「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(95ページ目) - Weblio英語例文検索

A luminous flux which becomes divergence light when the light rays are made incident on a hologram photosensitive material 22a is used as at least one luminous flux out of two luminous fluxes for exposing the hologram photosensitive material 22a, and the two luminous fluxes are made incident on the hologram photosensitive material 22a coaxially or approximately coaxially.例文帳に追加

ホログラム感光材料２２ａを露光する２光束のうちの少なくとも一方の光束として、ホログラム感光材料２２ａに対する入射時に発散光となる光束を用い、ホログラム感光材料２２ａに対して２光束を同軸または略同軸で入射させる。 - 特許庁

The tube pack structure is composed of a pack body with a plurality of batteries arrayed in parallel and fixed flatly and a PBC tube of a structure covering an electrode side of the batteries of the pack body and exposing others, and the lead terminal of the battery is drawn out in the parallel direction.例文帳に追加

複数の電池を並列的に並べて平面的に固定したパック本体と、該パック本体の電池の電極側を覆い他を露出する構造のＰＢＣチューブとからなり前記電池のリード端子を前記並列方向に引き出すようにしたことを特徴とするチューブパック構造とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the articles provided with the transparent conductive thin-film comprises forming a transparent conductive thin-film with an atmospheric-pressure plasma-discharge thin-film forming method, then exposing the thin film to a reducing gas, and repeating alternate exposure to the reducing gas and a thin-film forming gas.例文帳に追加

大気圧プラズマ放電薄膜形成方法を用いて、透明導電性薄膜を形成した後、還元性ガスに該薄膜を晒し、薄膜形成ガスと還元性ガスに晒すことを交互に繰り返すことを特徴とする透明導電性薄膜を有する物品の製造方法。 - 特許庁

To provide terminal structure for a battery pack preventing the entrance of dust and water drops into the inside by preventing the generation of gaps between a battery pack body and a portion of a discharge terminal exposing to the outside of the battery pack body even if plastic molding is not so accurate.例文帳に追加

この発明の課題は、プラスチック成形が多少ラフであってもバッテリ・パック本体外に露出する放電端子の個所でバッテリ・パック本体と隙間が生じないようにし、内部に塵埃、水滴が侵入しないようにするバッテリ・パックの端子構造を提供するものである。 - 特許庁

After an auxiliary electrode is formed on an upper part of a barrier wall having an opening part for exposing the pixel electrode, an organic light emitting layer is formed in a predetermined area on the pixel electrode partitioned by the barrier wall, and a common electrode contacting with the auxiliary electrode and the organic light emitting layer is formed.例文帳に追加

次いで、画素電極を露出する開口部を、隔壁上部に補助電極を、さらに隔壁によって区画された画素電極上の所定領域に有機発光層を形成し、補助電極及び有機発光層と接する共通電極を形成する。 - 特許庁

This photographing system is equipped with the silver halide camera unit for exposing a silver halide photographic sensitive body, an electronic image pickup unit attachably/detachably combined with the silver halide camera unit and incorporating a solid-state image pickup element, and a control unit combined with the electronic image pickup unit instead of the silver halide camera unit.例文帳に追加

本発明の撮影システムは、銀塩写真感光体上に撮影を行なう銀塩カメラユニットと、銀塩カメラユニットに着脱自在に組み合う、固体撮像素子が内蔵された電子撮像ユニットと、銀塩カメラユニットに代わり電子撮像ユニットと組み合う制御ユニットとを具備する。 - 特許庁

A surface treatment by which the work function of the surface of the anode 6 is increased by 0.5 eV or more is carried out by exposing to a steam of solution of acid, after the surface of the anode 6 is cleaning treated so that the contact angle of the surface of the anode 6 to water may be 10° or less.例文帳に追加

陽極６の表面の水との接触角が１０°以下になるように陽極６の表面を洗浄処理した後、酸の溶液の蒸気にさらすことにより陽極６の表面の仕事関数を０．５ｅＶ以上大きくする表面処理を行なう。 - 特許庁

The supporting structure A for a cover 20 of the shower 10 attached to the shower body 10 by exposing a face part 40, is provided with an abutting part 48 on which the rear surface of the cover 20 can abut, at the shower face 20 at a part located on the rear side of the cover 20 when the cover 20 is attached.例文帳に追加

フェイス部４０を露呈させて、シャワー１０本体に取り付けられるシャワー１０のカバー２０の支持構造Ａにおいて、カバー２０が取り付けられた際に、カバー２０の裏面側に位置する部位のシャワーフェイス２０に、カバー２０の裏面が当接可能な当接部４８を設けた。 - 特許庁

This composition for ultraviolet cross-linkable pressure sensitive adhesive is obtained by formulating (i) a pressure sensitive adhesive principal ingredient, (ii) an ultraviolet cross-linkable resin, and (iii) a photo-polymerization initiator comprising a photo iniferter; and the pressure sensitive adhesive sheet obtained by forming a thin film comprising the composition on a substrate or a peeling sheet and then exposing to an ultraviolet irradiation.例文帳に追加

(i)粘着主剤、(ii)紫外線硬化樹脂、及び(iii)光イニファーターからなる光重合開始剤を配合してなる紫外線架橋型感圧接着剤組成物；並びに前記組成物からなる薄膜を、支持体又は剥離シート上に形成し、紫外線照射してなる感圧接着剤シート。 - 特許庁

The electric charge is generated on the photo-conductive layer 1b by the exposure of the selective exposure means 9, this electric charge is moved by the electric field generated by the electric field applying means 3, the polarization direction of the ferroelectric layer 1c on the exposing section is inverted, and the polarization inverted latent image is formed.例文帳に追加

選択露光手段９の露光により光導電層１ｂに電荷が発生し、この電荷が電界印加手段３の発生する電界により移動することにより、露光部分の強誘電体層１ｃの分極方向が反転して分極反転潜像が形成される。 - 特許庁

To provide an X-ray analyzer for reducing an exposure chance during work to the utmost in consideration of that there is fear for exposing a worker to X rays if X rays are emitted carelessly in the case where the composition substance of a measuring target is measured using the X-ray analyzer.例文帳に追加

エックス線分析装置を用いて測定対象の組成物質を測定する場合に、不用意にエックス線が発せらると作業者が被曝するおそれがあることに鑑みて、作業中における被曝の機会を極力減じるエックス線分析装置を提供する。 - 特許庁

When the barrier plate 21 is formed by a photo-lithography method by using a barrier plate material 24 comprising at least a glass component and light sensitive paste, after applying, drying exposing, and developing the barrier plate material 24, a ultraviolet ray 28 is irradiated to the barrier plate 27 which has been patterned by the development, and after that, it is baked.例文帳に追加

少なくともガラス成分と感光性ペーストとからなる隔壁材料２４を用いてフォトリグラフィー法により隔壁２１を形成する際、隔壁材料２４の塗布、乾燥、露光、現像の後、現像によりパターニングされた現像後隔壁２７に紫外線２８を照射し、その後焼成する。 - 特許庁

When the irradiating area S of exposing light comes to the part of the notch N, the position of the wafer edge E with respect to the rotational angle of the wafer is operated from the eccentricity assuming that the wafer W is a circle having no notch N, and position of the irradiating area is controlled to expose the operated position.例文帳に追加

また露光光の照射領域がノッチＮの部分にかかると、上記偏心量から、ウエハＷをノッチＮが無い円と仮想した時の、ウエハ回転角度の対するウエハエッジＥの位置を演算し、該演算した位置を露光するように、照射領域の位置を制御する。 - 特許庁

The flow rate measuring device 100 comprises the sensor element 1 for measuring the flow rate of the measuring fluid, while exposing the upper surface to the measuring fluid, and a support plate 2c for mounting the sensor element 1, wherein the sensor element 1 is mounted on the support plate 2c via the shock absorber 4.例文帳に追加

上方表面が被測定流体に露出して、被測定流体の流量を測定するセンサ素子１と、センサ素子１を搭載する支持板２ｃとを備える流量測定装置１００において、センサ素子１が、衝撃吸収材４を介して、支持板２ｃに搭載される。 - 特許庁

A hand rest member 2 for placing the part around the wrist of the operator of the mouse is attached displacably, between a position stored in the bottom of the mouse and a position exposed to the vicinity of the mouse, and is set changeably in the direction of exposing from the mouse, around the rotating shaft that extends in the vertical directions of the mouse.例文帳に追加

マウスの操作者の手首付近の部分を乗せるための手乗せ部材２を、マウスの底部に収納された位置と、マウスの周囲に露出した位置との間で変位可能に、且つ、マウスの上下方向に延びた回転軸のまわりで、マウスから露出する方角を可変にして取り付ける。 - 特許庁

In the razor in which a razor blade 4 is attached while exposing a blade edge 5 to a blade attaching structure 3 extending forward from the handle 2 in the longitudinal direction of the handle 2, a mirror face part constituted by a material excepting a metal plate is arranged in at least one side face of the blade attaching structure 3 constituted of plastic.例文帳に追加

柄２の前方に延びる刃取付け構造３に、カミソリ刃４が刃先縁５を覗かせて柄２の長手方向に取り付けられているカミソリであって、プラスチックで構成された刃取付け構造３の少なくとも一方の側面に、金属板以外で構成された鏡面部が設けられている。 - 特許庁

To provide an exposure device in which a mask is not required to be replaced according to the number of pixels, the number of picture elements and/or the size of a region for forming an exposure pattern when exposing a plurality of exposed members having different number of pixels, different number of picture elements and/or different size of a region for forming an exposure pattern.例文帳に追加

画素数、絵素数及び／又は露光パターン形成用領域の大きさが異なる複数の露光対象部材を露光する場合においても、画素数、絵素数及び／又は露光パターン形成用領域の大きさに対応させてマスクを取り換える必要がない露光装置を提供する。 - 特許庁

The method also comprises steps of forming a second metal film (5) on an exposed surface (2a) of the first metal film (2) in which the exposed layer (3) is removed by etching, finally removing the film (4b) and the layer (3) and the film (2) coated by the film (4b), and thereby exposing the substrate (1).例文帳に追加

露出したレジストバリア層(3)をエッチング除去した第１の金属膜(2)の露出面(2a)に第２の金属膜(5)を形成し、最後に、第２のレジスト膜(4b)並びに第２のレジスト膜(4b)に被覆されたレジストバリア層(3)及び第１の金属膜(2)を除去して、半導体基板(1)を露出させる。 - 特許庁

In the manufacturing method of the insulating material, a process for dissolving gas in a gaseous state at an ordinary temperature and ordinary pressure into the insulating material at a high temperature and high pressure, for exposing it to an atmosphere lower than pressure in the dissolution at the reducing speed of 1 to 100 MPa/Hr, and for generating a micro gap is installed.例文帳に追加

常温・常圧で気体状態のガスを高温高圧下で絶縁材料に溶解させた後、１〜１００ＭＰａ／Ｈｒの減圧速度で溶解時の圧力より低い雰囲気にさらして微小な空隙を発生する工程を備えている絶縁材料の製造方法。 - 特許庁

The image forming apparatus includes a photoconductor 8 which bears an image to be formed by exposure, a light emission part 600 which emits light for exposing the photoconductor 8 to the light, and a light quantity measuring part 700 which measures the quantity of the light emitted from the light emission part 600 and outputs a light quantity measuring signal.例文帳に追加

露光によって形成される像を担持する感光体８と、感光体８を露光するための光を出射する発光部６００と、発光部６００による発光光量を計測し、光量計測信号を出力する光量計測部７００を備える。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which restrains wiring metals on the polished surface of a wafer from being corroded by eliminating a time spent for exposing the polished surface of a wafer to an atmosphere from a CMP (chemical mechanical polishing) process up to a cleansing process, to provide a polishing device that realizes the above CMP process, and to provide a polishing system.例文帳に追加

ＣＭＰ終了から洗浄までの間に、ウエーハの研磨面が雰囲気に暴露される時間をなくすことで、研磨面に表出する配線金属の腐食を抑制した半導体装置の製造方法、かかるＣＭＰを実現する研磨装置及び研磨システムを提供する。 - 特許庁

The thickness of a period in the periodic structure 100 is so adjusted that it corresponds to an integral multiplication of half (λa/2) the average wavelength λa of an exposing light in each of the mediums constituting the high-refraction layer 10 and the low-refraction layer 11.例文帳に追加

さらに、その１周期の層厚を、各々高屈折率層１０および低屈折率層１１を構成する各々媒質における露光光の媒質内波長を平均化した媒質内平均波長λａの半波長（λａ／２）の整数倍に対応するように調整する。 - 特許庁

The method for forming a pattern includes at least steps of: forming a photoresist film on a substrate; forming a resist protective film on the photoresist film by using the above resist protective film material; exposing; and developing by use of a developer solution.例文帳に追加

並びに、少なくとも、基板上にフォトレジスト膜を形成する工程と、該フォトレジスト膜の上に、前記レジスト保護膜材料を用いてレジスト保護膜を形成する工程と、露光する工程と、現像液を用いて現像する工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

Pixel electrodes 35 are formed in such a manner that electric characteristics of each pixel 24 randomly vary in the whole display region by exposing each division region obtained by dividing a corresponding region corresponding to the display region of a glass substrate by dividing lines intersecting each other, by using a reticle.例文帳に追加

ガラス基板の表示領域に対応する対応領域を、互いに交差する分割線により分割した分割領域毎にレチクルを用いて露光することで、画素電極35を、画素24のそれぞれの電気的特性が表示領域全体でランダムにばらつくように形成する。 - 特許庁

Insulating plate members 22 embedded with electrode metals 21A and 21B exposing the electrode surfaces from the outer surfaces are mounted on the mounting base 20, and the electrode surfaces of the electrode metals 21A and 21B and the electrode parts of the LED bare chips 23 are connected together by a wire 26 by wire bonding.例文帳に追加

さらに、外表面から電極面が露出するように電極金属２１Ａ，２１Ｂを埋設した絶縁性板状部材２２を取付ベース２０に取り付け、電極金属２１Ａ，２１Ｂの電極面とＬＥＤベアチップ２３の電極部をワイヤボンディングによるワイヤ配線２６によって結線する。 - 特許庁

To provide a farinfrared thermotherapy apparatus that can be applied to infections such as cancer systemically metastasizing and HIV, raising the body temperature in a short time and accurately retaining it for a long time without exposing a patient to an excessively high temperature.例文帳に追加

全身に転移する癌およびＨＩＶ等の難治性感染症に適応でき、患者を必要以上の高温に曝すことなく、深部体温を治療温度に短時間に昇温して精度良く長時間保持することができる遠赤外線温熱治療装置を提供する。 - 特許庁

The method is employed to accurately compart the trench section 32 on the thermal ink jet print head 10 to be etched in the region of a substrate surface 34 and performs etching by protecting the element of an adjacent liquid-drop generator from being damaged by exposing the element to a silicon etchant with a rigid mask.例文帳に追加

サーマルインクジェットプリントヘッド(10)のトレンチ部分(32)を、エッチングされる基板表面(34)の領域を正確に画定し、且つシリコンエッチング液に曝されることによる損傷から近接する液滴発生器の構成要素を保護する強靱なマスクを使用してエッチングする方法。 - 特許庁

The electrode may be the gate electrode of a transistor and may be formed on a high-k gate dielectric by depositing a first layer of conductive material, exposing that first layer to a hydrogen-containing gas, and depositing a second layer of conductive material over the first layer.例文帳に追加

この電極は、トランジスタのゲート電極であってもよく、導電材料の第１の層を堆積し、第１の層を水素含有ガスに露出し、第１の層に導電材料の第２の層を堆積することにより、ｈｉｇｈ−ｋゲート誘電体に形成されてもよい。 - 特許庁

This production method for β-phthalocyanine pigment comprises the first step of obtaining an α-crystal-containing grinding product by dry grinding a crude metal phthalocyanine and the second step of obtaining a β- phthalocyanine pigment by exposing the grinding product in the copresence of water and an aliphatic polyhydric alcohol.例文帳に追加

粗製金属フタロシアニンを乾式摩砕し得られたα型結晶含有粉砕物を得る第１工程、水と脂肪族多価アルコールの共存下にこの粉砕物を曝してβ型フタロシアニン顔料を得る第２工程からなることを特徴とするβ型フタロシアニン顔料の製造方法。 - 特許庁

The ceramic green sheet is obtained by forming electrodes on the surface of a transparent base mount, coating the top with a photosensitive slurry containing dielectric powder, exposing the photosensitive slurry to a prescribed thickness from the rear face of the base mount, then developing the slurry, and removing the base mount thereafter.例文帳に追加

透明な基台表面に電極部を形成し、更にその上に誘電体粉末を有した感光性スラリーを塗布し、基台裏面よりこの感光性スラリーを所定厚さまで露光した後、これを現像し、その後基台を除去することによってセラミックグリーンシートを得ることとする。 - 特許庁

A part of a laminated semiconductor film including an amorphous semiconductor film on a crystalline semiconductor film is etched using a mixture gas including a HBr gas, a CF_4 gas, and an oxygen gas, thereby exposing a part of the crystalline semiconductor film included in the laminated semiconductor film.例文帳に追加

結晶性半導体膜上に非晶質半導体膜が設けられた積層半導体膜の一部に対して、ＨＢｒガスと、ＣＦ_４ガスと、酸素ガスの混合ガスを含むガスを用いてエッチングを行い、前記積層半導体膜に設けられた前記結晶性半導体膜の一部を露出させる。 - 特許庁

When a user opens the lid part 3 of the desktop type personal computer 1, the user can input numerals by using the exposing ten-key pad part 6 as it is and can also input characters by pulling the included keyboard part 5 onto the desk in front of the part 4.例文帳に追加

使用者は、卓上型パーソナルコンピュータ１の蓋部３を開けると、露出しているテンキーボード部６をそのまま用いて、数字入力を行うこともできるし、内蔵されたキーボード部５を本体部４の前面にあたる卓上に引き出して文字入力を行うこともできる。 - 特許庁

To provide a constitution of a semiconductor device having: wirings for electrically connecting between a semiconductor chip and the outside, and sealed by resin; and a part exposing from the resin in the semiconductor chip without a bonding wire and a molding resin used.例文帳に追加

半導体チップと外部とを電気的に接続する配線が樹脂で封止されるとともに、半導体チップには当該樹脂より露出している部位が存在する半導体装置において、ボンディングワイヤおよびモールド樹脂を用いることなく、当該配線を樹脂で封止した構成を実現する。 - 特許庁

The flat-type fluorescent lamp includes a first substrate, internal electrodes which are formed on one surface of the first substrate apart from one another, a second substrate which is combined with one surface of the first substrate to form a plurality of discharge spaces and includes a connection portion for partially exposing the internal electrodes.例文帳に追加

平板蛍光ランプは、第１基板、第１基板の一面に互いに離隔されそれぞれ形成される内部電極、及び第１基板の一面と結合され複数の放電空間を形成し内部電極の一部を露出させるための連結部を有する第２基板を含む。 - 特許庁

The graftable spectrometer comprises an array of electronic circuits 8 and 9 for exciting and detecting nuclear magnetic resonance signals and at least one excitation coil 7 for collecting nuclear magnetic resonance signals returning with exposing the fluid sample to an exciting signal.例文帳に追加

さらに、この移植可能な装置は核磁気共鳴信号を励起および検出するための電子回路（８，９）の配列構成と、流体サンプルを励起信号に曝露して帰還する核磁気共鳴信号を収集するための少なくとも１個の励起コイル（７）とにより構成されている。 - 特許庁

The objective food or feed can be produced by seasoning a thin agar as it is or a processed agar produced by immersing thin agar in water, draining the product, immersing in hot water (or warm water), draining the product, optionally exposing to cold water (running water) and optionally freezing or cooling the product.例文帳に追加

細寒天そのもの又は細寒天を水に浸漬し水切り後、熱湯（または温湯）につけ湯切りし、又は必要に応じてこれを冷水（流水）に晒して後、更に必要であれば冷凍または冷却した寒天加工品を、味付けすることにより解決できることを見出した。 - 特許庁

A metal layer 34 formed of Ni or a Ni alloy, and a coating part 33 formed of fluorine resin particles 35 dispersed in the metal layer 34 and exposing a part of the fluorine resin particles 35 from a surface are formed on a surface of a core part of a contact.例文帳に追加

接触子の芯部の表面には、ＮｉあるいはＮｉ合金からなる金属層３４、及び、金属層３４中に分散されたフッ素樹脂粒子３５を有して形成され、フッ素樹脂粒子３５の一部が表面に露出してなる被覆部３３が形成される。 - 特許庁

After plasma treatment is applied to the surface of the metal silicide layer 13 with reducing gas, an insulating film 21 formed of silicon nitride is accumulated on the semiconductor substrate 1 including the metal silicide layer 13 in a plasma CVD method without exposing the semiconductor substrate 1 to the atmosphere.例文帳に追加

そして、金属シリサイド層１３の表面を還元性ガスのプラズマで処理してから、半導体基板１を大気中にさらすことなく、金属シリサイド層１３上を含む半導体基板１上に窒化シリコンからなる絶縁膜２１をプラズマＣＶＤ法で堆積させる。 - 特許庁

A lip plate lower part 180 is attached to the bearing base 160 by exposing a lip abutting surface 171 on a lip plate upper part 170 to a player's mouth side and by freely rotatably supporting a rotation shaft 173 of the lip plate upper part 170 between the bearing base 160.例文帳に追加

リッププレート下部１８０は、リッププレート上部１７０におけるリップ当接面１７１を吹奏者の口のある側に露出させ、軸受けベース１６０との間にリッププレート上部１７０の回動軸１７３を回動自在に支持して、軸受けベース１６０に取り付けられる。 - 特許庁

The crystalline metal oxide thin film is produced by exposing a metal oxide film containing an amorphous material to low-temperature high-frequency plasma generated by exciting at least argon gas, nitrogen gas, or gas containing those gases in a high-frequency electric field at a temperature of 180°C or lower.例文帳に追加

非晶質を含む金属酸化物膜を、温度１８０℃以下にて、高周波電界中で少なくともアルゴンガスあるいは窒素ガスあるいはそれらを含むガスを励起することにより発生する低温高周波プラズマに曝露することにより、結晶性の金属酸化物薄膜を製造する。 - 特許庁

By exposing an endothermic insulation resin having porosity in the electrode to the surface of the electrode by means of spinodal decomposition or a micell method, the resin same as one in the electrode is continuously formed on the surface of the electrode as a resin layer, so that the battery can be composed without using the conventional separator.例文帳に追加

電極内の多孔質を有す吸熱性絶縁樹脂をスピノーダル分解又はミセル方式により電極表面に浮き上がらせることにより、電極内樹脂と同樹脂が連続で電極表面に樹脂層形成され、従来のセパレータを無くした構成である。 - 特許庁

The organic EL array exposing head comprises at least one array of organic EL light emitting parts 4 arranged like pixels on a long substrate 6, and microlenses 13 formed by ink jet method on the surface of respective organic EL light emitting parts 4 opposite to the substrate 6.例文帳に追加

長尺な基板６の上に、少なくとも１列の画素状に配列された有機ＥＬ発光部４のアレイを備え、各有機ＥＬ発光部４上の基板６と反対側表面にインクジェット法により形成されたマイクロレンズ１３を備えている有機ＥＬアレイ露光ヘッド。 - 特許庁

After a chemically amplified resist film is formed on a substrate to perform a first pre-baking process, drawing is performed with charged particle beams without exposing to the atmosphere or in a state that all the amine compound absorbed into the chemically amplified resist film is substantially desorbed.例文帳に追加

基板上に化学増幅型レジスト膜を形成し、第１のプリベーク処理を行った後、大気露出させることなく、或いは化学増幅型レジスト膜に吸着されたアミン系化合物を実質的に全て脱着した状態で、荷電粒子ビームにより描画を行う。 - 特許庁

To provide a method for disassembling a component from an automatic washing machine (pulsator drive shaft and pulsator) to enable a motor and a clutch assembly to be disassembled by exposing a nut connecting the motor, a first bracket of a clutch assembly, and an inner tub, and loosening the nut.例文帳に追加

モーターとクラッチ組立体の第１ブラケットと内槽とを結合しているナットを露出させて、当該ナットを緩めて、モーターとクラッチ組立体を取り外すことを可能にすべく自動洗濯機の部品（パルセーター駆動軸及びパルセーター）取り外し方法を提供することである。 - 特許庁

A method for forming an insulation film includes: a step of forming the insulation film on a substrate; and a step of exposing the insulation film to atomic state oxygen O* or atomic state hydrogen nitride NH* which is generated with a plasma of an inert gas Kr or Ar to convert the film quality.例文帳に追加

基板上に絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜をＫｒあるいはＡｒを不活性ガスとしたプラズマに伴い生成された原子状酸素Ｏ*あるいは原子状窒化水素ＮＨ*に曝し、膜質を改変する工程とよりなる絶縁膜の形成方法を提供する。 - 特許庁