「Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(276ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of fabricating a buffer layer, by which the thickness of a fabricated buffer layer can be more precisely controlled, the defect density is reduced, and the deposition temperature can be reduced as compared with prior art.例文帳に追加

従来技術に比較して、形成されたバッファ層の厚さをより正確に制御することができ、欠陥密度を減少させ、蒸着温度を下げることができるバッファ層を形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a light emitting element capable of suppressing occurrence of a crystal defect such as a dislocation or the like by alleviating a strain generated between a clad layer and a guide layer or a strain generated between a contact layer and the clad layer.例文帳に追加

クラッド層とガイド層との間に生じる歪み、またはコンタクト層とクラッド層との間に生じる歪みを緩和し、転位などの結晶欠陥の発生を抑制することができる発光素子を提供する。 - 特許庁

A shadow generated by the foreign matter is detected based on the picked-up foreign matter detecting image, and a position of the foreign matter is calculated based on the position of the shadow to correct an image defect caused by the foreign matter in the picked-up image.例文帳に追加

撮像された異物検出用画像から異物により生じた影を検出し、その影の位置より撮像光路上の異物の位置を算出して、撮像画像の異物による像欠陥を補正する。 - 特許庁

Of the pattern inspection device 1, a comparing inspection part 10 generates a defect candidate area D in an inspected image S by comparing the inspected image S with a reference image R.例文帳に追加

パターン検査装置１において、比較検査部１０は、被検査画像Ｓと参照画像Ｒとを比較して被検査画像Ｓにおける欠陥候補領域Ｄを特定する２値化された欠陥候補画像Ｑを生成する。 - 特許庁

To provide a glass cutter capable of suppressing the degradation in the yield in a glass cutting process step by preventing the rotation defect of wheel cutters in cutting glass substrates by using the wheel cutters, and a glass cutting method.例文帳に追加

ホイールカッターを用いてガラス基板を切断する際に、ホイールカッターの回転不良を防止し、ガラスの切断工程における歩留まり低下を抑制するガラス切断装置、及びガラス切断方法を提供する。 - 特許庁

To precisely detect, with uniform precision along the width direction, a defect on a surface of a wide inspected object moving at a high speed, by a lighting system using an optical fiber bundle.例文帳に追加

本発明は、高速で移動する広い幅の被検査物の表面の欠陥を光ファイバ束を用いた照明装置によって、幅方向に均一な精度で、且つ高精度で検出できる表面検査装置を提供する。 - 特許庁

When the filtering function and the sampling function are sequenced and registered, a filtering operation and a sampling operation are performed automatically on the basis of information on a wafer as an object to be observed, and only the defect information on the object to be observed is extracted.例文帳に追加

また、これらフィルタ、サンプリング条件をシーケンス化して登録しておくことにより、観察対象ウェハの情報により自動的にフィルタ、サンプリングを行い、観察対象欠陥情報のみを抽出する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a honeycomb structure in which an outer wall is formed with covering the outer periphery with a coating material and in which a defect such as crack generation or peeling is hardly caused in the outer wall upon drying the coating material, and to provide the coating material.例文帳に追加

コート材により外周が被覆されて外壁が形成され、その外壁の乾燥時にクラックの発生、剥離等の不具合が生じ難いハニカム構造体の製造方法、及びコート材を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method and an inspection device for inspecting quickly a defect such as a cavity, a flaw and a stain, even when a machining oil or a cleaning liquid is deposited on an inner face of an inspected cylindrical object such as an engine cylinder.例文帳に追加

エンジンシリンダなどの被検査円筒物体の内面に加工油や洗浄液が付着していたりしても、高速で、鋳巣、傷、汚れ等の欠陥を検査できるようにした欠陥検査装置及びその方法。 - 特許庁

To provide a detecting apparatus for the defect of a welded can shell, in which even the welded can shell is irradiated with light, in which the leakage of light from a welded part can be detected surely and quickly, and which is of a simple structure.例文帳に追加

溶接缶胴であっても該缶胴に光を照射して溶接部分からの光の漏れを確実に迅速に検出することができる構造簡単な溶接缶胴の不良検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sealing method combining stable paint film performance and applying workability free from discoloration of a paint film and sticking of soil to the paint film of an automobile body and moreover causing no defect in the paint film even if left for a long time after applied.例文帳に追加

車体の塗膜変色や塗膜への汚れ付着がなく、さらに塗布後長時間放置しても塗膜欠陥を発生しない安定した塗膜性能と塗布作業性を兼備したシーリング方法を提供する。 - 特許庁

To obtain an apparatus and a method, for the inspection of a pattern, in which even abnormality of size can be recognized, irrespective of the problem of the number of measuring elements and in which the defect of a graphic to be inspected can be detected with high accuracy.例文帳に追加

計測子の数の問題と無関係に，かつ，寸法の異常についても認識でき，高精度に被検図形の欠陥を検出できるパターン検査装置およびパターン検査方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a general searching method for automatically searching for a defective point in a short time as a defect-searching method for locating a defective point of a mounting substrate where an IC and electronic components are mounted.例文帳に追加

ＩＣ及び電子部品が実装された実装基板の不良箇所を特定する不良探索方法において、自動的且つ短時間に不良探索を行う汎用的な探索手法及び探索装置を提供する。 - 特許庁

The method can include a step of applying and cold working a series of spaced-apart tack welds (126) in a defect, and then applying and cold-working a series of welds between the tack welds (126).例文帳に追加

方法は、欠陥に一連の互いに離間する仮付け溶接部（１２６）を塗布し、冷間加工する工程と、次に、仮付け溶接部（１２６）の間に一連の溶接部を塗布し、冷間加工する工程とを含んでもよい。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a high quality casting having no defect at a low cost by lowering molten metal pouring temperature without damaging the molten metal fluidity at the pouring time, in the method for manufacturing the casting using a lost-foam pattern.例文帳に追加

消失模型を使用した鋳物製造方法において注湯時の湯流れ性を損なうことなく注湯温度を下げ、欠陥のない高品質な鋳物製品を低コストで製造する方法を提供する。 - 特許庁

An inspected object 50 is irradiated with an irradiation light 111 with a fringe-like pattern 190, and a defect pattern 195 appeared in response to the defective part of the inspected object is detected from the fringe-like pattern transmitted through the inspected object.例文帳に追加

縞状のパターン１９０にてなる照射光１１１を被検査物５０へ照射し、被検査物の通過した縞状パターンから、被検査物の欠陥部に応じて現れた欠陥パターン１９５を検出する。 - 特許庁

To provide a continuous casting method which can reduce a product defect in a cast slab, such as a steel slab, by promoting the float-up and the separation of non-metallic base inclusion, such as argon bubble, alumina, in the continuous casting for steel slab.例文帳に追加

鋼スラブの連続鋳造において、アルゴン気泡やアルミナなどの非金属系介在物の浮上分離を促進し、鋼スラブ等の鋳片の製品欠陥を低減し得る連続鋳造方法を提供する。 - 特許庁

To aim at a removal of a surface defect layer existing on the surface of an anode of a CCM board, protection of the anode surface, and, by extension, at prevention of rise of drive voltage of an organic EL element as well as maintenance of luminous uniformity.例文帳に追加

ＣＣＭ基板の陽極表面に存在する表面不良層を除去し、陽極表面を保護し、ひいては、有機ＥＬ素子の駆動電圧の上昇防止や発光均一性の維持を目的とする。 - 特許庁

According to a simple approach, a reflection component in the reflection elastic wave Wref on a surface S1 of the inspection object 2 is reduced and a reflection component in a cavity (defect) 21 inside the inspection object 2 can easily be detected.例文帳に追加

簡易な手法によって、反射弾性波Ｗrefにおける被検査体２の表面Ｓ１での反射成分が低減され、被検査体２内部の空隙（欠陥）２１での反射成分が検出し易くなる。 - 特許庁

To provide a photoelectric conversion device which is equipped with the optimal low reflection film in a photoelectric conversion part, wherein little smear in generated, whose breakdown voltage performance is not spoiled, and which is manufactured without generating etching damages, such as a white point defect.例文帳に追加

最適な低反射膜を光電変換部に備え、スミアの発生が少なく、耐圧性能が損なわれず、白点欠陥などのエッチングダメージを生じることなく製造できる光電変換装置を提供する。 - 特許庁

To provide a molding machine for an optical element such as a lens or the like exerting no adverse effect on a product even in the case of the occurrence of cracks which is the maximum defect of a glass mold, and also to provide a molding method using the machine.例文帳に追加

ガラスの成形型の最大の欠点である欠けやクラックが発生した場合でも、これらが製品に悪影響を及ぼすことのないレンズ等の光学素子の成形装置および成形方法を提供する。 - 特許庁

To improve such a factor as a variation in productivity caused by a characteristic defect of a circuit caused by thinning, production yields, etc., when manufacturing an integrated circuit device of which the substrate is thinned, the factors that largely affect mass production.例文帳に追加

基板を薄膜化した集積回路装置を作製する際に、薄膜化による回路の特性不良によるバラツキ、生産歩留まり等、量産化に大きく影響する要素を改善することを課題とする。 - 特許庁

To provide a patterned-knit sock with border patterns, and the like, eliminating such a defect as inferior appearance caused by extrusion of knitting yarn ends forming the patterned-knit part out of the knit structure thereof.例文帳に追加

本発明は、ボーダー柄等を有する柄編み靴下の構成において、柄部分を編成した編み糸の糸端が編み組織よりはみ出すことによる外観不良の欠点を解消することを目的としたものである。 - 特許庁

To provide a method and a device for visualizing a situation of a molding internal deformation to investigate workability and to elucidate a cause of a defect in a molding, in the working of a complicated shape of component plastically deformed three-dimensionally.例文帳に追加

３次元的に塑性変形する複雑形状部品の加工において、加工性の検討や成形品の欠陥の原因を解明するため成形品内部変形の様子を可視化する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a solid-state imaging apparatus which weakens the intensity of an electric field generated between a photodiode and a well; reduces a white defect, a dark current, and so on; and improves a photodiode characteristic of after-image or the like.例文帳に追加

フォトダイオードとウェル間に発生する電界の強度を緩和させ、白キズ・暗電流等を低減させるとともに、残像等のフォトダイオード特性を向上させた固体撮像装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method to produce a formed part excellent in a mechanical property, not generating a crack in forming as well as porosity/blister due to gas in a forming die and hardly generating a forming defect, etc.例文帳に追加

機械的特性に優れ、成形において割れが発生せず、また成形型内のガスによるポロシティ、ブリスタなどが発生しないことにより、成形不良等が生じにくい成形品を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To realize a defect inspecting apparatus which eliminates the need for resetting of two or more different thresholds, conducts a stable inspection, improves detection precision of defective strength and enables defective strength values to be compared with one another.例文帳に追加

異なる複数の閾値の再設定の必要がなく、安定した検査ができると共に欠陥強度の検出精度を向上させ、欠陥同士の強度の比較を可能とする欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁

To provide a surface treatment of a cylinder block which can be adopted even to the cylinder block or V-engine block having journal parts without the occurrence of defect, such as a difference in level of plating films and plating scorching, on the inside surfaces of cylinder bores.例文帳に追加

シリンダボア内面にメッキ皮膜の段差やメッキ焦げ等の不良を発生させず、ジャーナル部を有するシリンダブロックやＶ型エンジンブロックにでも採用することができるシリンダブロックの表面処理方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a processing release paper having no defects, such as a crack caused by electrostatic discharge, on a releasing resin layer, and therefore make it possible to produce a good artificial leather having no defect, such as a crack, by preventing the electrostatic discharge from generating.例文帳に追加

静電気発生によるひび割れ等の欠陥を離型性樹脂層にもたず、静電気の発生を抑えてひび割れ等の欠陥のない良好な合成皮革の製造を可能とした工程剥離紙を提供する。 - 特許庁

The film-forming apparatus can prevent Se from re-vaporizing from the formed CIGS film and inhibit the film defect, because the apparatus always supply Se excessively not only in a film-forming step performed while placing a substrate 4 in a high-temperature atmosphere but also in a slow cooling step.例文帳に追加

基板4を高温下におく成膜工程だけでなく徐冷工程でもSeを常に過剰に供給することにより、形成されるCIGS膜からのSeの再蒸発を防止し、膜欠陥を抑えることができる。 - 特許庁

To provide an high qualified image display on an overall image plane, eliminating nonuniformity of brightness and defect by a beam dislocation produced by charge-up of a display spacer and nonuniformity of a printing brightness, and improving a display image quality.例文帳に追加

ディスプレイのスペーサの帯電や輝点の印刷精度むらによって生じるビームの位置ずれによる明（暗）線むらや欠陥をなくし、表示画質の改善を図り、画面全体にわたって高品質の画像を表示する。 - 特許庁

To provide an EUV exposure mask for leaving a buffer film, in which a pattern defect of an absorbing film is corrected and a decrease in a reflection rate is prevented, and to provide a pattern forming method employing the mask.例文帳に追加

緩衝膜を残すタイプのＥＵＶ露光用マスクにおいて、吸収膜のパターン欠陥が修正され、かつ、反射率の低下が防止されたマスク、およびそのマスクを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photodiode where a high integration, high density, and shallow pinning layer are formed, and a method for manufacturing this; and to provide a photodiode where any substrate surface defect is minimized and a noise is reduced, and to provide a method for manufacturing it.例文帳に追加

高集積、高濃度及び浅いピンニング層のフォトダイオード及びその製造方法並びに基板表面欠陥を最小化して、ノイズの少ないフォトダイオード及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

On the occasion of photographing a still image, when exposure has been completed and a light blocking device 12b enters in operating state, a signal received by an imaging device 13 is once supplied to a defect correction unit 17 via an A/D converter 14.例文帳に追加

静止画を撮像する際、露光が完了して遮光装置１２ｂの状態になると、撮像素子１３により受光された信号がA/D変換器１４を介して一旦欠陥補正部１７、供給される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a resist composition, restraining the occurrence of a defect in a resist pattern after development, especially fine scum and micro-bridge and having small line edge roughness, and to provide a resist composition and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

現像後のレジストパターンのディフェクト、特に微細なスカムやマイクロブリッジの発生を抑制でき、またラインエッジラフネスの小さいレジスト組成物の製造方法、レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide stable electric characteristics and increase the reliability of a semiconductor device including an oxide semiconductor having achieved microfabrication and high integration and of a manufacturing process for the semiconductor device, and provide a technique for manufacturing the semiconductor device while suppressing a defect and increasing the yield in the manufacturing process.例文帳に追加

微細化及び高集積化を達成した酸化物半導体を用いた半導体装置、及び半導体装置の作製工程において、安定した電気的特性を付与し、高信頼性化する。 - 特許庁

The method for manufacturing the sample to observe the defect in the silicon crystal by the transmission electron microscope comprises the steps of releasing only a shallow region on the surface of the crystal, and thinning the region to the thin piece samples.例文帳に追加

シリコン結晶中の欠陥を透過型電子顕微鏡で観察するための試料作製方法であって、結晶表面の浅い領域のみを剥離させて薄片化し薄片試料とするようにした。 - 特許庁

To obtain a low non-linear single mode optical fiber capable of preventing the increment of loss due to a defect of glass and hydrogen bonding in an optical fiber having low non-linearity and a small wavelength dispersion slope and allowed to be used for wavelength multiplex transmission.例文帳に追加

波長多重伝送に使用する低非線形で波長分散の傾きも小さい光ファイバにおいて、ガラス欠陥と水素の結合による損失増加を生じない低非線形単一モード光ファイバを得ること。 - 特許庁

By the preferential growth in accordance with the off-orientation, the crystal defect 113A placed in the upstream side of the off orientation disappears (b), and thereby, a silicon carbide single crystal having fewer crystal defects can be produced.例文帳に追加

オフ方位に従う優先成長によって、オフ方位上流側に位置している結晶欠陥１１３Ａが消失し（ｂ）、結晶欠陥の少ない炭化ケイ素単結晶を製造することが可能となる。 - 特許庁

A computer is made to execute adjustment processing to add change to the features of the defect distribution pattern in the template 100, and to evaluate the validity/invalidity of a changed template 107 by using the data groups 101 and 102.例文帳に追加

テンプレート１００における欠陥分布パターンの特徴に変更を加えるとともに、データ群１０１，１０２を用いて変更後のテンプレート１０７の良否を評価する調整処理をコンピュータに実行させる。 - 特許庁

To provide a method, with which a surface defect generated in an epitaxially grown crystal can be reduced, in a production method for compound single crystal for epitaxially growing a compound single crystal layer different from a substrate.例文帳に追加

基板とは異なる化合物単結晶層をエピタキシャル成長させる化合物単結晶の製造方法であって、エピタキシャル成長させた結晶内に生じる面欠陥を低減し得る方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a blackboard, a defect intrinsic to which or the tendency of the leaving of the erasion mark of a chalk is improved and the erasability of which is favorable even when a calcium carbonate chalk is employed for writing.例文帳に追加

チョークの消去跡が残りやすいという黒板が本来的に有する欠点を改善するとともに、炭酸カルシウム製のチョークを用いて筆記した場合であっても消去性が良好な黒板を提供する。 - 特許庁

To alleviate the defect that the states of the potential of signal lines vary between the boundaries and peripheries of blocks when the signal lines on the boundary lines of the blocks receive rocking of the potential in transmitting data for each of the blocks.例文帳に追加

ブロックごとにデータを伝送する際に、ブロックの境界線上の信号線が電位の揺動を受けることで、ブロックの境目と周辺とで信号線の電位の状態が異なる不具合を軽減する。 - 特許庁

In the processes after the defect has been saved, in order to prevent the dispersion of the refreshing time of a memory cell, a baking processing for hardening an elastomer layer 10 and the top layer protective film 12 is conducted at a temperature ≤260°C.例文帳に追加

欠陥救済を行った以後の工程では、メモリセルのリフレッシュ時間のばらつきを防ぐため、エラストマー層１０、最上層保護膜１２を硬化させるためのベーク処理は、２６０℃以下の温度で行う。 - 特許庁

Since slits according to the inclination of the defect M are provided on the respective front surfaces of the projectors L1-L12 and the light receivers S1-S12, respectively, the intensity change of the transmitted light can be made remarkable to facilitate the detection.例文帳に追加

その際、投光器Ｌ１〜Ｌ１２、および受光器Ｓ１〜Ｓ１２のそれぞれの前面には欠陥Ｍの傾斜に応じたスリットが設けてあるので透過光の強度変化が顕著になり検出しやすい。 - 特許庁