「Expose」に関連した英語例文の一覧と使い方(49ページ目) - Weblio英語例文検索

The disclosed light-emitting diode includes a tunnel layer interposed between the p-type semiconductor layer and the transparent electrode layer, an opening part formed in the transparent electrode layer so as to expose the tunnel layer to the upside, a DBR formed inside the opening part, and an electrode pad formed on the transparent electrode layer so as to cover the DBR inside the opening part.例文帳に追加

開示された発光ダイオードは、ｐ型半導体層と透明電極層との間に介在されるトンネル層と、前記トンネル層を上側に露出させるように、前記透明電極層に形成された開口部と、前記開口部内に形成されるＤＢＲと、前記開口部内のＤＢＲを覆うように、前記透明電極層上に形成される電極パッドと、を備える。 - 特許庁

The lead frames 2a, 2b are each protruded outside from the resin 3 and are bent towards the bottom 9 side of the resin 3, and a groove 11 is formed at the central section of the bottom 9 in the resin 3 to expose at least a part of each of a circumferential surface 12 and an outer bottom 13 of the recess inside the groove 11 from the resin 3.例文帳に追加

第一のリードフレーム２ａ及び第二のリードフレーム２ｂの夫々を封止樹脂３から外部に突出させて封止樹脂３の底面９側に回り込ませると共に、封止樹脂３の底面９の中央部に溝１１を形成して凹部の外周面１２及び外底面１３の夫々の少なくとも一部を封止樹脂３から溝１１内に露出させた。 - 特許庁

The semiconductor device comprises the semiconductor chip mounted on the laminate of a single-sided printed circuit board, and the electrodes of the chip connected to the electrode of the lower surface, in such a manner that the laminate has an opening provided to expose at least one part of the electrode of the lower surface and the exposed electrode is connected to the electrode of the corresponding chip via a bonding wire.例文帳に追加

片面プリント配線板の積層板に半導体チップを搭載し、該チップの電極と下面の電極とを接続する構造において、積層板には下面の電極の少なくとも一部分が露出するように設けた開口部を有するようにし、露出した電極と対応する半導体チップの電極とをボンディングワイヤにより接続する構成とした。 - 特許庁

In growing carbon nanotube on the surface of a substrate S by introducing a carbon-containing raw material gas into a vacuum chamber 11 and using a plasma CVD method, carbon nanotube is grown on the surface of the substrate by generating plasma so as not to expose the substrate to plasma P, heating the substrate at a required temperature, and contacting the raw material gas decomposed by plasma to the surface of the substrate.例文帳に追加

真空チャンバ１１に炭素含有の原料ガスを導入し、プラズマＣＶＤ法によって、カーボンナノチューブを基板Ｓ表面に気相成長させる際に、基板がプラズマＰに曝されないようにプラズマを発生させ、加熱手段によって基板を所定温度に加熱し、プラズマで分解された原料ガスを基板表面に接触させて基板表面にカーボンナノチューブを成長させる。 - 特許庁

The heat sink 40 is fixed on the case lid body 14 and the heat sink 40 is placed on top of the electronic component 26 with the case lid body 14 closed onto the case body 12, and the heat sink 40 is separated from the electronic component 26 with the case body 14 opened off the case body 12 to expose the surface 30 of the electronic component 26.例文帳に追加

ヒートシンク４０をケース蓋体１４に固定し、該ケース蓋体１４をケース本体１２に対して閉じた状態で該ヒートシンク４０が電子部品２６に重ね合わされるようにすると共に、該ケース蓋体１４を該ケース本体１２に対して開いた状態で該ヒートシンク４０が該電子部品２６から離されて該電子部品２６の表面３０が露呈されるようにした。 - 特許庁

The exposing means is formed in a unit to expose two or more photoreceptors, i.e. recording mediums so as not to correct the predicted position depending on the measured temperature, and the holder of the above unit is supported by the sideboard holding each photoreceptor with its one end fixed and its other end held free to move in the transfer direction.例文帳に追加

温度結果に応じた予測位置ずれ補正を実行することがないよう、記録媒体である複数個の感光体に露光するための露光手段が１つのユニットで形成され、前記ユニットを保持する部材が、各感光体を保持している側板で支持され、前記ユニットの保持部材は、搬送方向に対して一端が固定され、他端は搬送方向に自由に稼動可能ように保持されている - 特許庁

In the inductively coupled plasma processor for processing an article by plasma generated by the inductive coupling of electromagnetic waves through a dielectric window, the surface of the dielectric window is covered with a conductor and surrounded by the conductor, a part of the conductor is cut to expose its surface, and the inductive coupling of electromagnetic waves takes place through the exposed dielectric window.例文帳に追加

誘電体窓を介した電磁波の誘導結合によりプラズマを発生させ、被処理物を加工する誘導型プラズマ処理装置に関し、誘電体窓表面が導電体部で被覆されるとともに、導電体部で囲まれ、表面が露出するように導電体部の一部が切り欠かれており、露出する誘電体窓を介して電磁波の誘導結合が行われるように構成した。 - 特許庁

The U-shaped space part to roughly expose the whole side surfaces of a rice cooking device is composed of a rice storage 44 provided on the upper end side of the support to store rice, the supports and the legs 6.例文帳に追加

横方向に間隔を置いて配置した前後方向に長い脚と、縦方向に長い支柱と、両脚の前端部間及び両支柱間を連結する横方向に長い連結体とを一体に設け、側面視において、支柱の上端側に設けた米を貯留する貯米庫と支柱と脚によりコ状に形成して炊飯装置の横側面の略全面を露出する空間部を設けてなる洗米炊飯装置。 - 特許庁

The electrode includes a base plate, a conductor arranged on the base plate, an insulator coated on the surface of the conductor while an area for external connection is secured, a plurality of apertures with different sizes formed in the insulator to expose the conductor, and nucleic acids fixed to the conductor exposed through the plurality of apertures.例文帳に追加

電極が、基板と、前記基板上に配置した導電体と、前記導電体の表面を、外部に対する接続領域を確保しつつ被覆した絶縁体と、前記導電体を露出するよう前記絶縁体に設けられ、かつ大きさが異なる複数の開口部と、前記複数の開口部それぞれから露出した前記導電体に固定化した核酸と、を備える。 - 特許庁

The manufacturing method of semiconductor module comprises the steps of (1) bonding electronic components to a bonding sheet, (2) sealing electronic components bonded to the bonding sheet, (3) boring holes to the bonding sheet to expose the connecting terminals of the electronic components, and (4) forming the wires by connecting the exposed connecting terminals with conductive ink.例文帳に追加

（１）接着シートに電子部品を接着する工程、（２）該接着シートに接着された電子部品を樹脂により封止する工程、（３）接着シートに穿孔し、該電子部品の接続端子を露出する工程、および（４）露出した接続端子間を導電性インクで接続して配線を形成する工程を含む、半導体モジュールの製造方法、ならびに該方法により製造された半導体モジュール。 - 特許庁

In the semiconductor device externally connected to a pad electrode by wire bonding, the pad electrode is formed on a substrate having an electronic circuit formed thereon, a protective film covering the substrate and having an opening to expose the pad electrode is formed on the substrate, and a metallic layer is formed on the upper layer of the pad electrode in the opening of the protective film.例文帳に追加

パッド電極においてワイヤボンディングにより外部に接続される半導体装置であって、電子回路が形成された基板にパッド電極が形成されており、基板を被覆してパッド電極を露出する開口部が形成された保護膜が形成されており、保護膜の開口部内においてパッド電極の上層に金属層が形成されている構成とする。 - 特許庁

The subject method for manufacturing a composite material of a metal and the photocatalyst comprises a step to expose the photocatalyst 2 to the surface of a metal layer 3 for increasing the photocatalytic activity of the photocatalyst 2 by the electroplating in which a photocatalyst 2-suspended/dispersed electroplating bath or chemical electroplating bath is used or by a reducing agent-used reduction reaction.例文帳に追加

光触媒粒子２を懸濁・分散させた電気めっき浴または化学めっき浴を用いた電気めっきまたは還元剤を用いた還元反応により、光触媒能を増大させる金属層３の表面に光触媒粒子２が露出している金属と光触媒粒子の複合材を形成することにより、上記課題を解決することができる。 - 特許庁

The method of producing a circuit board, having built-in component comprises the steps of preparing a substrate including an electronic component having a terminal portion 12 on the top surface, irradiating a part of the substrate, immediately above the terminal portion 12 with a laser beam in a depressurized atmosphere to remove the part of the substrate and expose the terminal portion 12, and forming a conductive member on the terminal portion 12.例文帳に追加

上面に端子部１２を有する電子部品を内蔵した基板を準備する工程と、端子部１２の直上に位置する基板の一部に対し減圧雰囲気中にてレーザー光を照射し、該基板の一部を取り除いて端子部１２を露出する工程と、端子部１２上に導電部材を形成する工程と、を備えたことを特徴とする部品内蔵基板の製造方法。 - 特許庁

The exposure apparatus comprises a plurality of light-emitting devices (136), scanning means (112, 114) for causing light irradiated from the plurality of light-emitting devices (136) to scan on the substrate along a predetermined direction in order to expose a photosensitive substrate, and restriction members (146) disposed in each optical path of the light irradiated from the plurality of light-emitting devices (136).例文帳に追加

本発明に係る露光装置は、複数の発光素子（１３６）と、感光性の基板を露光するために、上記複数の発光素子（１３６）から照射される光を所定の走査方向に沿って基板上に走査させる走査手段（１１２、１１４）と、上記複数の発光素子（１３６）から照射される光の各光路中に配置された規制部材（１４６）とを備える。 - 特許庁

The manufacturing method includes intermittently moving the mother substrate 35 at a predetermined distance interval to expose the mother substrate 35 to the evaporation material 302 side through the slit hole 210 and to make a vapor-deposited film having a predetermined shape and an oblique orientation arrayed on the mother substrate 35 at a predetermined space.例文帳に追加

蒸着材料３０２とマザー基板３５との間に、スリット孔２１０が形成されたマスク２００を配設し、マザー基板３５を所定の距離間隔で間欠的に移動させて、スリット孔２１０を介してマザー基板３５を蒸着材料３０２側に露出することで、マザー基板３５上に一定間隔で配列された所定形状の斜方配向蒸着膜を形成する。 - 特許庁

The method comprises a step of forming a passivation film on a semiconductor substrate surface having desired element regions and a wiring layer, a step of etching the passivation film to expose pad regions for external connections, and a step of etching the wiring layer surface with a liquid containing ammonium fluoride after that etching step.例文帳に追加

所望の素子領域および配線層の形成された半導体基板表面にパッシベーション膜を形成する工程と、外部接続を行うべきパッド領域を露呈せしめるべく、前記パッシベーション膜をエッチングするエッチング加工工程と、前記エッチング加工工程後、弗化アンモニウム含有液を用いて配線層表面をエッチングする工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and an optical scanner which can effectively correct relative color shift among respective colors and output an excellent color image with small color shift even in continuous printing as to an image forming apparatus using an optical scanner which scan laser beams projected by a plurality of light source units by a deflecting means to expose a plurality of image carriers.例文帳に追加

複数の光源装置から出射されるレーザービームを偏向手段により走査し、複数の像担持体上を露光する光走査装置を用いた画像形成装置について、連続プリント時においても、各色間の相対的な色ずれを効果的に補正し、色ずれの少ない良好なカラー画像を出力できる画像形成装置、光走査装置を提供すること。 - 特許庁

The environment compatible concrete structure is so constituted that the concrete (porous concrete) structure has open pores formed by connecting porous particles 15 to each other with granular binders 11 made by mixing water, cement, concrete admixture and solid particles with each other and that the porous particles 15 expose a porous surface to distribute them into the porous concrete structure.例文帳に追加

水、セメント、コンクリート混和材料および固体粒子を練り混ぜて作った粒状結合材１１によって、多孔質粒子１５を相互に結合させて成る連続空隙を有するコンクリート（多孔質コンクリート）構造物であって、多孔質粒子１５が多孔性表面を露出して多孔質コンクリート構造物中に分布している環境適合性コンクリート構造物とする。 - 特許庁

The method of lithography patterning includes: forming a first resist pattern including a plurality of openings, on a substrate 110; forming a second resist pattern including at least one opening between the plurality of openings of the first resist pattern; and removing the first resist pattern to expose a part of the substrate 110 covered by the first resist pattern.例文帳に追加

リソグラフィパターンの形成方法は、複数の開口を含む第１のレジストパターンを基板１１０上に形成する工程と、第１のレジストパターンの複数の開口の間に、少なくとも１つの開口を含む第２のレジストパターンを形成する工程と、第１のレジストパターンを除去し、第１のレジストパターンで覆われている基板１１０の一部を露出させる工程と、を含む。 - 特許庁

The nitride series semiconductor element comprises: a plurality of mask layers 4 formed on a first GaN layer 3 at prescribed intervals so as to expose part of the first GaN layers 3 and SiCN hard to be transubstantiated under reduction atmosphere; and a second GaN layer 6 formed on the top face of the first GaN layer 3 and on the mask layer 4.例文帳に追加

この窒化物系半導体素子は、第１ＧａＮ層３上に第１ＧａＮ層３の一部を露出するように所定の間隔を隔てて形成され、還元雰囲気下で変質されにくいＳｉＣＮからなる複数のマスク層４と、マスク層４間に露出された第１ＧａＮ層３の上面上およびマスク層４上に形成された第２ＧａＮ層６とを備えている。 - 特許庁

The method of lithography patterning includes: a step of forming a first photoresist layer having at least one opening on a substrate; a step of curing the first photoresist layer; a step of forming a second photoresist layer on the substrate; a step of forming a material layer on the substrate; and a step of removing the first and second photoresist layers to expose the substrate.例文帳に追加

リソグラフィによるパターンニング方法であって、少なくとも一つの開口部を有する第１のフォトレジスト層を基板上に形成する工程と、第１のフォトレジスト層を硬化させる工程と、第２のフォトレジスト層を基板上に形成する工程と、マテリアル層を基板上に形成する工程と、第１および第２のフォトレジスト層を除去して基板を露出させる工程と、を含む。 - 特許庁

An analysis system of the living cell comprises: exposure means to expose the living cell to the external stimulus; permittivity measuring means to measure the temporal change in the permittivity of the living cell exposed to the external stimulus in the exposure process; and extraction means to extract the characteristics of the temporal change in the permittivity of the living cell measured in the permittivity measuring process.例文帳に追加

また、本発明の生細胞の分析システムは、生細胞を外部刺激に暴露する暴露手段と、暴露工程で外部刺激に暴露される生細胞の誘電率の経時的変化を測定する誘電率測定手段と、誘電率測定手段において測定される生細胞の誘電率の経時的変化パターンの特性を抽出する抽出手段とを備える。 - 特許庁

In this method, a positive electrode is formed, an insulation film is formed on the positive electrode, a plasma process is performed after forming an opening so as to expose a part of the positive electrode by etching the insulation film, a film containing an organic compound is formed on the insulation film and the exposed positive electrode, and a negative electrode is formed on the film containing the organic compound.例文帳に追加

本発明は、陽極を形成し、前記陽極上に絶縁膜を形成し、前記絶縁膜をエッチングして前記陽極の一部が露出されるように開口部を形成した後にプラズマ処理をし、前記絶縁膜及び前記露出された陽極上に有機化合物を含む膜を形成し、前記有機化合物を含む膜上に陰極を形成することを特徴とする。 - 特許庁

In one embodiment, a method for etching chromium includes steps of: preparing a film stack having a chromium layer in a processing chamber; patterning a photoresist layer on the film stack; depositing a conformal protective layer on the patterned photoresist layer; etching the conformal protective layer to expose the chromium layer through the patterned photoresist layer; and etching the chromium layer.例文帳に追加

一実施形態において、クロムをエッチングする方法は、クロム層を有する膜スタックを処理チャンバー内に用意するステップと、膜スタック上でホトレジスト層をパターン化するステップと、パターン化されたホトレジスト層に適合保護層を堆積するステップと、その適合保護層をエッチングして、パターン化されたホトレジスト層を通してクロム層を露出させるステップと、クロム層をエッチングするステップとを備えている。 - 特許庁

A two-spindle-facing type NC composite lathe 100 with both spindles 11a and 11b having a function of controlling an angle is employed to alternately hold the long workpiece 16 between the spindles 11a and 11b for sequentially feeding and drawing the long workpiece 16 in an axial direction, and to expose a preceding lathed portion and sequentially lathe the preceding lathed portion.例文帳に追加

２主軸対向型ＮＣ複合旋盤１００の両主軸１１ａ、１１ｂともに角度制御する機能を持たせたものを用い、両主軸１１ａ、１１ｂ間で長尺ワーク１６を交互に掴み換えて長尺ワーク１６を順次軸方向へ送るように引き出すと共に、先の旋削終わり部分を露出させて該先の旋削終わり部分から連続して捩れ溝Ｓを旋削加工している。 - 特許庁

The exposure apparatus to expose a photosensitive resin layer includes an optical system 310 emitting parallel light, a stage 320 having an accepting face to accept the object to be exposed having a photosensitive resin layer formed thereon, and an incident angle controlling mechanism 324 to continuously or stepwise vary the incident angle of the parallel light emitting from the optical system with respect to the accepting face of the stage.例文帳に追加

感光性樹脂層を露光するための露光装置であって、略平行光を出射する光学系３１０と、感光性樹脂層が形成された被露光物を受容する受容面を有するステージ３２０と、光学系から出射される略平行光のステージの受容面に対する入射角を連続的または段階的に変化させる入射角制御機構３２４とを備える。 - 特許庁

When a user pushes forward an operation button 8 so as to compress a coil spring 9 placed between finger insertion holes 4 and the operation button 8, a push rod 5 moves forward through a cylindrical tube 2, and grasping claws 6 at the tip of forceps expose themselves ahead of an opening 2b on the tip of cylindrical tube 2 and become open.例文帳に追加

指掛け４とボタン状操作部材８との間に配置されたコイルばね９を圧縮するようにボタン状操作部材８を前方に押し込むと、プッシュロッド５が円筒管２の内部を前方に移動するので、前端に取り付けられている把持爪６が円筒管２の前端開口部２ｂから前方に露出して、弾性復帰力により開いた状態になる。 - 特許庁

A getter stored in an opening/closing vessel 34 arranged in the primarily exhausted vacuum treatment room is scattered in a condition closing the opening/closing vessel, after a getter film is formed in its inner surface, the opening/closing vessel is opened to expose the getter film in the vacuum treatment room, its inside is secondarily exhausted by adsorbing gas in the vacuum treatment room.例文帳に追加

一次排気された真空処理室内に配置された開閉式容器３４に収納されたゲッタを、開閉式容器を閉じた状態で飛散させて開閉式容器の内面にゲッタ膜を形成した後、開閉式容器を開放してゲッタ膜を真空処理室内に露出させ、真空処理室内のガスを吸着することにより真空処理室内を二次排気する。 - 特許庁

An analysis method of a living cell includes: an exposure process to expose a living cell to an external stimulus; a permittivity measuring process to measure temporal change in permittivity of the living cell exposed to the external stimulus in the exposure process; and an extraction process to extract characteristics of the temporal change in the permittivity of the living cell measured in the permittivity measuring process.例文帳に追加

本発明の生細胞の分析方法は、生細胞を外部刺激に暴露する暴露工程と、暴露工程で外部刺激に暴露される生細胞の誘電率の経時的変化を測定する誘電率測定工程と、誘電率測定工程において測定される生細胞の誘電率の経時的変化パターンの特性を抽出する抽出工程とを含む。 - 特許庁

The method for disinfection to the surface of the object includes preparation of a bag 10 of disinfectant having a bag body 12, and the disinfectant carrier 14 air-tightly sealed in the bag body 12, unsealing of the bag body 12 of the bag 10 of disinfectant to expose the disinfectant carrier 14, and bringing the exposed disinfectant carrier 14 into contact with the surface of the object.例文帳に追加

袋体１２と袋体１２内に気密に封入された消毒薬担持体１４とを有する消毒薬袋１０を準備すること、消毒薬袋１０の袋体１２を開封して消毒薬担持体１４を露出させること、および露出した消毒薬担持体１４を対象物表面に接触させること、を包含する対象物表面の消毒方法である。 - 特許庁

An insertion hole cover 8 formed of synthetic resin into vertically long rectangular thin plate shape and provided with three oblong holes 21 bored in the center at intervals corresponding to the terminals L1-L3 and sized to simultaneously expose a set of vertically connected terminals L1-L3 and the insertion holes 16, is installed to be slidable on the front face of the wiring circuit breaker 1.例文帳に追加

そして、合成樹脂を上下方向へ長い矩形薄板状に形成してなり、その中央には、上下に連設された一組の端子Ｌ１〜Ｌ３及び差込孔１６を同時に露出可能な程度の大きさを有する長孔２１、２１・・が端子Ｌ１〜Ｌ３に対応する間隔で３つ穿設されてなる差込孔カバー８を、配線用遮断器１の前面上でスライド可能に設置した。 - 特許庁

A molten salt battery comprises: a molten salt battery body 10 where a positive electrode 1 and a negative electrode 2 are laminated alternately while interposing a separator 3 containing a molten salt as an electrolyte; and a battery case 11 composed of a flexible material and covering the molten salt battery body 10 while sealing to expose only the terminals 5, 7 from the positive electrode 1 and the negative electrode 2.例文帳に追加

電解質として溶融塩を含むセパレータ３を介して、正極１及び負極２が交互に積層される溶融塩電池本体１０と、柔軟性を有する材料によって構成され、正極１及び負極２からの端子部５，７のみを露出させて溶融塩電池本体１０を密封して覆う電池ケース１１とを備えた溶融塩電池とする。 - 特許庁

The electron beam exposure system has a plurality of the electron beam exposure devices which deflect electronic beam, based on the control data and expose a pattern on an exposed object, and a data control means which sends the control data, corresponding to the exposed pattern to the electron beam exposure devices which sends pattern information, in response to the pattern information about the exposed pattern which is sent from the electron beam exposure devices.例文帳に追加

制御データに基づいて電子ビームを偏向し、被露光物体上にパターンを露光する複数の電子ビーム露光装置と、前記電子ビーム露光装置から送られてくる露光されるパターンに関するパターン情報に応じて、前記パターン情報を送出した電子ビーム露光装置に前記露光されるパターンに対応した前記制御データを送出するデータ制御手段とを有する。 - 特許庁

The light source system is provided with a light emitting means equipped with a plurality of light sources for emitting light so as to expose the whole area of the exposure table, the light sources are installed with a prescribed arrangement in a plane nearly parallel to the exposure table so that the exposure areas of the light emitted from adjacent light sources may partly overlap each other on the exposure table.例文帳に追加

光源システムは、露光台全域を露光する光を照射する複数の光源を有する発光手段を有し、複数の光源は、露光台と略平行な面内において、互いに隣り合う光源から照射された各光の露光台上における露光領域の少なくとも一部が重なり合うような所定の配列で設けられる構成にした。 - 特許庁

The image forming device 1 has exposure systems 6, 7, 8 and 9 which use a plurality of organic electroluminescent elements as light sources, and light emitted from the organic electroluminescent elements as exposure light to expose photosensitive bodies 10, 11, 12 and 13, and varies luminous energy of the organic electroluminescent elements between the exposure systems, for example between the exposure system 6 and the exposure system 9.例文帳に追加

複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を光源とし、これらの有機エレクトロルミネッセンス素子から出射される光を露光光として用いて、感光体１０、１１、１２、１３を露光する露光装置６、７、８、９を有する画像形成装置１であって、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の発光光量を複数の露光装置間、例えば露光装置６と露光装置９の間で異なるように構成した。 - 特許庁

After a dielectric substrate 1 is formed by thermoplastic liquid crystal polymer where palladium is mixed, a resin mask 2 is formed (B) to expose a surface part where a conductive layer 4 with a specific pattern is formed and the other surface parts are covered, and the resin mask and the entire surface of the dielectric substrate 1 that is exposed from the resin mask are subjected to roughening treatment 3 (C).例文帳に追加

パラジウムを混入した熱可塑性の液晶ポリマーで誘電体基板１を成形（Ａ）した後、この誘電体基体の表面のうち、所定パターンの導体層４が形成されるべき表面部分を露出させ、これ以外の表面部分を覆うように樹脂マスク２を形成（Ｂ）し、この樹脂マスク及びこの樹脂マスクから露出している誘電体基体１の全表面を粗面化処理３する（Ｃ）。 - 特許庁

The information processing terminal includes a first cover part having a cutout for exposing an inlet, a locking pin displaceably locking to a body cover, a second cover part provided in a position opposite to the first cover part across the locking pin, and a covering member displaced to expose one of the inlet and at least one locking member, which should be removed to take the body cover out of the body, while covering the other.例文帳に追加

インレットを露出させるための切り欠きを備える第１の被覆部と、本体カバーに変位可能に係止する係止ピンと、係止ピンを挟んで第１の被覆部と対向する位置に設けられる第２の被覆部と、を有し、本体カバーを外すために外す必要がある少なくとも一つの係止部材とインレットのうちいずれか一方を露出し、他方を被覆するように変位する被覆部材を備える。 - 特許庁

The depositing method of an inert coating on a substance surface includes a first process to expose the surface to plasma discharge for an enough time to activate the surface in the presence of an inert gas, and a second process to bring the activated surface into contact with a gaseous org. silicon material without plasma and to carry out vapor deposition of the org. silicon material on the activated surface.例文帳に追加

物質表面に不活性コーティングを付着させる方法において、不活性ガスの存在下で表面を活性化するのに十分な時間前記表面をプラズマ放電に曝す第１工程、およびプラズマがない状態で、活性化された表面と、ガス状有機珪素物質とを接触させ、この活性化された表面に有機珪素物質を蒸着させる第２の工程を含む前記方法。 - 特許庁

The chip size package comprises a semiconductor chip having a plurality of electrodes 204 and 205 formed on the surface, bumps 304 and 305 formed on the electrodes 204 and 205, a resin 200 provided on the surface of the semiconductor chip to expose upper surfaces of the bumps 304 and 305, and wirings 404 and 405 formed on the resin 200 and connected electrically with the bumps 304 and 305.例文帳に追加

チップサイズパッケージにおいて、表面に複数の電極２０４，２０５が形成された半導体チップと、前記電極２０４，２０５上に形成されたバンプ３０４，３０５と、前記半導体チップの表面上に、前記バンプ３０４，３０５の上面を露出するように設けられた樹脂２００と、前記樹脂２００上に設けられた、前記バンプ３０４，３０５と電気的に接続する配線４０４，４０５と、を含む。 - 特許庁

The apparatus includes: a plurality of light-emitting diodes for generating rays to expose a photosensitive film; a light shield positioned between the light-emitting diodes to prevent noise; a stage for mounting a substrate having the photosensitive film formed thereon; and a parallelizer positioned between the plurality of light-emitting diodes and the stage for redirecting the rays from the light-emitting diodes to be perpendicularly incident upon the photosensitive film.例文帳に追加

感光性膜を露光させるための光を出力する複数の発光ダイオードと、前記複数の発光ダイオード間に位置してノイズを遮断する遮光体と、前記感光性膜の形成された基板が載置されたステージと、前記複数の発光ダイオードと前記ステージとの間に位置し、前記複数の発光ダイオードからの光を平行光に変える平行光発生部とを備える構成とした。 - 特許庁

The surface acoustic wave element 10 is provided with a substrate 11 for propagating a surface acoustic wave, an electrode 12 that is used to make energy conversion between an electric signal and the surface acoustic wave, a protection film 13 that covers the electrode and the substrate and is provided with an aperture 14 to partially expose the electrode, and the pad 15 that is electrically connected to the electrode via the aperture.例文帳に追加

弾性表面波を伝搬させるための基板１１と、該基板上に設けられ、電気信号と弾性表面波との間でエネルギー変換を行うための電極１２と、該電極および前記基板を覆い、前記電極を部分的に露出させるための開口１４が設けられた保護膜１３と、前記開口を経て前記電極に電気的に接続されるパッド１５とを備える弾性表面波素子１０。 - 特許庁

The organic electroluminescent display element 160 comprises a thin-film transistor array 174 formed on a substrate, a first electrode 200 connected to the thin-film transistor, at least one insulation film 180, 182 to expose the first electrode and partition pixels, an organic luminescent layer 178 overlapping the first electrode 200, and a second electrode 170 formed on the organic luminescent layer.例文帳に追加

【解決手段】本発明の有機電界発光表示素子160は、基板上に形成された薄膜トランジスタアレー174と、該薄膜トランジスターに接続された第1電極200と、該第1電極を露出させると共にそれぞれの画素を分離するための少なくとも一つの絶縁膜180,182と、前記第1電極200に重なる有機発光層178と、該有機発光層上に形成された第2電極170を備えることを特徴とする。 - 特許庁

The cover 3 has an attaching and detaching section 5 which is separable to expose a welding portion Xa of the welding object X.例文帳に追加

溶接対象物Ｘを予熱する装置であって、溶接対象物Ｘが設置される基台１と、基台１に載置されることにより内側に溶接対象物Ｘを収容する収容部２を形成する蓋体３と、収容部２内の溶接対象物Ｘを加熱する加熱装置４とを備え、蓋体３は、溶接対象物Ｘの溶接部分Ｘａを露出させるように分離可能な着脱部５を備えることを特徴とする。 - 特許庁

This method of thin layer analysis comprises: a process for performing oblique etching or oblique grinding for the analysis specimen having a thin-layer laminated structure to expose the measurement layer; a process for exciting characteristic X rays from the exposed measurement layer by electron beam irradiation; a process for detecting only the characteristic X rays from the measurement layer; and a process for determining the element composition from the detected X rays.例文帳に追加

本発明は、薄層の積層構造を有する分析試料に斜めエッチングまたは斜め研磨を行なって、測定層を露出させる工程；電子線照射によって、露出させた測定層から特性Ｘ線を励起させる工程；測定層からの特性Ｘ線のみを検出する工程；および検出した特性Ｘ線から元素組成を決定する工程からなる薄層の分析方法を提供する。 - 特許庁

More specifically, a protective film 13 made of a thin film which is equal to or larger than 10 μm is formed on a semiconductor substrate 11, the protective film 13 is patterned, to expose the semiconductor substrate 11 that is equal to or less than a minute region 12a to be measured, and ion beams 24 are applied to the exposed fine region for analyzing the minute regions.例文帳に追加

具体的には、半導体基板１１上に、１０μｍ以上の薄膜からなる保護膜１３を形成し、この保護膜１３をパターニングして、測定する微小領域１２ａと同等若しくはその微小領域以下の大きさの、前記半導体基板１１を露出し、この露出した前記微小領域にイオンビーム２４を照射して、前記微小領域の分析を行なうことを特徴とする分析方法である。 - 特許庁