「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(98ページ目) - Weblio英語例文検索

Exposure beam (parallel rays) emitted from an exposing device 14 are passed through and diffused by the respective convex lenses 15a of an exposure beam diffusing sheet 15, then passed through the respective entrance lenses 22 disposed in the incident light side of a film base material 21 to expose a resist layer formed on the surface of a film base material 21 where the light outgoes.例文帳に追加

露光装置14から出射された露光光線（平行光）を露光光線拡散用シート15の各凸状レンズ15aを通して拡散させた後、フィルム基材21の入光側に設けられた各入光レンズ22を介してフィルム基材21の出光側の表面に形成されたレジスト層を露光する。 - 特許庁

The method of manufacturing the color filter includes steps of (A) applying a negative resist composition containing a red pigment on a substrate, (B) pre-baking, (C) exposing/developing, and (D) post-baking, wherein the step of (D) post-baking is carried out under reduced pressure.例文帳に追加

（Ａ）基板に赤色顔料を含有するネガ型レジスト組成物を塗布する工程、（Ｂ）プレベークする工程、（Ｃ）露光・現像する工程、及び（Ｄ）ポストベークする工程を有するカラーフィルターの製造方法であって、（Ｄ）ポストベークを減圧下で行うことを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。 - 特許庁

The winding unit 12 has a conductor exposed part 12c, obtained by laterally winding a wire obtained by insulation-covering a metal wire 12a with an insulating layer 12b, on the outer peripheral surface of the conductor 11 and exposing the wire 12a, by peeling the layer 12b at the outer peripheral surface side of the unit 12.例文帳に追加

横巻体１２は金属線１２ａを絶縁層１２ｂで絶縁被覆した線材を、中心導体１１外周面に横巻され、その横巻体１２の外周面側に絶縁層１２ｂ剥取による金属線１２ａが露出状とされる導体露出部１２ｃが備えられる。 - 特許庁

A first tape cartridge C1 is provided with a first main body case 1 housing a first reel 2, first passive hear teeth 17 circularly provided on a bottom wall lower surface at the center part of the first reel 2, and a first insertion hole 18 exposing the first passive teeth 17 to a case outer surface.例文帳に追加

第１のテープカートリッジＣ１は、第１のリール２を収納した第１の本体ケース１と、第１のリール２の中央部の底壁下面に周回状に設けた第１の受動歯１７と、第１の受動歯１７をケース外面に露出させる第１の挿通穴１８とを備えている。 - 特許庁

The polishing device 80 comprises a hold base 81 supporting the holder 40 with the concave reflection mirror 31 held thereby and a cover part 84 with opening parts 86a to 86c for exposing the reflection surface 31a of the concave reflection mirror 31 supported by the hold base 81 to a space 90.例文帳に追加

研磨装置８０には、凹面反射鏡３１を保持したままの保持装置４０を支持する保持台８１と、この保持台８１により支持されている凹面反射鏡３１の反射面３１ａを空間９０に露出させるための開口部８６ａ〜８６ｃを有するカバー部８４とを設ける。 - 特許庁

The exposure equipment having a projection optical system for projecting light from an original to a substrate and exposing the shot region of the substrate through the original and the projection optical system comprises a substrate stage 22 which moves while holding the substrate, a console 140, measuring instruments 10-19, and a main control section 110.例文帳に追加

原版からの光を基板に投影する投影光学系を有し、原版及び投影光学系を介して基板のショット領域を露光する露光装置であって、基板を保持しかつ移動する基板ステージ２２と、コンソール１４０と、計測器１０〜１９と、メイン制御部１１０とを備える。 - 特許庁

The image forming apparatus comprises: an exposure unit for exposing an image carrier to a plurality of lights having different frequencies; the image carrier for carrying a latent image formed through exposure; and an exposure controller for controlling a light emitting ratio of the plurality of lights having different frequencies according to a density of an image to be formed.例文帳に追加

画像形成装置は、波長が異なる複数の光を露光する露光装置と、光が露光されることで形成される潜像を担持する像担持体と、形成対象となる画像の濃度に応じて、波長が異なる複数の光の発光割合を制御する露光制御部とを含む。 - 特許庁

The photomask 4 formed by coating the whole of a mask surface with a pattern formed thereon with a glass film is used, the photomask 4 is closely contacted to a semiconductor wafer 1 having a resist film 3 formed on a surface thereof, and the pattern of the photomask 4 is transferred to a surface of the resist film 3 of the semiconductor wafer 1 by exposing it to light.例文帳に追加

パターンを形成したマスク面全体に、ガラス膜を被膜させたフォトマスク４を使用し、このフォトマスク４と、表面にレジスト膜３を設けた半導体ウエハ１とを密着させ、前記フォトマスク４のパターンを前記半導体ウエハ１のレジスト膜３上に露光する。 - 特許庁

The method comprises a first process SA1 of forming a luminescent layer in film on a substrate, a second process SA2 of putting the luminescent layer filmed on the substrate under heating treatment in an inert gas atmosphere, and a third process SA3 of exposing the heat-treated luminescent layer to the inert gas atmosphere for a given period of time.例文帳に追加

基板上に発光層を成膜する第１工程ＳＡ１と、基板上に成膜された発光層を不活性ガス雰囲気下で加熱処理する第２工程ＳＡ２と、加熱処理された発光層を活性ガス雰囲気下に所定時間さらす第３工程ＳＡ３とを有している。 - 特許庁

A base for an organic elecrtroluminescent display element equipped with not only a barrier rib 5 but also a frame 6 is manufactured by exposing and developing a photo resist film after forming the negative photo resist film on a base 2 equipped with a first electrode line 3 and preferably an auxiliary electrode line 4.例文帳に追加

基板２上に第１電極ライン３と好ましくは補助電極ライン４とを備え、その上にネガ型フォトレジスト膜を形成した後、フォトレジスト膜に対して露光、現像を行うことによって、隔壁５だけでなく枠６をも設ける有機ＥＬ表示素子用基板１を作製する。 - 特許庁

The expression levels of a gene group characteristically expressed by the positive control substance are calculated by carrying out the exhaustive gene expression analysis of the aquatic organisms in an initial live stage by exposing the aquatic organisms to the positive control substance for a short time while changing the concentrations.例文帳に追加

本発明者等は、上記課題を解決するために、陽性対照物質に濃度を変えて初期生活段階の水棲生物を短期間暴露して網羅的遺伝子発現解析を行い、陽性対照物質によって特徴的に発現する遺伝子群の発現量を算出した。 - 特許庁

The human body is sufficiently tightly held between the mattress where longitudinally oblong quilting is formed at the center part, and the quilt where a recession for exposing a head part is formed at the upper end, and quilting is formed at both side parts and a lower part so as to be higher at a center part without mutually crossing.例文帳に追加

身体の方向に長い楕円形のキルティングを中央部に形成した敷布団と、上端に頭部の出る凹部を形成し、両側部と下部に中央に向けて山形の互いに交叉しないキルティングを形成した掛布団とで、身体に十分密着して保持できるようにした。 - 特許庁

An exposure device comprises a gas seal mechanism (3) that generates an air current on a substrate (P) and seals fluid (LQ) filled in an optical path space of exposing light; and a compensation mechanism (5) that compensates temperature change of the substrate (P) resulting from the air current generated by the gas seal mechanism (3).例文帳に追加

露光装置は、基板（Ｐ）上に気流を生成しかつ露光光の光路空間に満たされた液体（ＬＱ）をシールするガスシール機構（３）と、ガスシール機構（３）により生成された気流に起因する基板（Ｐ）の温度変化を補償する補償機構（５）とを備えている。 - 特許庁

To reduce power consumption rather than the prior art in a photographing apparatus which cyclically repeats operation of exposing an imaging plane after sweeping out electric charges accumulated in pixels to the outside by supplying a series of sub-pulses from a vertical transfer driving circuit 2 to a solid-state imaging element 1.例文帳に追加

垂直転送駆動回路２から固体撮像素子１に一連のサブパルスを供給して画素に蓄積された電荷を外部に掃き捨てた後に撮像面の露光を行なう動作が周期的に繰り返される撮影装置において、従来よりも消費電力を低減する。 - 特許庁

At this time, by exposing blue color emitter particles 17 and yellow color emitter particles 81 on a surface of the emitter layer 16, electrons are directly irradiated both of the emitter particles 17, 18 and an excellent electron exciting can be realized.例文帳に追加

その際、発光体層１６の表面に青色発光体粒子１７と黄色発光体粒子１８とをそれぞれ露出させることにより、何れの発光体粒子１７，１８にも電子を直接的に照射して効率の良い電子励起を実現することができる。 - 特許庁

The method for manufacturing the printed circuit board comprises the steps of forming the photoresist layer by coating a liquid-like photoresist on the conductive board, laminating a film on the photoresist layer to manufacture a laminate for the printed circuit board, then exposing the circuit pattern, removing the film, alkali developing, and etching the pattern.例文帳に追加

導電性基板上に、液状フォトレジストを塗布しフォトレジスト層を形成し、次いでフォトレジスト層上にフィルムをラミネートしプリント配線板用積層板を作製し、次いで回路パターンの露光、該フィルムの除去、アルカリ現像、エッチングを行うことを特徴とするプリント配線板の作製方法。 - 特許庁

In order to make shortest the heat radiating route of the semiconductor integrated circuit 10 of the semiconductor device 1, a protective film 26 is laminated upon the integrated circuit 10 and heat radiation is performed by exposing a metallic film 30 on the circuit board side on which the semiconductor device 1 is mounted or on the opposite side.例文帳に追加

半導体装置１の半導体集積回路１０の放熱経路を最短にするため、前記半導体集積回路１０上に保護膜２６を積層し、この金属膜３０を半導体装置１を取り付ける回路基板側或いはその反対側に露出させて放熱を行う。 - 特許庁

This pneumatic tire is provided with a cap rubber body 11 placed on a grounding surface 28 side and a base rubber body 10 having a base part 10A placed on a radially inner side of the cap rubber body 11 and provided with a through terminal part 10B extending with penetrating the cap rubber body 11 and exposing at the grounding surface 2S.例文帳に追加

接地面２Ｓ側に配されるキャップゴム体１１と、このキャップゴム体１１の半径方向内側に配されるベース部１０Ａに前記キャップゴム体１１を貫通してのびかつ前記接地面２Ｓで露出する貫通端子部１０Ｂを設けたベースゴム体１０を具える。 - 特許庁

A decorative plate 6 is constituted of a light transmissive member 11 formed in rough shape for the upper surface and a metal coating 13 to be a light reflection coating formed in dents 12 of the rough shape, exposing the tip of the projections 14 of the rough shape of the light transmissive member 11.例文帳に追加

上面が凹凸形状に形成された光透過性部材１１と、この光透過性部材１１の凹凸形状の凸部１４の先端部を露出させた状態で凹凸形状の凹部１２に形成された光反射被膜部である金属被膜部１３とで化粧板６を構成した。 - 特許庁

In the image forming apparatus carrying out charging, exposing, developing and transferring while moving the outer peripheral face of an electrophotographic photoreceptor in a predetermined direction, the apparatus is equipped with a controlling means to control the moving speed of the outer peripheral face of the photoreceptor so as to vary the time required from charging to developing.例文帳に追加

電子写真感光体の外周面を所定方向に移動させながら帯電、露光、現像及び転写を行う画像形成装置において、帯電から現像までに要する時間が可変となるように、電子写真感光体の外周面の移動速度を制御する制御手段を設ける。 - 特許庁

Thereby, an oxidation reaction is suppressed on the surface of the optical element 40, that is, on the optical surface, or the preparation of a carbon film is suppressed, therefore, the deterioration of reflection characteristic of the optical element is prevented and, moreover, the life of a projection exposing device may be prolonged.例文帳に追加

これにより、光学素子４０の表面すなわち光学面において酸化反応が抑制され、或いはカーボン膜生成が抑制されているので、これら光学素子の反射特性が劣化するのを防ぎ、延いては投影露光装置の寿命を長くすることができる。 - 特許庁

The case 36 is a case for storing the plurality of lighting fixtures 35 thereinside and includes a fixing part 41 having an opening 43 at the bottom face for exposing the lighting fixtures 35 to the inside of a car room 22, and a movable part 42 disposed in the opening 43 for covering a lower part of the plurality of lighting fixtures 35.例文帳に追加

ケース３６は、複数の照明器具３５を内部に収容するケースであって、照明器具３５をかご室２２内に露出させる開口部４３を下面に有する固定部４１と、開口部４３に配置され、複数の照明器具３５の下方を覆う可動部４２とを有する。 - 特許庁

This method comprises an exposure process (Step 1) for exposing the drawing to a film, a development process (Step 2) for negatively developing the exposed film, a positive process (Step 3) for making a negative film to be reversely positive, and a scanning process (Step 4) for scanning a positive film and fetching the positive film to the computer as raster data.例文帳に追加

図面をフィルムに露光する露光行程（Ｓｔｅｐ１）と、露光されたフィルムをネガ現像する現像行程（Ｓｔｅｐ２）と、ネガフィルムを反転ポジ化するポジ化行程（Ｓｔｅｐ３）と、ポジフィルムをスキャニングしてラスタデータとしてコンピュータに取り込むスキャニング行程（Ｓｔｅｐ４）とを備えている。 - 特許庁

This scanner characteristic evaluating device is characterized in that when receiving irradiation of a laser beam, a mask 62 of a chrome film is arranged on a color glass filter 61 having a property of emitting fluorescence, and a regular test pattern 63 for exposing the color glass filter is formed by an opening part of the mask.例文帳に追加

レーザ光の照射を受けると、蛍光を放出する性質を有する色ガラスフィルタ６１上に、クロム膜のマスク６２が設けられ、マスクの開口部によって、色ガラスフィルタが露出される規則的なテストパターン６３が形成されたことを特徴とするスキャナの特性評価用デバイス。 - 特許庁

To provide a polarizing beam splitter which forms a transparent conductive film inside a planar shape and not only improves utilization efficiency of backlight but also has a electro-magnetic wave shielding effect to effectively reduce unwanted electro-magnetic radiation by exposing and grounding the conductive film.例文帳に追加

平面形状の内部に透明な導電性膜を形成した偏光ビームスプリッタで、バックライト光の利用効率を向上させると共に、導電性膜を露出接地させることで不要電磁波輻射を有効に低減させる電磁波シールド効果とを併せ持った偏光ビームスプリッタを提供する。 - 特許庁

The method further includes a step of forming an etching mask in the trench to mask partially the basal surface of the trench, and successively a step of removing the semiconductor material of the substrate exposing in the basal surface which has been partially masked and demarcating a second side wall which deepens the trench and has been narrowed.例文帳に追加

この方法はさらに、トレンチ内にエッチング・マスクを形成してトレンチの基底面を部分的にマスクするステップと、これに続いて、部分的にマスクされた基底面の露出した基板の半導体材料を除去して、トレンチを深くする狭められた第２の側壁を画定するステップとを含む。 - 特許庁

The rigid board and the flexible board are arranged such that the rigid board and the flexible board are non-parallelly angled at a part to be joined, solder is melted by exposing the flexible board to a heater at a joining part and the solder is solidified thereafter.例文帳に追加

接合すべき部分においてリジッド基板とフレキシブル基板とが非平行に角度付けされた状態となるようにリジッド基板およびフレキシブル基板を配置し、接合部分においてフレキシブル基板にヒータを当てることによりはんだを溶融し、その後はんだを凝固させる。 - 特許庁

This semiconductor device 10 has many electrode pads 14 arranged on the top surface of a semiconductor chip 2 with an integrated circuit formed thereon, and an insulating film 16, which covers the periphery of each pad 14 and has openings 16a exposing the inside thereof.例文帳に追加

集積回路が形成された半導体チップ(２)の上面に多数の電極パッド（１０）を列設し、その半導体チップ（２）の上面に、各電極パッド（１４）の周縁部を被覆し、その内側を露出させるように開口部（１６ａ）を設けた絶縁膜（１６）が形成されている。 - 特許庁

The manufacturing method includes: depositing a silicon-containing thin film 1 on a GaAs semiconductor substrate 2; forming a silane derivative coating 3 to be hydrophilic by irradiating the silicon-containing thin film 1 with light; and exposing a desired portion of the silane derivative coating 3 to form a coating of a hydrophilic portion 4.例文帳に追加

ＧａＡｓ半導体基板２上に含シリコン薄膜１を堆積し、含シリコン薄膜１上に光を照射することにより親水化するシラン誘導体被膜３を形成し、該シラン誘導体被膜３の所望の部位を露光して親水化部４の被膜を形成する。 - 特許庁

Removing from the first portion of the cavity the sacrificial material underlying the device structure by introducing the release etchant from the back side of the substrate via the second portion of the cavity allows the release etch to be performed without exposing the device structure to the release etchant.例文帳に追加

基板の背面から空洞の第２の部分を介してリリースエッチャントを導入することによって、デバイス構造の下に位置する犠牲材料を空洞の第１の部分から除去することで、デバイス構造がリリースエッチャントに曝されることなくリリースエッチングを行うことができる。 - 特許庁

The method for manufacturing a color filter comprises steps of (A) applying a negative resist composition containing a blue pigment; (B) pre-baking; (C) exposing/developing; and (D) post-baking, wherein (D) the post-baking is performed under a reduced pressure.例文帳に追加

（Ａ）基板に青色顔料を含有するネガ型レジスト組成物を塗布する工程、（Ｂ）プレベークする工程、（Ｃ）露光・現像する工程、及び（Ｄ）ポストベークする工程を有するカラーフィルターの製造方法であって、（Ｄ）ポストベークを減圧下で行うことを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。 - 特許庁

For exposing an optical sensor array 64, an exposure control part 78 starts the exposure of the optical sensor array and monitor PD 75 and the exposure of the optical sensor array is terminated with the output of a comparator 77 when an exposure level S72 from monitor PD reaches a target exposure level S71.例文帳に追加

光センサアレイ６４の露光を行うには、露光制御部７８が光センサアレイと同時にモニタＰＤ７５の露光を開始し、モニタＰＤからの露光レベルＳ７２が目標露光レベルＳ７１に達した時の比較器７７の出力で光センサアレイの露光を終了する。 - 特許庁

This method for manufacturing the low dielectric constant insulating film composed of the porous silica film includes: the step of coating porous silica film forming raw material on a substrate; and the gas phase processing step of exposing the substrate coated with the porous silica film forming raw material into an organic amine vapor atmosphere to which water is not added.例文帳に追加

基板上に多孔質シリカ膜形成用原料を塗布する工程と、多孔質シリカ膜形成用原料が塗布された基板を水を添加しない有機アミン蒸気雰囲気中に暴露する気相処理工程と、を含む多孔質シリカ膜からなる低誘電率絶縁膜の作製方法。 - 特許庁

In the manufacturing method of the semiconductor device; an inter-layer insulating film 9 is formed on the entire surface on a semiconductor substrate 1, the inter-layer insulating film 9 is selectively etched thereafter, and contact holes 10 and 11 are formed for respectively partially exposing a polysilicon resistance layer 4, a source region 7 and a drain region 8.例文帳に追加

半導体基板１上の全面に層間絶縁膜９を形成し、その後当該層間絶縁膜９を選択的にエッチングし、ポリシリコン抵抗層４，ソース領域７及びドレイン領域８をそれぞれ一部露出させるコンタクトホール１０，１１を形成する。 - 特許庁

To prevent a protruding adhesive from being scraped off by a wiper blade so as to plug a nozzle as ever, by preventing the adhesive from flowing out from an opening window 57, when a cover plate 23 with the opening window 57 for exposing the nozzle of a head unit 22 is bonded to the head unit 22.例文帳に追加

ヘッドユニット２２のノズルを露出させる開口窓５７を有するカバープレート２３をヘッドユニット２２に接着する際、接着剤が開口窓５７から流れ出すことを防止し、従来のようにはみ出した接着剤がワイパーブレードにより掻き取られてノズルを塞ぐことのないようにする。 - 特許庁

The protector 37 comprises a first protector member 38 formed of metal covering at least the outside surface of the exhaust muffler 33, and a second protector member 39 formed of a synthetic resin covering the first protector member 38 from the outside while exposing an upper portion of the first protector member 38 to the outside.例文帳に追加

プロテクタ３７が、排気マフラー３３の少なくとも外側面を覆う金属製の第１プロテクタ部材３８と、第１プロテクタ部材３８の上部を外部に露出させて第１プロテクタ部材３８を外側方から覆う合成樹脂製の第２プロテクタ部材３９とから成る。 - 特許庁

In various embodiments, the optical state of small region of the information-storage layer can be determined by exposing the small region to visible light, and determining whether or not a photodiode layer in an information-storage medium below the information-storage layer generates an electrical current in response to illumination.例文帳に追加

種々の実施形態において、情報記憶層の小領域の光学状態は、当該小領域に可視光を適用し、情報記憶媒体内の情報記憶層の下に位置するフォトダイオード層が前記可視光に応答して電流を生成するか否かを検出することで、決定する。 - 特許庁

The exposure apparatus for exposing a substrate by emitting exposure light to the substrate through a projection optical system and a liquid, includes a detection apparatus that detects whether the liquid is present on an object disposed lower than a front end of the projection optical system.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、前記投影光学系の先端よりも下方に配置された物体上に液体が有るか否かを検出する検出装置を備える露光装置。 - 特許庁

The capacitive dielectric film 17 is formed along a bottom and a wall surface of an opening 15a for exposing an oxygen barrier film 14 provided on a second interlayer dielectric film 15, as a result a bent 17a that bends in a through direction of the conductive plug 13 is formed.例文帳に追加

また、容量絶縁膜１７は、第２の層間絶縁膜１５に設けられた酸素バリア膜１４を露出する開口部１５ａの底面及び壁面上に沿って形成されており、その結果、導電性プラグ１３の貫通方向に屈曲する屈曲部１７ａが形成される。 - 特許庁

To provide a browning inhibitor for vegetables and fruits, demonstrating excellent browning inhibiting effect only through soaking vegetables and fruits which are easy to brown in a condition of removing the skin and exposing the contents, and to provide a browning inhibiting method for vegetables and fruits, using the browning inhibitor for vegetables and fruits.例文帳に追加

本発明は、皮を除去し中身が露出した状態において褐変しやすい青果物において、浸漬するだけで優れた褐変防止効果を発揮する青果物用褐変防止剤及び該青果物用褐変防止剤を用いた青果物用褐変防止方法を提供する。 - 特許庁

The cover 102 is selectively moved between at least a first position for covering at least a part of the upper surface 126 so as to perform a selecting operation in a dispatch mode and at least a second position for exposing the upper surface 126 so as to perform the selecting operation in the telephone operation mode.例文帳に追加

カバー１０２は、ディスパッチ・モードで選択動作を行うために上面１２６の少なくとも一部が覆われるところの少なくとも第１位置と、電話動作モードで選択動作を行うために上面１２６が露出されるところの少なくとも第２位置との間で選択的に移動する。 - 特許庁

The exposure method is carried out by exposing an image forming material by turning on/off a beam based on image data, in which a gate period is shorter by Δt than a period t of the ON time or OFF time in the image data on a unit pixel.例文帳に追加

この露光方法は、画像データに基づいて光ビームをＯＮ・ＯＦＦすることで画像形成材料を露光し画像を形成するものであって、画像データにおけるＯＮ時間またはＯＦＦ時間に対し単位画素に対応した時間ｔよりも短い時間Δｔでゲートをかける。 - 特許庁

Thus, such an operation phase as the receiving, the carrying, the exposing and the previous processing of an unexposed substrate material and that of the substrate material, whose one surface is exposed, can be deviated, so that the loss time for exposure waiting can be prevented from occurring even in the case of only one light source.例文帳に追加

このようにすれば、未露光の基板材の受取りや移送と露光及びその事前処理等の動作位相と、片面露光済みの基板材の移送や露光及びその事前処理等の動作位相とをずらせることができるので、光源が１つでも、露光待ちのロスタイムが生じるのを防止できる。 - 特許庁

Next, a groove for exposing the side surface of the solid phase mixed layer 12 is formed by partially etching the Si thin film 13 and the solid phase mixed layer 12, and a hollow part is formed between the Si substrate 1 and the Si thin film 13 by etching the solid phase mixed layer 12 through the groove.例文帳に追加

次に、Ｓｉ薄膜１３と固相混合層１２とを部分的にエッチングして、固相混合層１２の側面を露出させる溝を形成し、この溝を介して固相混合層１２をエッチングすることによって、Ｓｉ基板１とＳｉ薄膜１３との間に空洞部を形成する。 - 特許庁

The invention is applied to the image forming apparatus equipped with a photoconductive image carrier, an electrifying means for electrifying the image carrier, and an exposure means for forming an electrostatic latent image by image-exposing the surface of the image carrier after electrification, and is equipped with following storage means and correction means.例文帳に追加

本発明は、光導電性の像担持体と、前記像担持体を帯電する帯電手段と、帯電後の像担持体表面を像露光して静電潜像を形成する露光手段とを備えた画像形成装置に適用され下記の記憶手段と補正手段を備える。 - 特許庁