「Expose」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a convenient AC adapter, capable of storing inserts so as not to expose them, inserting the inserts of a connector, lug, or plug socket at the front end of an extension cable for connecting them, and being used to be adapted to service environments.例文帳に追加

栓刃を収納して露出しない状態にすることができるとともに、延長ケーブルの先端のコネクタ又はプラグあるいはコンセントの栓刃を差し入れて接続することができて、使用環境に適用させて使用することができる便宜なＡＣアダプタを提供する。 - 特許庁

A first polysilicon film 4 is next formed on the gate insulating film 3, and the part of the first polysilicon film 4 formed which is within the PFET forming area is removed to expose the gate insulating film 3 from the PFET forming area 50P.例文帳に追加

続いて、ゲート絶縁膜３の上に、第１のポリシリコン膜４を形成し、形成した第１のポリシリコン膜４におけるＰＦＥＴ形成領域に含まれる部分を除去することにより、ＰＦＥＴ形成領域５０Ｐからゲート絶縁膜３を露出する。 - 特許庁

A conductive material 230 is deposited on the seed material by electroless plating so as to fill the at least one blind via, and the second surface of the substrate is polished and planarized in order to expose the conductive material of the at least one blind via.例文帳に追加

シード材料の上に導電性材料２３０を前記少なくとも一つのブラインドビアを充填するように無電解めっきし、少なくとも一つのブラインドビアの導電性材料を露出させるために基板の前記第２の表面に研磨平坦化を実施する。 - 特許庁

Not only arsenic vaporized once can be returned to a melt (single crystal) but also, due to the small amount of B2O3, the occurrence of precipitate (B13As2) is controlled by using the B2O3 in such an amount as to expose the whole surface of the upper part of the crystal to an atmosphere.例文帳に追加

また結晶上部の全表面が露出する程度の量のＢ_2 Ｏ_3 ６を用いることにより、一旦揮散したＡｓを融液（単結晶）内に戻すことが可能となるだけでなく、Ｂ_2 Ｏ_3 ６が少量であるため、析出物（Ｂ_13Ａｓ_2 ）の発生が抑えられる。 - 特許庁

The exposure system 100 irradiates an original plate 6 by an illumination optical system 4 containing the phase adjustment optical element 2 which converts linearly polarized light to non-polarized light, and projects a pattern of the original plate 6 on a substrate 8 by a projection optical system 7 to expose the substrate 8.例文帳に追加

露光装置１００は、直線偏光を無偏光化する位相調整光学素子２を含む照明光学系４によって原版６を照明し、原版６のパターンを投影光学系７によって基板８に投影して基板８を露光する。 - 特許庁

Thus, nonmetallic atoms such as oxygen atoms or the like coupled to the surface of the substrate 3 are removed by the hydrogen fluoride to expose the surface of the substrate 3, and the surface of the exposed substrate 3 is bonded to copper atoms in the mixed solution.例文帳に追加

半導体基板３の表面に結合していた酸素原子等の非金属原子が弗化水素によって除去されて半導体基板３の表面が露出し、該露出した半導体基板３の表面と上記混合水溶液中の銅原子とが結合する。 - 特許庁

The carbon nanotube is produced by growing it on a catalyst metal existing on the cut face of a laminated material which is cut to expose a lamination structure of the laminated material which is alternately laminated with the catalyst metal and a material except the catalyst metal.例文帳に追加

触媒金属と触媒金属以外の材料とを交互に積層してなる積層物に対しその積層構造が露出するように切断を行い、該積層物の切断面上の触媒金属にカーボンナノチューブを成長させるカーボンナノチューブの製造方法である。 - 特許庁

The invention relates to the methods and materials for extracting infectious pathogens from the sample, such as blood, etc., comprising a step of creating a fibrin aggregate confining the pathogens and a step of introducing a fibrin lysis reagent to expose the pathogens for analysis.例文帳に追加

病原体を閉じこめたフィブリン凝集体を形成する工程、および分析のために病原体を曝露するフィブリン溶解試薬を導入する工程を含む、血液などの試料から感染性病原体を抽出するための方法および物質。 - 特許庁

A photocatalyst composite material made by immobilizing on a substrate a zinc oxide membrane in which crystals grow to expose the (110) face of a wurtzite structure to its surface has zinc oxide doped with nitrogen.例文帳に追加

基材の上に、ウルツ鉱型構造の（110）面が表面となるように結晶成長した酸化亜鉛からなる膜が固定化された光触媒複合材であって、前記酸化亜鉛に窒素がドープされていることを特徴とする光触媒複合材を提供する。 - 特許庁

A first door 100 is provided to expose the conveyance path downstream from first longitudinal conveyor rollers 121a and 121b as junctions of the first to sixth conveyance paths R1 to R6, and rotates on an axis which extends horizontally to open and close.例文帳に追加

第１のドア１００は、第１〜第６の搬送経路Ｒ１〜Ｒ６の合流点である第１の縦搬送ローラ１２１ａ，１２１ｂよりも下流の搬送経路を露出させるために設けられ、水平方向に延びる軸を中心として回転することにより開閉する。 - 特許庁

When the top end part of the reflector welding leg part 6 is thermally fused by a hot plate, the light reflection film 5 is pushed aside along the slanted surface 6a and exfoliated, and the reflector welding leg part 6 is enabled to expose its resin part at the top end part.例文帳に追加

リフレクタ溶着脚部６の先端部を熱板によって熱溶融する際に、光反射膜５は傾斜面６ａに沿って押し退けられながら剥離され、リフレクタ溶着脚部６の樹脂を先端部に露出した状態にすることが可能となる。 - 特許庁

When a Pachinko machine is disposed in a game parlor, after turning the Pachinko machine itself, a worker turns the cover 50 via the maintenance opening 70 to expose the opening 46 and performs the maintenance work inside the discharge passage provided inside the receiving tray unit.例文帳に追加

遊技場にパチンコ機が配設された場合には、パチンコ機自体を回動させた後に、メンテナンス用開口７０を介してカバー５０を回動させることで開口４６を露呈させ、受け皿ユニットの内部設けられた排出通路の内部のメンテナンス作業を行う。 - 特許庁

A main control unit of an exposure device obtains an offset ID being identification information of correction information (offset) for image distortion to be used to expose a plate carried in from a C/D each time the plate before exposure is carried in the exposure device from the C/D (step 307).例文帳に追加

露光装置の主制御装置は、Ｃ／Ｄから露光前のプレートが露光装置に搬送される度に、Ｃ／Ｄから搬入されたプレートの露光で用いられる像歪みの補正情報（オフセット）の識別情報であるオフセットＩＤを入手する（ステップ３０７）。 - 特許庁

A photoresist film 80 is formed on semiconductor substrates 10, 20 and patterned, in order to expose a source line region 85 in a flash memory array region 90 and a polysilicon film region 40 in CMOS circuit regions 100, 110.例文帳に追加

半導体基板１０、２０上にホトレジスト膜８０を形成し、フラッシュ・メモリ・アレイ領域９０内のソース線領域８５及びＣＭＯＳ回路領域１００、１１０内の多結晶シリコン膜領域４０を露出するためにホトレジスト層８０にパターニングを施す。 - 特許庁

Furthermore, the piston 164 has a contact face 644, which can come into contact with the inner wall of the tubular cylinder 162, behind the rack 642, wherein the tubular cylinder 162 has such a length of tube as not to expose the contact section 644 in a range where the piston 164 can shift.例文帳に追加

そしてさらに、ピストン１６４は、ラック６４２の背面側において、シリンダ１６２の内壁と接触可能な接触面６４４を有し、シリンダ１６２は、ピストン１６４の移動可能範囲において、当該接触部６４４を露出させない筒長を有している。 - 特許庁

The contaminated soil fluidized around the chain saw and the injected air are mixed/agitated to expose the volatile organic compound included in the contaminated soil, and the contaminated soil is guided into the internal space, wherein the volatile organic compound is volatilized and is separated from the contaminated soil.例文帳に追加

チェーンソーの周囲で流動化した汚染土と圧入した空気とを混合・攪拌して汚染土に含まれる揮発性有機化合物を曝気させ、汚染土を内部空間に導き、内部空間内において、揮発性有機化合物を揮散させ汚染土から分離する。 - 特許庁

When the regulation by the regulation means 24 is canceled by the regulation cancel means 27, the drawer 8 is allowed to move from the second position 8B to such a third position 8C as to expose the coin storage section 10 and a bill storage section 11 from the drawer casing 7.例文帳に追加

規制解除手段２７によって規制手段２４の規制が解除されたときには、ドロア８が、第２の位置８Ｂから、硬貨収納部１０および紙幣収納部１１がドロアケーシング７から露出する第３の位置８Ｃに移動し得るように構成される。 - 特許庁

Then, the other surface side of the substrate is removed so as to expose the conductive material inside the respective recessed parts, through-holes filled with the conductive material are formed, and a lower electrode pattern, a piezoelectric thin film and an upper electrode pattern are formed on the substrate.例文帳に追加

次いで前記基板の他面側を前記各凹部内の導電性材料が露出するように除去して導電性材料が充填された貫通孔を形成し、前記基板上に前記下部電極パターン、圧電薄膜及び上部電極パターンを形成する。 - 特許庁

This composition is for liquid-repellent treatment of surfaces of components in an immersion exposure apparatus which irradiates an exposure beam to expose a base material to light via a liquid, and at least contains an organosilicon compound represented by the general formula (1) and a solvent.例文帳に追加

この組成物は、露光ビームを照射し液体を介して基材を露光する液浸露光装置の部材表面を撥液処理するための組成物であり、少なくとも下記一般式（１）で示される有機ケイ素化合物と溶剤とを含有することを特徴とする。 - 特許庁

PIQ 30 and a resist 31 are applied from the surface, and prescribed domains of the first semiconductor layer 21 and the insulating layer 22 are removed from the back surface, to thereby expose the second semiconductor layer 23 in a domain where the moving part 1 and the fixed electrodes 6, 7 are formed.例文帳に追加

表面からＰＩＱ３０及びレジスト３１を塗布し、裏面より第１の半導体層２１および絶縁層２２の所定領域を除去して可動部１と固定電極６、７を形成する領域において第２の半導体層２３が露出させる。 - 特許庁

To crystal-grow an n- or i-type group III nitride semiconductor on the surface of a p-type group III nitride semiconductor, and to expose the surface of the p-type group III nitride semiconductor without etching a part of the n- or i-type group III nitride semiconductor.例文帳に追加

ｐ型のIII族窒化物半導体の表面に、ｎ型またはｉ型のIII族窒化物半導体を結晶成長するとともに、ｎ型またはｉ型のIII族窒化物半導体の一部をエッチングしないでｐ型のIII族窒化物半導体の表面を露出させる - 特許庁

A plurality of wires, whose coveres are removed to expose a plurality of conductors, are bundled and the plurality of conductors are welded with each other to form a welded part and a moisture-blocking structure, and a moisture-blocking method between the conductors are provided.例文帳に追加

被覆を除去して複数の芯線が露出した電線を複数本束ね、前記複数の芯線部分を溶接して形成される溶接部の前記複数の芯線間を止水する電線の溶接部における芯線間止水構造と芯線間止水方法。 - 特許庁

The exposure equipment, to expose a substrate by projecting a pattern image onto the substrate via the projection optical system and the liquid, comprises a liquid removing mechanism to remove a residual liquid on a component disposed in the vicinity of an image plane of the projection optical system.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、基板を露光する露光装置であって、投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えている。 - 特許庁

In the state of turning of the main switch of a camera, the image pickup unit is set at a prescribed position so as not to expose a photographing lens 231 from the opening 5 and while shielding the opening 5 with the main body 23 of a unit the protection of the photographing lens 231 and the light shielding of an imaging device are performed.例文帳に追加

カメラのメインスイッチがオフ状態では撮像ユニット２２は撮影レンズ２３１が開口部５から露出しない所定の位置に設定され、開口部５がユニット本体２３で遮蔽されて撮影レンズ２３１の保護及び撮像素子の遮光が行われる。 - 特許庁

The rear pillar garnish 15 is provided with an abutting part 26 abutting with the rear side expansion part to be expanded, and is held to a body 1 side so as to move to expose the rear protective expansion part 44 to the inside of the vehicle when the expanded rear side expansion part is pressed to the abutting part.例文帳に追加

リヤピラーガーニッシュ１５は、膨張する後側膨張部と当接する当接部２６を備えて、膨張時の後側膨張部の当接部への押圧時に、後保護膨張部４４を車内側に露出させるように移動可能に、ボディ１側に保持されている。 - 特許庁

A conductive layer 1 containing the very fine conductive fibers formed on the molded product is formed by heating the molded product to expose the very fine conductive fibers 2 to the surface, to project the fibers from the surface or to contain the fibers in the molded product in a depth less than 100 nm from the surface.例文帳に追加

成形体に形成された極細導電繊維含有導電層１は、成形体が加熱され、極細導電繊維２を表面に露出させたり、表面から突出させたり、表面から１００ｎｍ未満の内部に含有させたりして形成される。 - 特許庁

Then an aperture of the spatial filter 18 is shifted in position, other diffracted light of high order is used as object light, and then the reference light is accordingly changed in position to expose a next element hologram without moving the photosensitive material 14.例文帳に追加

その後、空間フィルタ１８の開口の位置を移動させ、他の高次回折光を物体光として用い、それに伴い、参照光の位置も変えることにより、感光材料１４を移動させることなく、次の要素ホログラムを露光することが可能となる。 - 特許庁

A laminated paper 45, wherein a lower layer paper 2 having required displays 13, 14, and 15 and an upper layer paper 22, wherein openings 33, 34, 35, and 36 to expose the displays 13, 14, and 15 respectively are provided, are stacked one on another, is used to form at least a part of the surface of the container.例文帳に追加

所要の表示１３，１４，１５，１６を設けた下層紙２とこれらの表示１３・・・１６を露出させた開口３３，３４，３５，３６を設けた上層紙２２とを互いに貼着してなる積層紙４５を用いて表面の少なくとも一部を形成した。 - 特許庁

Then, a first form to protect a photographing lens 12, a second form to expose the photographing lens 12 without protecting it and a third state in which the correction optical system 20a in arranged in front of the photodetecting sensor in the second form are set.例文帳に追加

そして、撮影レンズ１２を保護する第１の形態と、該撮影レンズ１２を保護せずに露呈させる第２の形態と、この第２の形態に於いて上記受光センサの前方に補正光学系２０ａを配置した第３の形態とが設定可能となる。 - 特許庁

This fine concave forming method includes forming a concave in a silicon substrate by alternately repeating etching and formation of a side wall protective film, removing the side wall protective film to expose the side wall of the concave, and removing the surface layer of the exposed side wall by etching.例文帳に追加

エッチングと側壁保護膜の形成とを交互に繰り返してケイ素基板に凹部を形成し、前記側壁保護膜を除去して前記凹部の側壁を露出させ、露出した前記側壁の表層をエッチングにより除去する、ことを含む微細凹部形成方法。 - 特許庁

The density of the test image is compared and confirmed, using an image density confirming chart having a plurality of comparison images different in density levels, and a hole part provided in the vicinity of the comparison images to expose the test image when overlapped on a recording material formed with the test image.例文帳に追加

濃度レベルの異なる複数の比較用画像と、この比較用画像の近傍に設けられテスト画像が形成された記録材の上に重ね合わせた際にテスト画像を露出させるための穴部と、を有する画像濃度確認チャートを用いてテスト画像の濃度を比較、確認する。 - 特許庁

In a method of work execution for composite pavement in which slurry containing a water-hardening agent is injected and solidified in the clearances of asphalt mixtures prepared beforehand, this method is characterized in that after slurry is injected, the slurry remaining on the surface is removed before it solidifies to expose the asphalt mixtures.例文帳に追加

予め施工したアスファルト混合物の間隙に、水硬固化材を含有するスラリーを注入、固化する複合舗装の施工方法において、前記スラリーの注入後、表面に残ったスラリーを固化開始前に除去し、アスファルト混合物を露出させる施工方法である。 - 特許庁

The method for forming a thermally sprayed diamond composite film comprises thermally spraying metal-coated diamond particles at a high velocity to form the outermost or second outermost layer or an intermediate layer so as to be dispersed in an anchoring manner and allowing the diamond region to expose to the free surface of the outermost layer.例文帳に追加

ダイヤモンド複合溶射皮膜の形成方法は、メタルコートダイヤモンド粒子を高速フレーム溶射して最外層又は最外第２層ないしは中間層を形成してダイヤモンド粒子を投錨的に分散させ、かつ、最外層の自由表面にダイヤモンド領域を露出させるものである。 - 特許庁

A first resin layer 10 is formed on a substrate 30 where the first wiring pattern including a mounting land 11c is formed, the second wiring patterns 21a to 21c are formed on the first resin layer, and an opening 15 is formed in the first resin layer to expose the mounting land 11c.例文帳に追加

実装ランド１１ｃを含む第１配線パターンが形成された基板３０の上に第１の樹脂層１０を形成し、第１の樹脂層上に第２配線パターン２１ａ〜２１ｃを形成し、第１の樹脂層に開口部１５を形成し、実装ランド１１ｃを露出させる。 - 特許庁

A part of a multilayer semiconductor film in which an amorphous semiconductor film is formed on a crystalline semiconductor film is etched by using a mixed gas of Br-based gas, F-based gas, and oxygen gas so as to expose a part of the crystalline semiconductor film provided in the multilayer semiconductor film.例文帳に追加

結晶性半導体膜上に非晶質半導体膜が設けられた積層半導体膜の一部に対して、Ｂｒ系ガスと、Ｆ系ガスと、酸素ガスの混合ガスを用いてエッチングを行い、前記積層半導体膜に設けられた前記結晶性半導体膜の一部を露出させる。 - 特許庁

Following an output command signal, the output pulse including probe pulse PRO is transmitted to a laser generator 11 through output control circuit to expose a work to laser beam, and even in an output pulse-off zone the minimum output power is generated which does not affect laser beam processing.例文帳に追加

出力指令信号に基づいて出力制御回路よりプローブパルスＰＲ０を含めた出力パルスをレーザ発振器１１に与えてレーザ光をワークへ照射せしめ、出力パルスのパルスオフ区間においてもレーザ加工に影響を与えない最低出力を発生する。 - 特許庁

Part of the second etching stopper film, second insulation film, and first etching stopper film is so etched as to form a storage node hole to expose part of the first insulation film to form a second etching stopper film pattern, second insulation film pattern, and first etching stopper film pattern.例文帳に追加

第１絶縁膜の一部の表面を露出させるストレッジノードホールが形成されるように第２エッチング阻止膜、第２絶縁膜及び第１エッチング阻止膜の一部をエッチングして第２エッチング阻止膜パターン、第２絶縁膜パターン及び第１エッチング阻止膜パターンを形成する。 - 特許庁

To effectively prevent occurrence of separation and a crack of a mold resin layer around an opening on the surface of a semiconductor element, in the semiconductor element formed so as to expose a part of the surface of the semiconductor element by forming an opening on a mold resin layer molding the semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子をモールドするモールド樹脂層に開口部を設けることにより、半導体素子の表面の一部を露出させるようにしたものにあって、半導体素子の表面の開口部の周囲におけるモールド樹脂層の剥離や亀裂の発生を効果的に防止する。 - 特許庁

As the developing solution 20d reaches the bottom and near the bottom of the aperture 10w, the second resist layer 17 in the region from a part on the pad electrode 12 to the dicing line DL is reliably removed to reliably expose a part of the second insulating film 16.例文帳に追加

ここで、現像液２０ｄが開口部１０ｗの底部及びその近傍に行き渡り、当該底部のパッド電極１２の一部上からダイシングラインＤＬに至る領域の第２のレジスト層１７が確実に除去されて、第２の絶縁膜１６の一部が確実に露出される。 - 特許庁

This aligner for cathode ray tube panels is provided with a light source 36 to expose the photosensitive fluorescent surface forming layer of a face panel, and an inclination correcting lens 39 to correct inclination of a pattern printed on the photosensitive fluorescent surface forming layer with respect to the short axis Y of the face panel.例文帳に追加

陰極線管用のパネルの露光装置は、フェースパネルの感光性蛍光面形成層を露光するための光源３６と、感光性蛍光面形成層に焼き付けられるパターンのフェースパネルの短軸Ｙに対する傾斜を補正する傾斜補正レンズ３９と、を備えている。 - 特許庁

In the method of manufacturing a ferroelectric memory, a ferroelectric material film 14 formed on a lower electrode material film 12 is patterned by underetching so as not to expose the lower electrode material film 12 to form a plurality of ferroelectric sections 22 and a residual underetched film 24.例文帳に追加

強誘電体メモリの製造方法では、下部電極材料膜１２上に形成された強誘電体材料膜１４を、下部電極材料膜１２が露出しないように、アンダーエッチングによってパターニングして、複数の強誘電体部２２と、アンダーエッチング残膜２４と、を形成する。 - 特許庁

The silicon oxide film is etched in a self-matching manner using the third silicon nitride film and cover film as a mask to form an opening positioned at a periphery of the cover film and on the base region to expose the base region, and a conductive film 17a is formed.例文帳に追加

第３のシリコン窒化膜及びカバー膜をマスクとして自己整合的にシリコン酸化膜をエッチングすることで、カバー膜の周囲に位置し且つ前記ベース領域上に位置する開口部を形成し、ベース領域を露出させ、導電膜１７ａを形成する工程とを具備することを特徴とする。 - 特許庁

The semiconductor device manufacturing method of this invention comprises a process to form a metal layer 34 on a silicon substrate 10, a process to expose the metal layer 34 to plasma, and a process to form a metal silicide layer 38 by performing the heat treatment of the silicon substrate 10 and the metal layer 34.例文帳に追加

本発明は、シリコン基板１０上に金属層３４を形成する工程と、金属層３４をプラズマに晒す工程と、シリコン基板１０と金属層３４とを熱処理し金属シリサイド層３８を形成する工程と、を有する半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

The shock buffering body is made by the material which is accommodated fully in the hole of the block body when the load is acting on the tip of the shock buffering body, and the shock buffering body has elasticity which allows a part of the tip portion thereof to expose from the block body when the effect of the load disappeared.例文帳に追加

衝撃緩衝体は，衝撃緩衝体の先端に荷重が作用したとき，衝撃緩衝体がブロック体の穴内に収容される材料で作られ，衝撃緩衝体は，荷重の作用がなくなったとき，先端の一部がブロック体から露出できる弾性を有する。 - 特許庁

It becomes possible to expose a shoulder part 3a of a boat- shaped vessel 3 to radiation caused by the radiation heat from a single crystal production furnace without being shielded by a soaking tube 20, by forming a window 21 at the part of the soaking tube 20, which part situates at the lower side of the shoulder part 3a of the boat-shaped vessel 3.例文帳に追加

均熱管２０のボート状容器３の肩部３ａに位置する部分の下側に窓２１を形成することにより、単結晶製造炉５からの輻射熱が均熱管２０に遮られることなくボート状容器３の肩部３ａに輻射される。 - 特許庁