「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(101ページ目) - Weblio英語例文検索

In this case, a circular hole 20b for exposing the land 22B with a backside space of the frame 20 is formed at a part of a backside of each land 22B in the frame 20, and in the case of thermocompression bonding, a bearing jig 4 is contacted with the backside of the part 22B via each hole 20b.例文帳に追加

その際、フレーム２０における各ランド部２２Ｂの裏面側の部分に、該ランド部２２Ｂをフレーム２０の裏面側空間に露出させる円形孔２０ｂを形成しておき、熱圧着の際、各円形孔２０ｂを介して受け治具４を各ランド部２２Ｂの裏面に当接させる。 - 特許庁

A flat substrate 3 and a V groove substrate 2 with a plurality of V grooves 2a are stuck together, and then a blade 7 with an inclined tip end face 7c is set in the arraying direction 7a of the V grooves 2a of the stuck end faces, chamfering the flat substrate end and exposing a part of the V grooves 2a on the stuck end face.例文帳に追加

平基板３と複数のＶ溝２ａを有するＶ溝基板２とを貼り合せ、先端面７ｃが傾斜したブレード７を、貼り合せ端面のＶ溝２ａの列び方向７ａに送って平基板側を面取りし、Ｖ溝２ａの一部を貼り合せ端面に露出させる。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device comprises the steps of forming a first insulating film 3 on an n-type high concentration substrate 1 after growing an I-layer 2 having a relatively low impurity concentration on the main surface of the substrate 1, and exposing the I-layer 2 in a peripheral portion by removing an unnecessary portion of the film 3.例文帳に追加

ｎ型高濃度基板１の主面上に相対的に不純物濃度が低いＩ層２を成長させた後、ｎ型高濃度基板１上に第１絶縁膜３を形成し、第１絶縁膜３の不要部分を除去して、周辺部分のＩ層２を露出させる。 - 特許庁

Since the light source for exposure includes at layer the two or more kinds of the lamp units 20 (20a, 20b,20c,...) respectively provided with lamps 24 that differ in the internal pressure, the lamp units 20 (20a, 20b,20c,....) optimal for exposing an exposure object X can be made selectively to emit light.例文帳に追加

この発明によれば、内圧の異なるランプ２４をそれぞれ備えた少なくとも２種以上のランプユニット２０（２０ａ、２０ｂ、２０ｃ…）を備えているので、露光対象物Ｘを露光するのに最適のランプユニット２０（２０ａ、２０ｂ、２０ｃ…）を選択的に発光させることが可能となる。 - 特許庁

This machine has a carrying device G cutting the photographic paper 2 from a photographic paper magazine with a cutter 25 and feeding it to an exposing position P and also returns the paper 2 to the magazine without cutting the paper 2 by the cutter 25 when the terminal 2b of the paper 2 is detected by a terminal sensor 30 provided on the device G.例文帳に追加

印画紙マガジンからの印画紙２をカッター２５で切断して露光位置Ｐに送る搬送装置Ｇを備えると共に、この搬送装置Ｇに備えた終端センサ３０で印画紙２の終端２ｂを検出した場合には、印画紙２をカッター２５で切断せず、マガジンに戻すようにする。 - 特許庁

An aligner employing a discharge lamp 1 as an exposing light source comprises means 19, 20, 22, 70, 71 for detecting the lighting state of the discharge lamp, and means 71 for controlling and correcting the lighting state of the discharge lamp based on the detection results.例文帳に追加

放電灯１を露光光源として用いる露光装置において、放電灯の点灯状態を検出する点灯状態検出手段１９、２０、２２、７０、７１と、この検出結果に基づいて放電灯の点灯状態を制御しまたは補正する点灯状態制御手段７１を設ける。 - 特許庁

The printed circuit board includes an insulating layer 12, a circuit pattern which is formed on a surface of the insulating layer 12 while comprising the pad 14, and a solder resist 18 which has an opening part 20 for exposing one surface 14a and a part of a side surface 14b of the pad and covers the circuit pattern.例文帳に追加

印刷回路基板は、絶縁層１２と、絶縁層１２の表面に形成され、パッド１４を備えた回路パターンと、パッドの一面１４ａ及び側面１４ｂの一部を露出させる開口部２０が形成され、回路パターンを被覆するソルダレジスト１８と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The Si layer 13 and an SiGe layer 11 are etched partially, a groove H exposing the side of the SiGe layer 11 is formed, and a dummy pattern DP, which exposes at least one surface of the Si substrate 1 and the Si layer 13 from a part under the SiGe layer 11, is formed.例文帳に追加

次に、Ｓｉ層１３とＳｉＧｅ層１１とを部分的にエッチングして、ＳｉＧｅ層１１の側面を露出させる溝Ｈを形成し、Ｓｉ基板１又はＳｉ層１３の少なくとも一方の表面をＳｉＧｅ層１１下から露出するダミーパターンＤＰを形成する。 - 特許庁

This excavating blade constitutes a cylindrical base material 11 installable on the lower end of the steel pipe pile P; embeds a long size bit 12 at a predetermined interval at a predetermined angle inside the base material 11; and excavates the ground by exposing the lower end of the bit 12 from the base material 11 in excavation.例文帳に追加

鋼管杭Ｐ等の下端に装着可能な円筒形の母材１１を構成し、その母材１１の内部に、長尺のビット１２を所定間隔を有しかつ所定角度を有して埋設し、掘削時には上記ビット１２の下端が母材１１より露出して地盤を掘削する掘削刃。 - 特許庁

To overcome the problem, wherein when exposing a photoimageable thick-film composition so as to avoid damages to a photomask, using the so-called "non-contact method", the void between a mask and the exposed thick-film composition is filled with air, with presence of oxygen, which causes processing variability.例文帳に追加

光マスクの損傷を避けるように光像形成可能な厚膜組成物を露光するいわゆる非接触法を使用する場合、マスクと露光される厚膜組成物との空隙は、空気、すなわち酸素の存在で満たされることになり、加工変動性の原因となる。 - 特許庁

The apparatus forms a thin film by supplying a gas containing a thin-film forming gas to an electric discharge space formed by a first electrode and a second electrode, generating a high-frequency electric field in the electric discharge space to activate the gas, and exposing a substrate to the activated gas to form the thin film.例文帳に追加

第１電極及び第２電極から構成される放電空間に、薄膜形成ガスを含有するガスを供給し、放電空間に高周波電界を発生させることでガスを活性化し、基材を活性化したガスに晒して薄膜を形成する薄膜形成装置である。 - 特許庁

The method of connecting insulated wires has a feature of exposing conductors from the wires, by stripping insulating coats from a plurality of wires of a predetermined length, twisting them together in a same direction, and then welding this by means of ultrasonic welding.例文帳に追加

本発明の絶縁電線の接続方法は、複数本の絶縁電線の絶縁被覆を各々所定長さ剥ぎ取って導体を露出せしめ、露出せしめた導体同士を同一方向に一緒に捻り、この捻った部分を超音波溶接により溶接して接続することを特徴とするものである。 - 特許庁

When exposing is actually conducted, the magnetic field correction device 2 reads a stage position detected by a stage position detector 5, reads out a correction data corresponding to the stage position, and corrects a current value to be given to the deflector, astigmatism correction device, and focus correction coil.例文帳に追加

実際に露光を行う場合には、磁場補正装置２は、ステージ位置検出装置５が検出したステージ位置を読み込み、露光を行うサブフィールドと、ステージ位置に対応する補正データを読み出して、偏向器、非点補正器、焦点補正コイルに与える電流値を補正する。 - 特許庁

The method for manufacturing the mold for glass molding having the lubrication release agent layer baked on the surface of the mold is characterized in that the mold surface, on which the lubrication release agent is applied, is heated by exposing to a high frequency magnetic flux until the time when the temperature of the mold surface reaches at a prescribed temperature for baking.例文帳に追加

金型面に焼付けられた潤滑離型剤層を有するガラス成形用金型の製造方法であって、潤滑離型剤を塗布した該金型面を、該金型面の温度が所定の焼付け温度に到達するまで高周波磁束に曝して加熱することを特徴とする方法。 - 特許庁

In this infrared sensor including a silicon substrate 1, and a thin film structure part 6 formed on the main surface side of the silicon substrate 1 and supported by the silicon substrate 1, an opening part 11 for exposing a part of the surface on the silicon substrate 1 side of the thin film structure part 6 is formed on the silicon substrate 1.例文帳に追加

シリコン基板１と、シリコン基板１の主表面側に形成されてシリコン基板１に支持された薄膜構造部６とを備え、シリコン基板１に薄膜構造部６におけるシリコン基板１側の表面の一部を露出させる開口部１１が形成されている。 - 特許庁

To provide an upper reinforcement spacer capable of supporting and surely fixing an upper reinforcement by preventing deflection of the upper reinforcement without exposing any part of the spacer to an under surface of a slab or a beam, capable of easily correcting an installing position, capable of reducing weight, capable of holding strength and capable of easily, quickly and safely performing work.例文帳に追加

スラブまたは梁の下面にスペーサのどの部分も露出させず、上筋の撓みを防ぎ、上筋を支持することができ、確実に固定ができ、取付位置の修正も簡単にでき、軽量化でき、強度も保たれ、作業を簡単に速く、安全に行なえる上筋用スペーサを提供する。 - 特許庁

The exposure device SYS is provided with an exposure processing main body part EX which illuminates a mask M with exposing light EL to expose the pattern of the mask M to a photosensitive board P, and carrying systems MR and PR for carrying the mask and the photosensitive board P to the exposure processing main body part EX.例文帳に追加

露光装置ＳＹＳは、マスクＭを露光光ＥＬで照明し、マスクＭのパターンを感光基板Ｐに露光する露光処理本体部ＥＸと、露光処理本体部ＥＸに対してマスク及び感光基板Ｐを搬送する搬送系ＭＲ、ＰＲとを備えている。 - 特許庁

The step of forming the resist 7 can form the resist 6 at a part excepting the discontinued wiring correctly and easily by using a step of applying the resist 6 on the wiring board, a step of again exposing the circuit pattern of the wiring board, and a step of developing the exposed region.例文帳に追加

前記レジストを形成する工程は、前記配線基板にレジストを塗布する工程と、当該配線基板の回路パターンを再度露光する工程と、この露光した領域を現像する工程とを用いることにより、正確かつ容易に断線以外の部分にレジストを形成することができる。 - 特許庁

This method includes a step for bringing the optical fiber into contact with deuterium without further activating the optical fiber by exposing the optical fiber to a deuterium-containing gaseous mixture at an ambient temperature compatible with the optical fiber and a step for degassing the optical fiber in a neutral atmosphere.例文帳に追加

この方法は、ファイバと両立する周囲温度で、重水素を含有する混合ガスに光ファイバを晒すことによって、光ファイバにさらなる活性化を受けさせることなく、光ファイバを重水素に接触させるステップと、続いて中性雰囲気で光ファイバをガス抜きするステップとを含んでいる。 - 特許庁

In the scanning exposure method for scanning and exposing an image of a pattern formed in a reticle on a substrate via a projection optical system, the reticle pattern surface is measured in parallel with other inspection process which scans a reticle stage and a substrate stage in the same stage driving state as in exposure.例文帳に追加

レチクルに形成されたパターンの像を投影光学系を介して基板上に走査露光する走査露光方法において、レチクルステージ及び基板ステージを露光時と同じステージ駆動状態で走査させる他の検査工程と並行してレチクルパターン面測定を行うことを特徴とする。 - 特許庁

After finishing exposing the paper P in the exposure position 24, the exposed paper P is cut off an unexposed paper P1 by the cutter 11, then, the unexposed paper P1 is conveyed in a direction (direction B) opposite to the conveying direction, and returned to a prescribed position.例文帳に追加

そして、上記露光位置２４における上記ペーパーＰへの露光が完了した後に、カッター１１により露光済みペーパーＰを未露光のペーパーＰ１から切断分離し、該未露光ペーパーＰ１を上記搬送方向とは逆の方向（Ｂ方向）に向かって搬送して所定の位置まで戻すようにする。 - 特許庁

To provide a film-forming method which can continuously perform removal of a natural oxide film formed on the surface of a substrate and deposition of a film containing a high melting metal, in the same chamber in a short time without exposing the substrate to the air, and to provide a plasma CVD apparatus.例文帳に追加

基板表面に形成された自然酸化膜の除去処理と高融点金属を含む膜の成膜処理とを、基板を大気に晒すことなく、同一チャンバー内で連続して短時間で実行することができる成膜方法及びプラズマＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

To provide an X-ray exposure method, an X-ray exposure apparatus, a fine structure and a semiconductor device using the same capable of obtaining a shorter wavelength for exposing X-rays for forming fine patterns, by suppressing fog on a resist caused by secondary electrons from a substrate, which increases as the X-ray wavelength becomes further shorter.例文帳に追加

露光Ｘ線の短波長化に伴って増大する基板からレジストへのカブリを抑制することにより、微細パターン形成に有利な露光Ｘ線の短波長化を可能にするＸ線露光方法、Ｘ線露光装置、それを用いた微細構造および半導体装置を提供する。 - 特許庁

The electronic equipment includes the outside case 2 having the opening part 35 for exposing an accessory shoe 47, a shoe cover 36 for opening/closing the opening part on the inside of the outside case, and a cover moving mechanism 37 moving the shoe cover between the closing position and the opening position of the opening part 35.例文帳に追加

アクセサリーシュー４７を露出させるための開口部３５を有する外装ケース２と、その外装ケースの内側で開口部を開閉可能なシューカバー３６と、そのシューカバーを開口部３５の閉鎖位置と開放位置との間に移動させる蓋体移動機構３７と、を備えている。 - 特許庁

Spherical particles without being etched with CHF_3 plasma used for etching of the optical element are uniformly arranged on a substrate, and etched with oxygen plasma at a prescribed amount to form the substrate masked by the spherical particles by exposing the substrate among the spherical particles.例文帳に追加

光学素子のエッチングに用いるＣＨＦ_３プラズマでエッチングされない球状粒子を基板上に均一に配列し、この球状粒子を酸素プラズマで所定量エッチングして球状粒子の間から基板を露出させることにより球状粒子でマスクされた基板を形成する。 - 特許庁

To provide an Ema (votive picture of a horse) which is generally used to state the optative and requital sentences of a favor in shrines and temples, takes the prayers' privacy into consideration by avoiding the state of exposing the optative sentence surface to the outside, and looks well in blazonry by recognizing the Ema anew as a votive offering to Shinto and Buddhist deities.例文帳に追加

一般に社寺で祈願、報謝文を記載するのに用いる絵馬に関して、祈願文面が外部に露出している状態を避けることにより、祈願者のプライバシーへの配慮と、絵馬を神仏への奉納物と改めて捉えることにより美感において見栄えのよい絵馬を得る。 - 特許庁

A post spacer 20 having a planar flat part on the top is formed on an array substrate by exposing a negative photoresist via a photomask 22 having about 3 μm×3 μm unexposed part 22b inside about 7 μm×15 μm exposed part 22a and subsequently developing it.例文帳に追加

アレイ基板１１上に、ネガ型感光性レジスト２１を、７μｍ×１５μｍの露光部分２２ａ内部に３μｍ×３μｍの未露光部分２２ｂを有するフォトマスク２２を介して露光後現像し、頂上に平板状の平坦部分を有する柱状スペーサ２０を形成する。 - 特許庁

This needle assembly includes: a needle cannula having a puncture tip at a distal end part; a hub for supporting the needle cannula; and a shield axially movable between a non-shielding position for exposing the puncture tip of the needle cannula and a shielding position for covering the puncture tip.例文帳に追加

ニードルアッセンブリは、穿刺用端をその末端部に有するニードルカニューレと、そのニードルカニューレを支持するハブと、ニードルカニューレの穿刺用端が露出される保護しない位置とその穿刺用端を覆う保護する位置との間を軸線方向に移動可能であるシールドとを含んでいる。 - 特許庁

The present invention provides methods of inhibiting various ethylene responses including plant maturation and degradation, by exposing plants to cylopropene derivatives (e.g. 1-hydroxymethylcyclopropene, 1-(2-hydroxyethyl)-cyclopropane, 1-(hydroxymethyl)-2-ethylcyclopropyene and 1-(hydroxymethyl)-2,3,3-trimethylcyclopropene) and compositions thereof.例文帳に追加

シクロプロペン誘導体（例えば１−ヒドロキシメチルシクロプロペン、１−（２−ヒドロキシエチル）−シクロプロペン、１−（ヒドロキシメチル）−２−エチルシクロプロペンおよび１−（ヒドロキシメチル）−２，３，３−トリメチルシクロプロペン）およびそれらの組成物に植物を曝露することによる植物の熟成および劣化を含む種々のエチレン応答を阻害する方法。 - 特許庁

The impurity reducing method includes a step of supplying two kinds of gas selected out of hydrogen, oxygen, chlorine, and fluorine into a processing chamber 201, and a step of exposing a quartz member 278 in the processing chamber 201 to gas activated with plasma in a low-temperature atmosphere.例文帳に追加

本発明の不純物低減方法は、水素、酸素、塩素及びフッ素から選択される少なくとも２種類の気体を処理室２０１内に供給する工程と、プラズマにより活性化した気体を低温雰囲気にて処理室２０１内の石英部材２７８に曝す工程とを有する。 - 特許庁

To provide a method of designing an electronic circuit apparatus, a method of forming electron beam exposure data, and a method of exposing electronic beam, which control a total of the number of block preparation of a contact layer and a first metal wiring layer, in an especially frequently used cell within the maximum number to be mounted on a block mask to shrink the shot number.例文帳に追加

電子回路装置設計方法、電子ビーム露光データ作成方法、及び、電子ビーム露光方法に関し、特に多く使用されるセルのコンタクト層と第１メタル配線層のブロック作成数の合計を、ブロックマスクに搭載できる最大の個数以内に抑えて、ショット数を圧縮する。 - 特許庁

To provide a construction method for an outer wall of a building allowing the use of a member in common in the specifications of exposing the facing material of an outer wall panel to the outer face and the specifications of using another exterior finishing material different from the facing material, and capable of making construction in common to improve construction efficiency.例文帳に追加

外壁パネルの外装材を外面に露出させる仕様の場合も外面に上記外装材と別の外装仕上げ材を用いる仕様の場合も共通の部材を兼用できると共に施工も共通化して施工性を向上できる建物の外壁の施工方法を提供する。 - 特許庁

The carrier tool 3 for carrying the printed board 2 includes a supporting plate 3a for supporting the board 2 on one of surfaces and equipped with an aperture 5 for exposing part of the printed board 2 on the other surface, and a flow straightening plate 4 provided on the other surface of the supporting plate 3a to surround the aperture 5 from three sides.例文帳に追加

プリント基板２を搬送する搬送治具３が、プリント基板２を一方の面側で支持し、プリント基板２の一部を他方の面側に露出する開口部５を設けた支持板３ａと、支持板３ａの他方の面側に設けられ、開口部５を３方から囲む整流板４とを備える。 - 特許庁

In the camera provided with the lens cover moving between an open position opening a photographic lens and a closed position shielding the photographic lens by manual operation, a lens cover opening display part emitting light by exposing only when the lens cover is moved to the open position is provided.例文帳に追加

手動操作により撮影レンズを開放する開放位置と撮影レンズを遮蔽する閉鎖位置との間を移動するレンズカバーを備えたカメラにおいて、前記レンズカバーを前記開放位置に移動したときのみ露出して発光するレンズカバー開放表示部を設けたカメラ。 - 特許庁

The semiconductor device comprises a lead frame 101, a semiconductor element 103 held on the lead frame 101, and a frame body 105 formed on the lead frame 101 such as to surround the semiconductor element 103, covering a side face of the lead frame 101 and exposing an undersurface of the lead frame 101.例文帳に追加

半導体装置は、リードフレーム１０１と、リードフレーム１０１の上に保持された半導体素子１０３と、リードフレーム１０１の上に半導体素子１０３を囲むように形成され、リードフレーム１０１の側面を覆い且つリードフレーム１０１の下面を露出する枠体１０５とを備えている。 - 特許庁

In this piston structure of the internal combustion engine, the piston pin 7 includes a cylindrical part 71 having a cylindrical structure, a foam metal part 72 composed of foam metal and filled inside the cylindrical part 71, and an opening part 73 for exposing the foam metal part 72 from a side face of the cylindrical part 71.例文帳に追加

この内燃機関のピストン構造では、ピストンピン７が、筒状構造を有する筒状部７１と、発泡金属から成る共に筒状部７１の内部に充填される発泡金属部７２と、発泡金属部７２を筒状部７１の側面から露出させる開口部７３とを有している。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus making visually recognizing a light and shade pattern generated in a partly overlapping region impossible by forming periodically the light and shade pattern in the image forming apparatus for forming an image while having the partly overlapping region in a plurality of laser exposing parts.例文帳に追加

複数のレーザ露光部で、一部重複域を有しつつ画像を形成する画像形成装置において、一部重複域に生じる濃淡パターンを周期的に生成することにより視認不可とする画像形成装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

The biochip kit includes the first housing, a biochip arranged in the first housing and containing a large number of probes, and the second housing connected to the first housing to cover the biochip, for providing a reaction space together with the first housing, and for exposing an upper face of the biochip when separated from the first housing.例文帳に追加

本発明のバイオチップキットは第１ハウジング、第１ハウジング内に配置され、多数のプローブを含むバイオチップ、および第１ハウジングと連結されバイオチップをカバーし、第１ハウジングと共に反応空間を提供して、第１ハウジングから分離されバイオチップの上面を露出させる第２ハウジングを含む。 - 特許庁

An impurity is then injected in the logical region covering the DRAM region on a substrate and exposed with an opening for at least partly exposing the logical region to form source and a rain extended parts 135 and 136 of the logical device, and then a mask is removed from the substrate.例文帳に追加

次に、基板上のＤＲＡＭ領域を覆い、論理領域の少なくとも一部が露出する開口部を有露出している論理領域に不純物を注入して、論理デバイスのソースおよびドレインの延長部１３５、１３６を形成した後に基板からマスクを除去する。 - 特許庁

This manufacturing method forms the first negative type resist layer having structure serving as the ink flow channel wall on a substrate having an energy generation element, forms the first photodegradable positive type resist layer to cover the first negative type resist layer, and polishes it until exposing a surface of the first negative type resist layer.例文帳に追加

エネルギー発生素子を有する基板の上に、インク流路壁となる構造を有する第一のネガ型レジスト層を形成し、それを被覆するように第一の光崩壊性ポジ型レジスト層を形成した上で、第一のネガ型レジスト層の表面が露出するまで研磨する。 - 特許庁

To provide a conical packaging container having its upper half to be torn off its lower half by the one-touch operation of pulling a tear-off tab and uniformly exposing a conical ice cream inside the container all over the whole periphery of the lower half of the container.例文帳に追加

引き裂きタブを引っ張ることにより、ワンタッチで、容器の上半分を下半分から引き裂くことができ、しかも、内側の円錐形状のアイスクリームを容器の下半分に対して全周に亘って均一に露出させることが可能な円錐型包装用容器を提供する。 - 特許庁

A method for producing a conductive wiring pattern comprises the steps of: applying a photosensitive conductive paste composed of both an inorganic powder containing a conductive filler and an organic component containing a photosensitive conductive component onto a substrate; exposing the applied photosensitive conductive paste via a photomask; and thereafter performing press processing and development in this order.例文帳に追加

基板上に、導電性フィラーを含む無機粉末および感光性有機成分を含む有機成分からなる感光性導電ペーストを塗布し、フォトマスクを介して露光した後に、プレス加工を施し、その後現像することを特徴とする導電配線パターンの製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing a pattern substrate includes a step of exposing a resist through the halftone mask and developing the resist to form resist patterns 81, 82, 83 in different film thicknesses, and etching films 6, 7 on the substrate through the resist patterns 81, 82, 83.例文帳に追加

また、本発明にかかるパターン基板の製造方法は、ハーフトーンマスクによってレジストを露光する工程と、レジストを現像し、膜厚差を有するレジストパターン８１、８２、８３を形成する工程と、レジストパターン８１、８２、８３を介して基板上の膜６、７をエッチングする工程と、を備える。 - 特許庁

To solve the following problem of a conventional measuring cell configuration by a QCM sensor device: because it is necessary to separately provide a reference electrode and a counter electrode and to control positions thereof, it becomes costly and its size is increased, and an adhesive between a crystal substrate and a support substrate is dissolved out according to a sample when exposing the crystal substrate to the sample.例文帳に追加

ＱＣＭセンサデバイスによる測定セル構成は、参照電極及び対極電極を別途に設けてその位置制御が必要になり、高価で大型化を招くと共に、水晶基板を試料に晒したとき、試料によっては水晶基板と支持基板との接着剤が溶け出る。 - 特許庁

The reflector for the EUV light used for exposing the objective body to the EUV light in a lithographic process for manufacturing a semiconductor device is constituted as a multilayer film structure in which a plurality of layers are repeatedly deposited in the same order.例文帳に追加

半導体装置を製造するためのリソグラフィ工程で極短紫外光による被露光体上への露光を行う際に用いられる極短紫外光の反射体を、複数の層が同一順で繰り返し積層されてなる多層膜構造を有するように構成する。 - 特許庁