがある場合にも容易に対応可能にしながら、多相アナログ入力回路の故障・異常を相別に特定する。 - 特許庁

Thus, the phenomenon that a joining tool 21 is abutted on the objects 22 prior to the backing member 23 can be prevented, and the defect in joining caused by the misalignment of the objects 22 can be eliminated.例文帳に追加

これによって接合ツール２１が裏当て部材２３よりも先に被接合物２２に当接することを防止することができ、被接合物２２の位置ずれに起因する接合不良を解消することができる。 - 特許庁

To provide a diode with reverse recovery characteristics is excellent, and breakdown voltage never deteriorates since no defect is generated on the upper main surface of a Si substrate even when wires are bonded onto an anode electrode and a manufacturing method of the same.例文帳に追加

逆回復特性が良好で、また、アノード電極上にワイヤがボンディングされる際にもＳｉ基板の上主面内に欠陥が生じないため耐圧が低下しない、ダイオードおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a resist composition, restraining the occurrence of a defect in a resist pattern after development, especially fine scum and micro-bridge and having small line edge roughness, and to provide a resist composition and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

現像後のレジストパターンのディフェクト、特に微細なスカムやマイクロブリッジの発生を抑制でき、またラインエッジラフネスの小さいレジスト組成物の製造方法、レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide stable electric characteristics and increase the reliability of a semiconductor device including an oxide semiconductor having achieved microfabrication and high integration and of a manufacturing process for the semiconductor device, and provide a technique for manufacturing the semiconductor device while suppressing a defect and increasing the yield in the manufacturing process.例文帳に追加

微細化及び高集積化を達成した酸化物半導体を用いた半導体装置、及び半導体装置の作製工程において、安定した電気的特性を付与し、高信頼性化する。 - 特許庁

The method for manufacturing the sample to observe the defect in the silicon crystal by the transmission electron microscope comprises the steps of releasing only a shallow region on the surface of the crystal, and thinning the region to the thin piece samples.例文帳に追加

シリコン結晶中の欠陥を透過型電子顕微鏡で観察するための試料作製方法であって、結晶表面の浅い領域のみを剥離させて薄片化し薄片試料とするようにした。 - 特許庁

To obtain a low non-linear single mode optical fiber capable of preventing the increment of loss due to a defect of glass and hydrogen bonding in an optical fiber having low non-linearity and a small wavelength dispersion slope and allowed to be used for wavelength multiplex transmission.例文帳に追加

波長多重伝送に使用する低非線形で波長分散の傾きも小さい光ファイバにおいて、ガラス欠陥と水素の結合による損失増加を生じない低非線形単一モード光ファイバを得ること。 - 特許庁

By the preferential growth in accordance with the off-orientation, the crystal defect 113A placed in the upstream side of the off orientation disappears (b), and thereby, a silicon carbide single crystal having fewer crystal defects can be produced.例文帳に追加

オフ方位に従う優先成長によって、オフ方位上流側に位置している結晶欠陥１１３Ａが消失し（ｂ）、結晶欠陥の少ない炭化ケイ素単結晶を製造することが可能となる。 - 特許庁

A computer is made to execute adjustment processing to add change to the features of the defect distribution pattern in the template 100, and to evaluate the validity/invalidity of a changed template 107 by using the data groups 101 and 102.例文帳に追加

テンプレート１００における欠陥分布パターンの特徴に変更を加えるとともに、データ群１０１，１０２を用いて変更後のテンプレート１０７の良否を評価する調整処理をコンピュータに実行させる。 - 特許庁

To provide a method, with which a surface defect generated in an epitaxially grown crystal can be reduced, in a production method for compound single crystal for epitaxially growing a compound single crystal layer different from a substrate.例文帳に追加

基板とは異なる化合物単結晶層をエピタキシャル成長させる化合物単結晶の製造方法であって、エピタキシャル成長させた結晶内に生じる面欠陥を低減し得る方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a blackboard, a defect intrinsic to which or the tendency of the leaving of the erasion mark of a chalk is improved and the erasability of which is favorable even when a calcium carbonate chalk is employed for writing.例文帳に追加

チョークの消去跡が残りやすいという黒板が本来的に有する欠点を改善するとともに、炭酸カルシウム製のチョークを用いて筆記した場合であっても消去性が良好な黒板を提供する。 - 特許庁

To alleviate the defect that the states of the potential of signal lines vary between the boundaries and peripheries of blocks when the signal lines on the boundary lines of the blocks receive rocking of the potential in transmitting data for each of the blocks.例文帳に追加

ブロックごとにデータを伝送する際に、ブロックの境界線上の信号線が電位の揺動を受けることで、ブロックの境目と周辺とで信号線の電位の状態が異なる不具合を軽減する。 - 特許庁

In the processes after the defect has been saved, in order to prevent the dispersion of the refreshing time of a memory cell, a baking processing for hardening an elastomer layer 10 and the top layer protective film 12 is conducted at a temperature ≤260°C.例文帳に追加

欠陥救済を行った以後の工程では、メモリセルのリフレッシュ時間のばらつきを防ぐため、エラストマー層１０、最上層保護膜１２を硬化させるためのベーク処理は、２６０℃以下の温度で行う。 - 特許庁

Since slits according to the inclination of the defect M are provided on the respective front surfaces of the projectors L1-L12 and the light receivers S1-S12, respectively, the intensity change of the transmitted light can be made remarkable to facilitate the detection.例文帳に追加

その際、投光器Ｌ１〜Ｌ１２、および受光器Ｓ１〜Ｓ１２のそれぞれの前面には欠陥Ｍの傾斜に応じたスリットが設けてあるので透過光の強度変化が顕著になり検出しやすい。 - 特許庁

To provide a method of efficiently repairing a region with a defect caused in a single-crystal semiconductor layer in forming the single-crystal semiconductor layer on a support substrate, and preventing a transistor characteristic in the region from being impaired.例文帳に追加

単結晶半導体層を支持基板上に形成する際に、単結晶半導体層に欠損が生じた領域を、効率的に修復し、かつ該領域のトランジスタ特性を損なわない方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer apparatus excellently performing transfer by reducing distortion of an elastic layer of a transfer roller and transfer defect involved with the distortion and to provide an image forming apparatus excellently forming an image and an image forming method.例文帳に追加

転写ローラーの弾性層の歪み及びその歪みに伴う転写不良を低減し、良好に転写する転写装置及び良好に画像を形成する画像形成装置及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a maskless exposure apparatus that achieves maskless direct exposure on a general-use photosensitive resin with a high throughput and no defect, and to provide an exposure method and a method for manufacturing a wiring board.例文帳に追加

汎用の感光性樹脂に対するマスクレスでの直接露光を高スループットかつ無欠陥で実現するマスクレス露光装置及びその露光方法並びに配線基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The method includes also a step for determining a reference value to be a function of burst signals for many sectors and a step for identifying a potential defect by comparing the burst measuring value of at least one sector with the reference value.例文帳に追加

その方法はまた，多数のセクタのバースト信号の関数である基準値を決定する段階と，少なくとも一セクタのバースト計測値を基準値と比較して潜在的欠陥を識別する段階とを含む。 - 特許庁

To provide an imaging unit and image sensor which prevents the occurrence of white non-gradation pixel or color reproducibility defect by complementing a sensitivity difference between a white pixel and a color pixel and can perform photographing that is not inferior in image quality, either.例文帳に追加

白画素と色画素との感度差を補うことで白とびや色再現性不良の発生を防止し、かつ、画質的にも遜色ない撮影が行える撮像ユニットおよび撮像装置を提供すること。 - 特許庁

A defect classifying means 7 is for classifying images of semiconductor chips SC determined to be non-defectives into a plurality of levels of rank according to the size of characteristic quantities representing the degree of anomalies of the semiconductor chips SC.例文帳に追加

欠陥分類手段７は、良品と判断された半導体チップＳＣの画像を対象として、半導体チップＳＣの異常の程度を表す特徴量の大きさに応じて複数段階の等級に分類する。 - 特許庁

The laser beam machining section reads out the bit of identification information marked on the object to be machined and restores the defective part of the object to be machined on the basis of the defect information corresponding to the bit of identification information.例文帳に追加

レーザ加工部は、加工対象物に刻印されている識別情報を読み取り、該識別情報に対応する不良情報に基づいて該加工対象物の不良個所の修復を行うことができる。 - 特許庁

Thus, damage on the pixel electrode layer such as scratch by the mask does not occur and the shape defect of the pixel electrode layer does not occur; therefore, a highly reliable display device performing highly fine display can be manufactured.例文帳に追加

よって、画素電極層にはマスクによる傷などの損傷が生じず、画素電極層は形状不良とならないので、高繊細な表示を行う、高信頼性な表示装置を作製することができる。 - 特許庁

To manufacture a single crystal silicon ingot having homogeneous vacancy defect density and distribution in a radial direction by removing minute vacancy defects not larger than a critical size that adversely affects the voltage-resistance characteristics of an oxide film.例文帳に追加

酸化膜耐圧特性に悪影響を及ぼす臨界サイズ以下の微細なベイカンシ欠陥を除去し、半径方向に均一なベイカンシ欠陥密度及び分布を有するシリコン単結晶インゴットを製造すること。 - 特許庁

To provide a telescope-type lift column which avoids defect in a widely known apparatus, and guarantees an exact and stable guide of the lift column simply and in a compact space at the time of bigger load.例文帳に追加

公知の装置における欠点を回避すると共に、特に簡単かつ省スペースに、リフトコラムの確実かつ安定な案内をより大きな荷重時にも保証することができるテレスコープ形リフトコラムを提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic charge image developing toner capable of effectively preventing the occurrence of photoreceptor contamination and flaws on a photoreceptor surface, suppressing an image quality defect for a long period, and providing excellent fixability and blocking resistance.例文帳に追加

感光体汚染や、感光体表面の傷の発生を効果的に防止でき、画質欠陥を長期にわたって抑制するとともに、定着性、耐ブロッキング性に優れた静電荷像現像用トナーと提供する。 - 特許庁

To provide an epitomical wafer for a hetero junction bipolar transitory for prolonged service life of HBT by reducing the crystal defect of a collector contact layer and a contact layer cow sing beta to increase and reliability.例文帳に追加

コレクタコンタクト層及びコレクタ層の結晶欠陥を減少させてベータを増加させると共に、信頼性を向上させてＨＢＴの寿命を延ばすことができるヘテロ接合バイポーラトランジスタ用エピタキシャルウェハを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical film where an optical film with high quality, no defect and high productivity can be manufactured by suppressing the peeling of cured resin from both ends area of a coating layer after curing.例文帳に追加

硬化後の塗工層の両端部領域から硬化樹脂が剥がれることが抑えられることにより、高品質で欠陥なく、かつ生産性よく光学フィルムを製造することができる製造方法を提供する。 - 特許庁

The host CPU 21 controls the drive capability of each of the output buffers 22a, 22b so as to prevent or reduce generation of a defect such as blunting of waveform, overshoot, undershoot in the supplied signals to each slave device.例文帳に追加

ホストＣＰＵ２１は、各スレーブデバイスへの供給信号に波形鈍り，オーバーシュート，アンダーシュート等の欠陥が生じることを防止または軽減するように各出力バッファ２２ａ，２２ｂのドライブ能力を制御する。 - 特許庁

To prevent satisfactory ohmic contact between a p-type nitride semiconductor and metal even if a defect occurs on the surface of the p-type nitride semiconductor worked by using a dry etching method and metal is deposited.例文帳に追加

ドライエッチング法を用いて加工したｐ型の窒化物半導体の表面に欠陥が発生し、金属を蒸着しても、ｐ型の窒化物半導体と金属の間には良好なオーミック性接触が形成されない。 - 特許庁

To obtain a projection defect repair device where a tension force acting on a polishing tape is maintained in a predetermined value, and the occurrence of the polishing defects is effectively prevented from mounting a new tape cassette to the finishing of the polishing tape.例文帳に追加

新品のテープカセットを装着してから研磨テープが終了するまで、研磨テープに作用するテンション力が所定の値に維持され、研磨不良の発生が有効に防止された突起欠陥補修装置を実現する。 - 特許庁

To suitably suppress yellowing and defect of the surface of a formed glass substrate by properly controlling the supply quantity of hydrogen in a float bath according to formation conditions such as temperature distribution or the like in the float bath.例文帳に追加

フロートバス内の水素供給量を当該フロートバス内の温度分布等の成形条件に合わせて適正に調整することで、成形されたガラス基板表面の黄変及び欠陥を好適に抑制する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus for a resin composition solution which can effectively remove particulates contained in the resin composition solution, which could become a defect factor, and can suppress the generation of defects.例文帳に追加

樹脂組成物溶液中に含まれるディフェクト要因となり得る微粒子を効果的に除去できディフェクトの発生を抑制することができる樹脂組成物溶液の製造方法、及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a linear surgical stapler including an improved lockout mechanism capable of performing clear displaying to indicate that the lockout mechanism is started and overcoming the defect of the conventional lockout mechanism.例文帳に追加

ロックアウト機構が起動されたことを明確に示す表示を与えると共に、従来のロックアウト機構の欠点を克服することができるように改良されたロックアウト機構を備えた直線状の外科用ステープラを提供する。 - 特許庁