「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(94ページ目) - Weblio英語例文検索

Otherwise, the component measuring method in the exhaust gas comprises processes for: exposing the member surface to the exhaust gas; cleaning the surface exposed to the exhaust gas by the solvent; and measuring the electric conductivity of the solvent acquired in the cleaning process.例文帳に追加

また、排気ガス中の成分測定方法は、部材の表面を排気ガスに曝す工程と、前記排気ガスに曝された前記表面を溶媒で洗浄する工程と、前記洗浄する工程により得られた前記溶媒の電気伝導度を測定する工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a hydraulic shock absorber not exposing a gas filling opening of a gas filling section to the outside in which the gas filling section can be easily arranged in a cylinder or a piston rod, and gas pressure can be adjusted repeatedly using the gas filling opening in the actually using stage.例文帳に追加

ガス封入部のガス封入口を外部に露出させない油圧緩衝器において、ガス封入部をシリンダ又はピストンロッドに簡易に設けることができ、しかも実使用段階でそのガス封入口を繰り返し利用してガス圧を調整可能にすること。 - 特許庁

To provide an image processor and an image processing method and a recording medium in which image pickup conditions or exposing conditions can be judged appropriately from an image picked up by means of a digital camera or the optical information frequency distribution of an image picked up by means of a scanner.例文帳に追加

デジタルカメラで撮影された画像やスキャナで取り込まれた画像などの持つ光学情報の頻度分布から、撮影条件や露光状態を適切に判断することの可能な画像処理装置および画像処理方法および記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a light-source exposing type signboard in which a light-source device irradiates a board surface with light directed to the board surface, the light from the light-source device is irregularly reflected at the board surface and, thereby, the irregularity of brightness of a letter or an image to be light-emitted is reduced.例文帳に追加

本発明は、本発明は、光源装置が盤面へ向かう光を照射し、光源装置からの光を盤面で乱反射させることで、発光させる文字や画像の明るさのムラを低減させた光源露出型看板を提案することを目的とする。 - 特許庁

The invention relates to the method of preparing a non-human animal with taking lung cancer cells comprising a process preparing a non-human animal with reduced immune strength, a process exposing the tracheae of the non-human animal, and a process injecting the lung cancer cells into the tracheae.例文帳に追加

肺癌細胞が生着している非ヒト動物を作製する方法であって、免疫力が低下した非ヒト動物を用意する工程、非ヒト動物の気管を露出する工程、及び肺癌細胞を気管内へ注入する工程を含む前記方法。 - 特許庁

To provide an inexpensive armature unit, a motor, a stage apparatus, an exposure apparatus, and the method of manufacturing a device wherein the amount of an eddy current in a housing (cooling jacket) for covering the coil of the armature unit can be reduced, and the housing is hard to be deteriorated even when exposing it to a high-energy light beam.例文帳に追加

コイルを覆う筐体(冷却ジャケット)における渦電流の発生量を低減できると共に、高エネルギーの光線に晒されても劣化し難い安価な電機子ユニット、モータ、ステージ装置、露光装置、および、デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

Exposing staff to outside knowledge and information helps them to see their own work and their SMEs’ products in a new light, and also helps them to gain essential information. This will sow in them the seeds of new ideas, improve their technical capabilities, and all of this presumably will make a contribution to the training of innovative personnel.例文帳に追加

外部の知識や情報に触れ、新たな視点で自身の業務や自社の商品を見直したり、必要なことを学んでいくことは、新たなアイディアの種を蓄えたり、技術力を高め、ひいてはイノベーション人材の育成に寄与するものと考えられる。 - 経済産業省

The second step further comprises a step of exposing the resist in such a manner that a resist corresponding to the electrode part and the penetration electrode is exposed with a first energy quantity and that a resist corresponding to the conductive layer and the connecting part is exposed with a second energy quantity smaller than the first energy quantity.例文帳に追加

第２工程では、レジストのうち、電極部及び貫通電極に対応するレジストに対して第１エネルギ量で露光し、導電層及び接続部に対応するレジストに対して第１エネルギ量よりも小さい第２エネルギ量で露光する工程を含む。 - 特許庁

in this case, therefore, (unless he is a child, or delirious, or in some state of excitement or absorption incompatible with the full use of the reflecting faculty) he ought, I conceive, to be only warned of the danger; not forcibly prevented from exposing himself to it. 例文帳に追加

こうした場合には、だから、(その人が子供だったり、錯乱していたり、興奮したり上の空で、よく思案する能力が十分使えないというのでなければ)危険の警告を受ければ十分で、危険に身を曝すことを無理矢理防ぐ必要はないと思います。 - John Stuart Mill『自由について』

An aligner 30 is constituted of a first aligner 32A and a second aligner 32B for simultaneously exposing patterns, whose exposure conditions are different in parallel with respect to a photosensitive resist film applied to a substrate 1 held by a single-substrate holder 31, and those exposure systems are driven simultaneously and individually.例文帳に追加

露光装置３０は、単一の基板ホルダ３１に保持された基板１に塗布された感光性のレジスト膜に対して、それぞれ露光条件の異なるパターンを同時に並列して露光する第１露光系３２Ａ及び第２露光系３２Ｂを備え、かつこれらの露光系を同時に個別に駆動する。 - 特許庁

The method of manufacturing the multilayer wiring board comprises the steps of: forming the insulating layer including a porosity inorganic filler on a front surface of a circuit board composed of an insulating substrate in which the conductor circuit is formed; and exposing the porosity inorganic filler on a front surface of the insulating layer by oxidizing roughening liquid.例文帳に追加

導体回路が形成された絶縁基板からなる回路基板の表面へ、多孔質無機フィラーを含む絶縁層を形成する工程、該絶縁層を酸化性粗化液により絶縁層表面に前記多孔質無機フィラーを露出させる工程を有する多層配線板の製造方法。 - 特許庁

To provide a lithographic printing original plate that has high plate wear resistance and excellent printability and does not cause a flaw during handling or the like in a plate-making process, and a method for printing without developing the original plate by exposing it to laser on the basis of image information.例文帳に追加

取り扱い等による製版工程での傷が発生せず且つ耐刷力が高く印刷性能が良好な平版印刷版原版、および、該平版印刷版原版に画像情報に基づきレーザー露光し、現像処理を施さずに印刷することを特徴とする印刷方法を提供する。 - 特許庁

This biological activity improving processing agent has a covering layer forming material for forming a covering layer on the surface of a base material set in a place contacting water, and a ceramic particle whose surface is covered with apatite and which is fixed in a condition of exposing part thereof from the covering layer.例文帳に追加

本発明の生物活性向上処理剤は、水に接する場所に設置される基材の表面に被覆層を形成するための被覆層形成材と、表面がアパタイトにより被覆され、一部が被覆層から露出した状態で固定されるセラミック粒子とを備える。 - 特許庁

In an exposure step, the gap material mixture resist layer or a resist is exposed (S30) through a mask having an opening pattern for exposing the pattern of the barrier rib, after the step of forming the gap material mixture resist layer and/or during the step of forming the gap material mixture resist layer.例文帳に追加

露光工程において、このギャップ材混在レジスト層形成工程後及びギャップ材混在レジスト層形成工程中の少なくともいずれか一方において、隔壁のパターンを露光するための開口パターンを有するマスクを介して、ギャップ材混在レジスト層又はレジストを露光する（Ｓ３０）。 - 特許庁

The image forming apparatus 1 includes: an exposure device 10 for forming an electrostatic latent image by exposing a photoreceptor 9 whose surface has been charged; a developing device 11 for developing the formed electrostatic latent image as a toner image; and a secondary transfer section 6 for transferring the developed toner image onto the sheet.例文帳に追加

画像形成装置１は、表面を帯電された感光体９を露光して静電潜像を形成する露光装置１０と、形成された静電潜像をトナー像として現像する現像装置１１と、現像されたトナー像をシート上に転写する二次転写部６とを有する。 - 特許庁

The method comprises the step of exposing pressurized hot water to the waste mushroom culture bed to extract the mushroom component under the exposure and the step of isolating the mushroom component dissolved in the resulting extract liquid therefrom.例文帳に追加

この発明の加圧熱水処理方法は、キノコ栽培廃菌床に加圧熱水を接触させて接触させた状態でキノコ成分を抽出する抽出工程と、抽出工程を終えた抽出液から抽出液中に溶解するキノコ成分を分離する分離工程とを有する。 - 特許庁

To provide a filler filling apparatus capable of efficiently filling a filling cylinder with a filler in a short time, preventing the filler from becoming a compaction state, enhancing safety and enabling the filling with the filler without exposing the filler to the open air.例文帳に追加

充填筒への充填剤の充填を効率よく短時間で行うことができ、また、充填剤が圧密状態になることもなく、しかも安全性の向上が図れ、充填剤等を大気に暴露させずに充填することも可能な充填剤充填装置を提供する。 - 特許庁

To contribute to the increase in connection reliability by substantially eliminating the occurrence of voids when filling a clearance between a wiring substrate and a mounted component with a resin even in a package design in which the edge of an opening for exposing pads is positioned inside the edge of the mounted component.例文帳に追加

パッド部を露出させるための開口部のエッジ部が被実装体のエッジ部より内側に位置するようなパッケージデザインに対しても、当該被実装体との間隙に樹脂を充填する際にボイドの発生を実質的に無くすことができ、接続信頼性の向上に寄与すること。 - 特許庁

The etching method performed by forming a film 2 to be etched on a substrate 1, forming the resist on the film 2 to be etched, exposing and developing the resist to form a resist pattern 3, generating plasma with an etching gas containing halogen and using the resist pattern 3 as a mask to etch the film 2 to be etched is used.例文帳に追加

基板１上に被エッチング膜２を形成し、被エッチング膜２上にレジストを形成し、レジストに対し露光及び現像を行ってレジストパターン３を形成し、ハロゲンを含むエッチングガスによりプラズマを発生させてレジストパターン３をマスクとして被エッチング膜２をエッチングするエッチング方法を用いる。 - 特許庁

Since a cover member CV has notches CVa, CVb exposing a first semiconductor laser LD1 and a laser 2 laser 1 package 2L1P, peripheral parts can be approached to the first semiconductor laser D1 and the 2laser1 package 2L1P as much as possible, and thereby, compact constitution can be obtained.例文帳に追加

カバー部材ＣＶは、第１半導体レーザＬＤ１とレーザ２レーザ１パッケージ２Ｌ１Ｐを露出する切欠ＣＶａ、ＣＶｂを有するので、周囲部品を極力、第１半導体レーザＬＤ１と２レーザ１パッケージ２Ｌ１Ｐまで接近させることができるため、コンパクトな構成を提供できる。 - 特許庁

Adjacent LED chips 80 are provided such that a driving time difference for exposing or reading the image at an identical position between the adjacent LED chips 80 is set to be a value which is an integer multiple number of a least common multiple of a plurality of vibration cycles generated by the driving mechanism.例文帳に追加

隣接する各ＬＥＤチップ８０は、この各ＬＥＤチップ８０が同一点に画像を露光する駆動時間差あるいは同一点の画像を読取る駆動時間差が駆動機構から生じる複数の振動周期の最小公倍数の整数倍となるように設定されている。 - 特許庁

Upon forming a gate composed of a gate electrode and a gate wiring, only the gate electrode pattern 12 is formed by a double exposure processing using a first mask 1 and a second mask 2, and thereafter the gate wiring pattern 13 is formed by an exposing processing using a third mask 3.例文帳に追加

ゲート電極及びゲート配線からなるゲートを形成するに際して、第１のマスク１及び第２のマスク２を用いた二重露光処理により、ゲート電極パターン１２のみを形成した後、第３のマスク３を用いた露光処理により、ゲート配線パターン１３を形成する。 - 特許庁

This method for oxidizing the organic pigment comprises dispersing the organic pigment in an aqueous medium and then exposing the dispersed pigment to an ultrasonic wave-radiating treatment, thereby introducing carboxylic acids or their salts to the exposed pigment in an amount of 3 to 10 micro equivalents per square meter of the pigment surfaces.例文帳に追加

水性媒体中に有機顔料を分散し、超音波放射に該分散顔料を暴露し、それにより、暴露された顔料に該顔料表面の１平方メートル当たり３から１０マイクロ当量のカルボン酸又はそれらの塩を含ませることを含む、有機顔料を酸化させる方法。 - 特許庁

Thereby, eve when a part of the indication area of the display of the indication device is shielded by the center console part, information, for example audio information useful for users other than navigation information is provided using the exposing area, which is not shielded.例文帳に追加

このことにより、ディスプレイの表示領域の一部がセンターコンソール部に隠蔽されている場合でも、隠蔽されていない領域である露出領域を利用して、例えばオーディオ情報といったナビゲーション情報以外のユーザにとって有益な情報を提供することができる。 - 特許庁

To provide an anticorrosive coating composition imparting an optional color to the finish of a coated film surface without cracking or exposing a color tone of a filler on the coated film surface even when the filler such as glass cullet powder or disposed PET bottle powder is used.例文帳に追加

ガラスカレット粉末や廃棄されたＰＥＴボトル粉末等の充填材を用いても、クラックが入ったり、充填材の色調が塗膜に表面に現れたりせずに塗膜表面の仕上がりを任意の色に着色しうる防蝕用塗料組成物を提供すること。 - 特許庁

The whole numerical aperture is heightened by changing the aperture pattern of a black matrix positioned so as to overlap with a region other than an aperture part exposing a main region of the pixel region into a structure having corner parts to increase the aperture region at the corner parts.例文帳に追加

特に、画素領域の主領域を露出させる開口部があり、開口部以外の領域と重なるように位置するブラックマトリックスの開口部パターンを、角部を有する構造に変更することによって、角部での開口領域の増大により、全体の開口率を高める。 - 特許庁

This manufacturing method includes a process of forming a dielectric film 5 including any of titanium, strontium, and barium as a constituent element on a substrate 1, a process of exposing the dielectric film 5 to the plasma of gas for etching including coloring, and a process of processing the plasma-exposed surface of the dielectric film 5 with oxidizing gas.例文帳に追加

基板１上にチタン、ストロンチウム及びバリウムのいずれかを構成元素として含む誘電体膜５を形成する工程、この誘電体膜５を塩素を含むエッチング用ガスのプラズマに曝す工程、誘電体膜５のプラズマ暴露面を酸化性ガスで処理する工程、を備える。 - 特許庁

Meanwhile, after a second mask 27 having a second opening 29 for exposing a PMOS formation region 6 selectively is formed on the semiconductor layer 4 and then a compressive stress film 22 is formed thereon, the second mask 27 is removed along with the compressive stress film 22 formed on the second mask 27.例文帳に追加

また、半導体層４上に、ＰＭＯＳ形成領域６を選択的に露出させる第２開口２９を有する第２マスク２７が形成され、圧縮応力膜２２が形成された後、第２マスク２７が、第２マスク２７上に形成された圧縮応力膜２２とともに除去される。 - 特許庁

The sulfonated polyarylene polymer has an ion exchange capacity in the range of 1.7-2.3 meq/g, and the insoluble component content of this polymer to N-methylpyrrolidone, after applying heat treatment of exposing for 200 hours in the constant temperature of 120°C, is 70 wt% or less to the total amount of the polymer.例文帳に追加

スルホン化ポリアリーレン系ポリマーは、１．７〜２．３ｍｅｑ／ｇの範囲のイオン交換容量を備え、１２０℃の恒温雰囲気下に２００時間曝露する熱処理を施した後の、該ポリマーのＮ−メチルピロリドンに対する不溶性成分含有量が、該ポリマー全量の７０重量％以下である。 - 特許庁

In this submerged time indicator 1, a moisture permeable sheet 12 is layered onto a moisture indicator containing sheet 13 attached onto a base sheet 15 comprising a water-impermeable resin, and coated with a protection sheet 11 comprising the water-impermeable resin while exposing one portion.例文帳に追加

水中浸漬時間インジケータ１は、非透水性樹脂からなる基材シート１５上へ付されている水分指示薬含有シート１３に、水浸透性シート１２が重ね合わされて一部を露出しつつ非透水性樹脂からなる保護シート１１で被覆されているものである。 - 特許庁

To prevent the increase in DC drift of an optical waveguide element in which opening part formed by etching a buffer layer and exposing the primary face of a substrate is located at least between electrodes on which a DC bias is applied for the purpose of controlling an operating point.例文帳に追加

バッファ層をエッチングして基板の主面を露出することにより形成される開口部が、少なくとも動作点制御のためにＤＣバイアスが印加される電極を構成する電極間に位置する構造を有する光導波路素子の、ＤＣドリフトの増大を防止する。 - 特許庁

The method for manufacturing a fine structure includes the steps of: exposing a resin layer on a substrate by lithography; and supplying a developing solution to the resin layer after being exposed to form a resin die, wherein vibration in a megahertz band is added to the developing solution to be supplied.例文帳に追加

本発明の微細構造体の製造方法は、リソグラフィにより基板上の樹脂層を露光し、露光後の樹脂層に現像液を供給して樹脂型を形成する工程を含み、供給する現像液にメガヘルツ帯域の振動を与えることを特徴とする。 - 特許庁

By exposing a resist layer 61 through a gray scale mask 50 having two or more stages of transmissivity distributions in a main plane direction and then developing it, the resist layer is worked into a three-dimensional shape corresponding to the desired microlens and a lens base material is etched with the resist layer as an etching mask.例文帳に追加

主平面方向に複数段階の透過率分布を有するグレースケールマスク５０を通してレジスト層６１を露光した後、現像することにより、所望のマイクロレンズに対応した立体形状に前記レジスト層を加工し、レジスト層をエッチングマスクとして、レンズ基材をエッチングする。 - 特許庁

The pattern forming method has a step for forming an underlayer film on a film to be worked by coating the top of the film to be worked with the solution material, a step for forming a resist film on the underlayer film and a step for forming a resist pattern by patternwise exposing the resist film.例文帳に追加

この下層膜溶液材料を被加工膜上に塗布して下層膜を形成する工程と、前記下層膜上にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜に対してパターン露光を行って、レジストパターンを形成する工程とを具備することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

To provide mounting structure and method for mounting a wall panel on skeleton side concrete in a building easily, securely, and highly precisely with high resistance to shearing force without exposing the hardware for mounting the wall panel to any side of a front side and a rear side of the wall panel.例文帳に追加

壁パネルの表側、裏側のどちら側にも壁パネル取付用の金物類を露出させることなく、壁パネルを容易に確実、かつ精度良く、しかも高耐剪断力で建物の躯体側のコンクリートに取り付けることができる取付構造及び取付方法を提供すること。 - 特許庁

When pixels are formed on a substrate with partitions for partitioning a surface of the substrate into many regions, by applying ink between the partitions, an initial ink hardening step of hardening the ink by heating the substrate and exposing the substrate to UV is interposed between steps of applying the ink by the inkjet printer, to make the pixels flat.例文帳に追加

多数の領域に区分けする隔壁を有する基板にインクジェット印刷装置にて隔壁内にインクを塗工することにより画素を形成する際に、基板の加熱とＵＶ露光による初期インク硬化工程をインクジェット塗工の間にはさむことで画素が平坦となる。 - 特許庁

A method for manufacturing the organic EL element achieves a high durability and an elongated life by removing moisture in a film for sealing under a reduced pressure after cleaning by UV-ozone and cleaning by plasma and moving the film to the sealing process without exposing the film to the atmosphere such that the environment is maintained as it is.例文帳に追加

ＵＶオゾン洗浄およびプラズマ洗浄後、減圧下で封止用フィルムの水分を除去する事で、そのままの環境維持するよう大気に暴露せず封止へ移行させる事により、高耐久化や長寿命化を達成する有機ＥＬ素子の製造方法。 - 特許庁

To relate to novel methods for affecting, controlling and/or directing various crystal formation, structure formation or phase formation/phase change reaction pathways or systems by exposing one or more components in a crystallization reaction system to at least one spectral energy pattern.例文帳に追加

少なくとも１つのスペクトル・エネルギー・パタンに結晶化反応系の１つ以上の成分を曝露することによって、いろいろな結晶形成、構造形成又は相形成／相変化の反応経路又はシステムに影響を及ぼし、コントロールし、及び／又は導く新しい方法に関する。 - 特許庁

To provide a glove enabling a wearer to perform work using the fingertips by exposing the tip of the index finger, middle finger and thumb while wearing the glove, preventing the removed detachable fingertip parts from dropping or being lost by fixing with a double-faced fastener, and quick and easy to attach again.例文帳に追加

手袋をしたまま人差し指、中指、親指の先端を露出することで指先を使った作業が可能であり、かつ取り外した着脱式指先部が両面ファスナーで固定されることで落下や紛失等せず、再度装着するのも素早く簡単にできる手袋を提供する。 - 特許庁

In the image forming apparatus in which an electrifying means 2, an exposure means L, a developing means 6, and a transfer means 9 are disposed round a photoreceptor 1, a toner scatter member 8 which scatters a residual transfer toner image is disposed in the downstream of the electrifying means 2 but in the upstream of an exposing position P.例文帳に追加

感光体１の周囲に、帯電手段２、露光手段Ｌ、現像手段６、転写手段９を配置した作像装置において、帯電手段２の下流側で、かつ露光位置Ｐの上流側に転写残トナー像を散らすトナー散らし部材８を設けた。 - 特許庁

A protective film 14 on a conductive part 11d for forming a contact hole 22 is removed previously by making an etching opening 20 for exposing the corresponding top part of the conductive part 11d from the surface of an insulation film 15 for burying the conductive part 11d covered with the protective film.例文帳に追加

コンタクトホール２２を形成すべき導電部１１ｄ上の保護膜１４は、該保護膜で覆われた前記導電部１１ｄを埋設する絶縁膜１５の表面から対応する前記導電部１１ｄの頂部を露出させるエッチング開口２０の形成により、予め除去される。 - 特許庁

Each of light strength of the images of the space image marks is measured through each space image openings 6a-6c, thereby, a focus curve can be obtained by an exposing without moving the wafer stage 15 in the direction of optical axis, and the best focusing position can be calculated.例文帳に追加

各空間像開口６ａ〜６ｃを通じて各空間像マークの像の光強度をそれぞれ計測することで、ウエーハステージ１５を光軸方向に移動させることなく一度の露光でフォーカス曲線を取得することができ、ベストフォーカス位置を算出することができる。 - 特許庁

After a first spacer made of a material, having an etching selection ratio to a second insulating layer, is formed on the side of an etching region, a storage node contact hole is made, where the first spacer is utilized as a mask and the second insulating layer, and a first one are etched for exposing a capacitor contact region.例文帳に追加

エッチング領域の側面に第２絶縁層に対してエッチング選択比を有する物質からなる第１スペーサを形成した後、第１スペーサをマスクとして利用して第２絶縁層及び第１絶縁層をエッチングしてキャパシターコンタクト領域を露出するストレージノードコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

A first metal film 12A made of an indium tin oxide (ITO) and a second metal film 15 made of Al are successively laminated by vapor deposition on an organic EL layer 13, a photoresist 16 is applied on the second metal film 15, then the photoresist 16 is patterned to a mask pattern of an anode electrode by exposing and developing the photoresist 16.例文帳に追加

有機ＥＬ層１３の上に、ＩＴＯでなる第１金属膜１２Ａ、Ａｌでなる第２金属膜１５を順次蒸着により積層させ、第２金属膜１５の上にフォトレジスト１６を塗布し、露光・現像してフォトレジスト１６をアノード電極のマスクパターンにパターニングする。 - 特許庁

Further, this probe is composed of the array constitution of electronic circuits (8 and 9) for exciting and detecting a nuclear magnetic resonance signal and at least one exciting coil (7) for gathering a fed-back nuclear magnetic resonance signal by exposing the fluid sample to the exciting signal.例文帳に追加

さらに、このプローブは核磁気共鳴信号を励起および検出するための電子回路（８，９）の配列構成、および流体サンプルを励起信号に曝露して帰還する核磁気共鳴信号を収集するための少なくとも１個の励起コイル（７）により構成されている。 - 特許庁