「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(96ページ目) - Weblio英語例文検索

The vacuum holding means is constituted of a vacuum space where the nonstandard substrate can be disposed, a barrier means which is in the periphery of the edge of the vacuum space, seals the vacuum space and touches with the nonstandard substrate in a sealing state, and a means for exposing the vacuum space to the vacuum.例文帳に追加

真空保持手段は、非標準基板を配置することができる真空空間と、真空空間の縁の周囲にあって、真空空間を閉止し、非標準基板と密封状態で接触する障壁手段と、真空空間を真空に曝す手段とで構成される。 - 特許庁

A resin 6 is applied except for a part of the membrane electrode 5a and the projection electrode 5b of a semiconductor chip 5 forming the membrane electrode 5a on the rear face and the projection electrode 5b on the surface respectively, and a conducting film 7 is formed on a face exposing a part of the projection electrode 5b of the resin 6.例文帳に追加

裏面に膜電極５ａを、表面に突起電極５ｂをそれぞれ形成した半導体チップ５の裏面電極５ａ及び突起電極５ｂの一部を除いて樹脂６で被覆し、この樹脂６の突起電極５ｂの一部が露呈した面に導電膜７を形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive lithographic printing plate material, with which the formation of an image is possible with no special development treatment, no pollution of an exposer by scattering matters at the exposure of which occurs, which is excellent in handling highly sensitive and shows a favorable printability over a wide exposing energy range.例文帳に追加

特別な現像処理を行うことなく画像形成が可能で、露光時の飛散物による露光機汚染がなく取り扱い性に優れ、かつ高感度で幅広い露光エネルギー範囲にわたって良好な印刷適性を示す感光性平版印刷版材料を提供することにある。 - 特許庁

The plate making method includes: an image exposing process to expose the image forming face made of a photosensitive layer on the surface side of a rotatable plate cylinder (21) (drum) based to the image data; and a developing process to supply a developer to the exposed image forming face to form an image.例文帳に追加

製版方法は、回転可能な版胴（２１）（ドラム）の表面側に感光性層によって形成された画像形成面を画像データに基づいて露光する画像露光工程と、露光した画像形成面に現像液を供給して画像を形成する現像工程とを含む。 - 特許庁

To provide an air supply device capable of preventing degradation of the appearance of the air supply device without dropping water droplet on a floor surface even if dew condensation occurs in the air supply device by supply of outside air in ventilation in the winter and vantilating without exposing a resident to cold air directly.例文帳に追加

冬季の換気において外気の給気により給気装置に結露が生じても水滴を床面等に落下させず、給気装置の外観の低下も防止可能であり、居住者に直接冷気を当てないで換気を行うことが可能な給気装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

An imaging apparatus has the exposure head 15 with a plurality of light emitting arrays arranged in a main scanning direction, and images by dynamically controlling to turn on the emitting element arrays in accordance with image data and exposing an image carrier which moves at a predetermined scanning velocity in a sub scanning direction.例文帳に追加

画像形成装置は、主走査方向に配列された複数の発光アレイを備える露光ヘッド１５を有し、画像データに応じて発光アレイをダイナミック点灯制御して、副走査方向に所定の走査速度で移動する像担持体を露光し画像形成を行う。 - 特許庁

This is to simulate the shape of a circuit pattern that is formed by going through the steps of inputting data for an input pattern to be formed, and exposing a resist to a specified exposure light intensity based on input data for the input pattern to be formed, thus obtaining a resultant circuit pattern.例文帳に追加

形成用入力パターンのデータを入力し、入力された形成用入力パターンのデータに基づき、所定の露光強度でレジストを露光して回路パターンを形成する製造工程を経て形成された回路パターンの形状をシミュレーションして結果回路パターンを得る。 - 特許庁

The image forming apparatus 10 forms the image by exposing the surface of an electrophotographic photoreceptor 24 with light in accordance with image information so as to form an electrostatic latent image, developing the electrostatic latent image so as to form a visible image, and transferring the visible image to a recording paper P.例文帳に追加

画像形成装置１０では、電子写真感光体２４の表面を画像情報に応じた光で露光して静電潜像を形成し、その静電潜像を現像して可視画像を形成し、さらに可視画像を記録紙Ｐに転写することによって画像を形成する。 - 特許庁

In the manufacturing step of the sensor chip 3; a silicon oxide film 32 having resistivity to an etchant is formed on the front surface of a silicon substrate 31, and many apertures 17 for exposing the silicon substrate 31 is formed within a ring domain between the circumferential edge and the center area of the silicon oxide film 32.例文帳に追加

センサチップ３の製造工程では、シリコン基板３１の表面に、エッチング液に対する耐性を有するシリコン酸化膜３２が形成されて、そのシリコン酸化膜３２の周縁部と中央部との間の環状領域に、シリコン基板３１を露出させる多数の開口１７が形成される。 - 特許庁

This method for drying food is characterized by comprising blowing up dry air from under a shelf with a food put on in a drying chamber, passing the air into the exhaust direction followed by exhausting the air from the top, and also drying the top of the shelf through exposing the food to natural light.例文帳に追加

この発明は、乾燥室の棚上に並べた食品の棚下から乾燥空気を吹き上げ排気方向へ流動させ、上部から排気させると共に、棚上は自然光にさらして乾燥することを特徴とした食品乾燥方法によりその目的を達成した。 - 特許庁

The image writing apparatus forms an image by simultaneously scanning and exposing a photoreceptor with a plurality of light beams.例文帳に追加

複数の光ビームを同時に走査して感光体を露光し、画像形成を行う画像書き込み装置において、副走査方向に隣接した周辺画素の書き込み状況を判断し、書き込もうとする画像が副走査方向における孤立画像と判断すると光ビームによる書き込み密度を増加させる。 - 特許庁

To provide a headlamp of vehicle 1 capable of restraining internal temperature rise of a lighting circuit part by exposing part of the light circuit part 8 fixed to a reflector 3 to cool it by the outside air while keeping the inside of a lamp housing 2 airtight regardless of the attitude of the reflector 3.例文帳に追加

リフレクタ３の姿勢に拘わらずにランプハウジング２内部の気密を維持しつつ、リフレクタ３に固定された点灯回路部８の一部を外部に露出させ外気により冷却して点灯回路部の内部温度上昇を抑えることができる車両用前照灯１を提供する。 - 特許庁

A formation method of pixel pattern includes steps of: (1) forming a coating film of a colored radiation-sensitive composition containing at least one type selected from the group consisting of a dye and a lake pigment, on a substrate and (2) exposing at least part of the coating film with ultraviolet LED.例文帳に追加

（１）基板上に染料及びレーキ顔料よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する着色感放射線性組成物の塗膜を形成する工程、並びに（２）前記塗膜の少なくとも一部に紫外線ＬＥＤを用いて露光する工程を含む画素パターンの形成方法。 - 特許庁

Around the main transfer chamber 20, heat treatment apparatuses 24, 25 performing heat treatment on the wafer W, a deposition apparatus 26 depositing a resist film on the wafer W, an exposure apparatus 27 exposing the deposited resist film, and a development apparatus 28 developing the exposed resist film are arranged.例文帳に追加

主搬送室２０の周囲には、ウェハＷを熱処理する熱処理装置２４、２５と、ウェハＷ上にレジスト膜を成膜する成膜装置２６と、成膜されたレジスト膜を露光する露光装置２７と、露光されたレジスト膜を現像する現像装置２８と、が配置されている。 - 特許庁

Then the interconnection groove is completed by etching and removing the second insulation film 107 and the intermediate stopper film 106 using the upper groove 110 as a mask and the via hole is connected with the lower interconnection 101 by etching and removing the cap layer 104 exposing at the bottom of the via hole 112.例文帳に追加

そして、上溝１１０をマスクに第２絶縁膜１０７及び中間ストッパ膜１０６をエッチング除去して配線溝を完成すると共にビアホール１１２の底部に露出したキャップ層１０４をエッチング除去してビアホールを下層配線１０１と接続する。 - 特許庁

The liquid crystal display device comprises bonding a polarization film 23 for completely covering an incident face 21 on the incident face of a liquid crystal cell 2 and bonding a polarization film 24 on the whole face in a through hole of a bezel 1 and on a liquid crystal display part 22 of the exposing liquid crystal cell 2.例文帳に追加

液晶セル２の入射面２１には入射面２１を完全に覆うことができる偏光フィルム２３が貼り付けられ、ベゼル１の貫通孔と露出している液晶セル２の液晶表示部２２には、面全体に偏光フィルム２４が貼り付けられている。 - 特許庁

The pattern forming apparatus with the pattern forming material has at least a light irradiating means capable of irradiating light and a light modulator for modulating light from the light irradiating means and exposing the photosensitive layer of the pattern forming material to the modulated light.例文帳に追加

また、前記パターン形成材料を備えており、光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記パターン形成材料における感光層に対して露光する光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置である。 - 特許庁

A ceramic has a precipitated film of a second metal compound, which is formed on the surface of a ceramic base material by impregnating a solution containing a first metal compound as a solute into the ceramic base material, and then exposing the ceramic base material to an activated gas capable of forming a precipitate when the ceramic base material reacts with the solute.例文帳に追加

第一の金属化合物を溶質として含む溶液をセラミック基材に含浸させた後、セラミック基材を該溶質と反応して沈殿を生じせしめる活性気体に暴露させ、セラミック基材の表面に得られる第二の金属化合物沈着膜を有するセラミック。 - 特許庁

The BGA package is provided with a semiconductor element 3, a substrate 1 for mounting the element 3, bonding pads 2 formed on the surface of the substrate 1 so as to be connected to the element 3, and resin 5 for covering at least the element 3 and the pads 2 without exposing them.例文帳に追加

半導体素子３と、この半導体素子３を搭載する基板１と、この基板１表面に形成され、半導体素子３と接続するボンディングパッド２と、少なくとも半導体素子３及びボンディングパッド２を露出させることなく被覆する樹脂５を備える構造とする。 - 特許庁

To create good bondability between pads of a substrate, in which pads and an insulation film provided with openings exposing the pads are formed on one surface of a base material, and a solder material in a normal use environment and prevent the peeling of the pad from the base material even if a large impact is applied.例文帳に追加

基材の一面にパッドと当該パッドを露出させる開口部が形成された絶縁膜とが形成された基板のパッドと半田材料との通常の使用環境下での接合性を良好にするとともに、強い衝撃に対してもパッドと基材との剥がれを防ぐ。 - 特許庁

To improve use efficiency of light while maintaining good accuracy in exposing a subject by irradiating it with a light beam having a viewing angle in one axial direction larger than a viewing angle in the other axial direction through a mask having a stripe pattern.例文帳に追加

一方の軸方向の視角が他方の軸方向の視角より大きい光を照射できるようにし、ストライプ状のパターンが形成されたマスクを介して被処理物に光を照射し被処理物を露光するに際し、良好な露光精度を維持しながら、光の利用効率を向上させること。 - 特許庁

The effect to suppress the scale deposition is remarkably improved by forming a multilayer film from the plated layers in which the inorganic particles having excellent water wettability are dispersed, exposing the inorganic particles dispersed in each layer on the outermost surface to remarkably increase the dispersion quantity of the inorganic particles on the outermost surface.例文帳に追加

水濡れ性の良い無機粒子を分散させためっき皮膜で多層膜を形成し、各層に分散させた無機粒子が最表面に露出するようにして、最表面の無機粒子の分散量を飛躍的に増加させ、水垢付着を抑制する効果を大きく向上させる。 - 特許庁

A color filter (1) is manufactured by applying the coloring photosensitive resin composition after preservation on a substrate (3), forming a coloring photosensitive layer (4) by removing the solvent, exposing and subsequently developing the coloring photosensitive layer (4) so as to form a coloring pattern (2).例文帳に追加

保存後の着色感光性樹脂組成物を基板(３)の上に塗布し、溶剤を除去して着色感光性層(４)を形成し、該着色感光性層(４)を露光したのち、現像することで着色パターン(２)を形成することができ、カラーフィルター(１)を製造することができる。 - 特許庁

Kinetic energy is collected, and windage loss and revolution loss which are generated by exposing the coupling inside the flow passage along the turbine are made to be minimum or to be eliminated, in such a way that a diffuser (150) is arranged inside an intermediate cavity (130) between the upstream side and the downstream side turbines simultaneously.例文帳に追加

ディフューザ（１５０）を上流側及び下流側タービン間の中間キャビティ（１３０）内に設けて、運動エネルギーを回収すると同時に、カップリングがタービンに沿った流路に露出されることにより生じる風損及び回転損失を最小にするか又は排除する。 - 特許庁

The surface cleaning method for a biocompatible material includes the steps for immersing the biocompatible material in cleaning solution composed of alkaline solution heated to a temperature less than the allowable temperature limit of phosphoric acid-based biocompatible compound, and applying an ultraviolet light while exposing the surface to oxygen atmosphere.例文帳に追加

生体適合性材料の表面浄化方法は、リン酸系生体適合化合物の耐熱温度未満に加熱したアルカリ水溶液からなる洗浄液中に浸漬させた後、当該表面を酸素雰囲気中に暴露しながら、紫外線を照射することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an exposure device for exposing by scanning a laser light modulated in accordance with image information onto a photosensitive material, which can intentionally control a level of clearness such as an image sharpness, a smoothness or a touch of dimness without adjusting image data.例文帳に追加

感光材料上に、画像情報に応じて変調させたレーザ光を走査することによって露光を行う焼付装置において、画像データを調整することなく、画質のシャープさ、滑らかさ、ぼやけ感等の鮮影度について意図的に制御可能な焼付装置を提供することにある。 - 特許庁

Consequently, a light quantity reducing filter device is unnecessitated, then, not only the structure of the photographic paper exposing processing part, but also the structure of the digital printing device are simplified, besides, many light quantity adjusting patterns can be easily set, so that the exposure light quantity for the photographic paper 7 is accurately changed.例文帳に追加

かくして、光量低下用フィルタ装置が不要となるので印画紙露光処理部ひいてはデジタルプリント装置の構造が簡素化され、かつ多数の光量調整パターンを容易に設定することが可能となるので印画紙７の露光光量の変更をきめ細かく行うことができる。 - 特許庁

To provide an aligner that supports, aligns, and controls an object such that the reaction forces and the vibrations caused by the motion of the object are not transferred to other elements, such as a projection optical device for exposing a pattern of a mask onto the object, and to provide a method of exposure using the apparatus.例文帳に追加

対象物の運動により生ずる反力及び振動が、マスクのパターンを対象物に露光するための投影光学装置の如き他の要素に伝達しないように、対象物を支持、位置決め、及び、制御する露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus includes: a peripheral exposure device for exposing the edge of the resist film formed on a film to be processed; and equipment for heating the edge of the resist film simultaneously with peripheral exposure, or after peripheral exposure and before development.例文帳に追加

また、基板処理装置は、被加工膜上に形成されたレジスト膜の縁を周辺露光する周辺露光装置と、周辺露光するのと同時に、または周辺露光した後であって現像する前に、レジスト膜の縁を加熱する加熱装置と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an exposing unit and an imaging apparatus comprising it in which toner scattered through exposure can be prevented from adhering to the surface of the lens array in an LED head through a simple arrangement over a long time.例文帳に追加

本発明は、光露光によって生じる光飛散したトナーがＬＥＤヘッドのレンズアレイの表面に付着してしまうのを簡単な構成で長時間にわたって防止することができる露光装置および露光装置を備えた画像形成装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an electron beam emission source with a smaller electron emission angle, having a structure easy to join a nanotube, to provide a manufacturing method of the electron beam emission source, and to provide an electron beam lithography system with a smaller electron beam diameter and capable of exposing a micropattern.例文帳に追加

電子線の放出角度が小さくなり、また、カーボンナノチューブを接合しやすい構造を有する電子線放出源、電子線放出源の製造方法および電子ビーム径が小さくなり、微細パターンを露光することが可能な電子線描画装置を提供することにある。 - 特許庁

A method for forming a chromium-rich layer on a surface of a nickel alloy workpiece containing chromium comprises heating of the workpiece at a stable temperature of about 1100°C and then exposing the workpiece to a gaseous mixture containing steam and ≥1 kinds of nonoxidizing gases for a short time.例文帳に追加

クロムを含有するニッケル合金ワークピースの表面上にクロム富化層を形成させるための方法は、ワークピースを約１１００℃の安定な温度に加熱し、次いでこのワークピースを水蒸気及び１種以上の非酸化性ガスを含有するガス混合物に短時間曝すことを含む。 - 特許庁

To provide an ultraviolet irradiation apparatus not becoming hot, capable of developing the capacity of an ultraviolet ray source sufficiently, not applying damage to an object to be irradiated or the peripheral device and not exposing a worker to danger.例文帳に追加

紫外線照射装置が高温となることがなく、紫外線光源が十分に能力を発揮することができ、また被照射物や周囲の装置にダメージを与えることがなく、さらに作業者が危険にさらされることがない紫外線照射装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a visible ray photoreaction type titanium oxide particle, a base material and building material having a titanium oxide-containing coating film capable of exhibiting effectively the photocatalytic action of titanium oxide by exposing the titanium oxide particles on the surface, and to provide a manufacturing method of those items.例文帳に追加

可視光反応型チタン酸化物粒子を提供すること、及び皮膜からチタン酸化物粒子を表出させ、チタン酸化物の光触媒作用を効果的に発揮させることができるチタン酸化物含有皮膜を有する基材及び建材、並びにそれらの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a toner production method which enables production by a simple production method, by neither exposing colorant particles and wax particles on the surface despite of the toner being an aggregate of fine resin-containing particles, nor having a variation in a colorant content and a wax content.例文帳に追加

簡単な製造方法によって製造することができ、微細な樹脂含有粒子の凝集体であるにも関わらず着色剤粒子もしくはワックス粒子が表面に露出せず、また着色剤含有量、ワックス含有量にばらつきのないトナーの製造方法を提供する。 - 特許庁

The field electron emission element is fabricated by fabricating a catalytic metal layer for carbon nanotubes, an insulating layer, and a laminated film of metal layers in this order on a substrate, providing an opening exposing the catalytic metal layer for carbon nanotubes by photolithography and dry etching, and developing carbon nanotubes.例文帳に追加

基板上にカーボンナノチューブの触媒金属層と絶縁層と金属層の積層膜とをこの順番に作製し、その後フォトリソグラフィーとドライエッチングによりカーボンナノチューブの触媒金属層を露出させる開口を設け、カーボンナノチューブを成長し電界電子放出素子を作製する。 - 特許庁

To provide an electron emitting cathode, capable of attaining a high luminance due to low electron affinity while sufficiently ensuring heat radiation performance, and reducing the energy width by reducing heating temperature, to provide an electron microscope, and to provide an electron beam exposing machine provided with the electron emitting cathode.例文帳に追加

放熱性を十分に確保しつつ、電子親和力が低いことにより、高輝度を達成するとともに加熱温度を抑えてエネルギー幅を抑制することが可能な電子放射陰極、当該電子放射陰極を備えた電子顕微鏡および電子ビーム露光機を提供する。 - 特許庁

The method includes: forming an inorganic resist layer using an incomplete molybdenum oxide on a substrate to manufacture a master resist disk; exposing the inorganic resist layer to a luminous flux from a light source by an objective lens; and then developing the inorganic resist layer by using pure water.例文帳に追加

基板上にモリブデンの不完全酸化物を用いた無機レジスト層を形成してレジスト原盤を作成し、光源からの光束を対物レンズによって前記無機レジスト層に露光し、その後、無機レジスト層に対して純水を用いて現像する光ディスク原盤作製方法。 - 特許庁

To provide a high molecular weight polyester yarn having high tenacity after exposing to high temperature and high humidity environments for a long time by identifying a certain polyester yarn required to achieve an unexpected excellent performance in application of high temperature and high humidity and characteristics of the yarn.例文帳に追加

高温高湿適用において予想外に優れた性能を達成する必要がある特定ポリエステル糸およびそのようなポリエステル糸の特性を同定し、高温高湿条件に長期間暴露した後であっても高度の靭性を有するエアバッグ用の高分子ポリエステル糸を提供する。 - 特許庁

An InGaAs epitaxial layer is provided continuously between the optical semiconductor elements, and a part (more specifically, an aperture or a groove) for exposing a layer underlying the InGaAs epitaxial layer at least to a layer overlying the InGaAs epitaxial layer is provided.例文帳に追加

ＩｎＧａＡｓエピタキシャル層は、複数の光半導体素子の間に連続的に設けられ、当該ＩｎＧａＡｓエピタキシャル層の下の層を少なくとも当該ＩｎＧａＡｓエピタキシャル層より上の層に対して露出させる部分（具体的に言えば、開口部、或いは、溝）を備えている。 - 特許庁

In the photomask 10, a halftone phase shift film 2 is selectively formed on a principal surface of a transparent substrate 1 while exposing a part of the principal surface, has a transmittance of 3% to 30% and transmits exposure light substantially in a reversed phase.例文帳に追加

フォトマスク１０において、ハーフトーン位相シフト膜２は、透明基板１の主表面の一部を露出するように主表面上に選択的に形成され、３％以上３０％以下の透過率を有し、かつ露光光を実質的に逆位相にして透過するものである。 - 特許庁

Moreover, after forming the barrier rib by coating a solution obtained by dispersing only barrier rib resin over the entire surface of the substrate including the flaw part while correcting the alignment positions of the substrate and a reticle, exposing the coated surface again in a barrier rib pattern shape at the same position, and developing the substrate again, the barrier rib flaw part is repaired by thermally curing the barrier rib.例文帳に追加

また、欠陥部を含む基板全面に亘り、隔壁樹脂のみを分散させた溶液を塗布し、基板とレチクルとをアライメント位置補正し、同位置で隔壁パターン状に再露光、再現像し、隔壁を形成した後、隔壁を熱硬化することで隔壁欠陥部を修復する。 - 特許庁

The LED illumination device A is provided with a substrate 2, a plurality of LED chips 32 arranged on the substrate 2, a spherical case 1 housing the substrate 2 and having an opening 11 for exposing the plurality of LED chips 32, the LED chips 32 constituting a planar light source.例文帳に追加

ＬＥＤ照明装置Ａは基板２と、基板２に配置された複数のＬＥＤチップ３２と、基板２を収容し、かつ複数のＬＥＤチップ３２を露出させる開口１１を有する球形状のケース１、を備え，ＬＥＤチップ３２は面状光源を構成している。 - 特許庁

To provide a dishwasher increased in the degree of freedom on the installation place by including a booster in the machine chamber of a washer body without exposing pipes and electric cables connecting the booster to the washer body, to the outside and improved in work efficiency of maintenance and operability in operation.例文帳に追加

ブースタを洗浄機本体の機械室に内蔵して設置場所の自由度を増すことができ、洗浄機本体とブースタとをつなぐ配管や電気ケーブルが外部に露出せず、且つメンテナンスの作業性向上並びに運転操作性向上を図り得る食器洗浄機を提供する。 - 特許庁

The exposing device PE detects whether a substrate W to be exposed is supplied to a first substrate stage 11 or a second substrate stage 12, and when supply of the substrate W to be exposed is stopped, at least performs idle operation of the first substrate stage 11 or the second substrate stage 12.例文帳に追加

露光装置ＰＥは、露光されるべき基板Ｗが第１又は第２基板ステージ１１，１２に供給されるかどうかを検出し、露光されるべき基板Ｗの供給が停止したとき、少なくとも第１又は第２基板ステージ１１，１２の空運転を行う。 - 特許庁