「PAtterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(67ページ目) - Weblio英語例文検索

A sacrifice film having a film thickness not to influence photolithography in patterning is formed on the gate electrode material, the sacrifice film is patterned by etching, and the gate electrode material is patterned by using the patterned sacrifice film 8a for a mask to form gate electrodes 11 and 12.例文帳に追加

パターニング時におけるフォトリソグラフィに影響を与えない膜厚を有する犠牲膜をゲート電極材料上に形成し、エッチングにより犠牲膜をパターニングするとともに、パターニングされた犠牲膜８ａをマスクに用いてゲート電極材料をパターニングしてゲート電極１１，１２を形成する。 - 特許庁

To provide an optical wave guide element of a high characteristic with a patterned epitaxial oxide thin film optical wave guide, and to provide a manufacturing method capable of conducting precisely patterning for the optical wave guide element with excellent productivity.例文帳に追加

高い特性を有し、パターニングされたエピタキシャル酸化物薄膜光導波路を備えた光導波路素子を提供すること、また前記の光導波路素子のパターニングを精度よくまた生産性よく行うことができる光導波路素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Patterning of a resin layer 102 to be a spacer layer 12 sandwiched between a top electrode layer 11 comprising a pair of right and left top electrodes 11a, 11b and a bottom electrode layer 13 comprising a bottom electrode 13a is performed, to form liquid-medium holding spaces 14a of liquid holding cavities.例文帳に追加

左右一対の上部電極１１ａ，１１ｂを含む上部電極層１１と下部電極１３ａを含む下部電極層１３とで挟まれたスペーサー層１２となる樹脂層１０２をパターニングして液体収容キャビティーの液媒収容空間１４ａを形成する。 - 特許庁

The lithographic method includes using an illumination system to provide a radiation beam having an illumination mode, using a patterning device to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, and projecting the patterned radiation beam onto a plurality of substrates.例文帳に追加

リソグラフィ方法が提供され、同方法は、照明システムを使用して照明モードを有する放射ビームを供給すること、パターニングデバイスを使用して放射ビームに断面においてパターンを与えること、複数の基板上に前記パターニングされた放射ビームを投影すること、を含む。 - 特許庁

The plasma display panel provided with an upper panel and a lower panel facing each other with barrier ribs in between is composed of a first dielectric layer formed on the upper panel and a second dielectric layer which is formed on the above first dielectric layer by patterning and contains black pigment.例文帳に追加

隔壁を介して相対向する上部パネルと下部パネルを備えるプラズマディスプレイパネルにおいて、上部パネルに形成された第１誘電体層と、前記第１誘電体層上にパターニングされて形成され、ブラック顔料が含まれた第２誘電体層と、を備える構成とした。 - 特許庁

The method for manufacturing semiconductor devices further includes a step of manufacturing the thickened resist patterns by forming the resist patterns on an underlayer and then applying the thickening material on the surfaces of the resist patterns thereby thickening the resist patterns, and a step of patterning the underlayer by etching using the thickened resist patterns.例文帳に追加

下地層上にレジストパターンを形成後、該レジストパターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該レジストパターンを厚肉化し厚肉化レジストパターンを製造する工程と、該厚肉化レジストパターンを用いてエッチングすることにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

Further, the manufacturing method of the photoelectric conversion device according to an embodiment includes: a process where a radiation part 8 is formed by radiating laser light to a part of the light absorption layer 3; and a process where a removal part is formed by removing the radiation part 8 by mechanical processing and patterning is performed on the light absorption layer 3.例文帳に追加

さらに、本実施形態に係る光電変換装置の製造方法は、光吸収層３の一部に、レーザを照射してなる照射部８を形成する工程と、照射部８を機械加工で除去して除去部を形成し、光吸収層３をパターニングする工程とを備えている。 - 特許庁

A light shielding pattern 2a composed of an organic film for transferring pattern is constituted of a laminated film which is formed by laminating a light absorbability organic film 3a, which shows a light shielding property or a light attenuating property to the exposure light of which wavelength is 200 nm or more, and a resist film 4a mainly to do patterning this.例文帳に追加

パターン転写用の有機膜からなる遮光パターン２ａを、波長２００ｎｍ以上の露光光に対しても遮光性または減光性を示す吸光性有機膜３ａと、主としてこれをパターニングするためのレジスト膜４ａとの積層膜で構成した。 - 特許庁

To provide a multi-layer film pattern which can fully prevent generation of an overhang part which overhangs from an end plane of a multi-layer film pattern, as well as generation of a failure caused by that overhang in the manufacturing method of a multi-layer film including a process of patterning the multi-layer film pattern in batch using one photomask.例文帳に追加

一つのフォトマスクを用いて、多層膜を一括してパターニングする工程を含む、多層膜パターンの製造方法において、多層膜パターンの端面から張り出すひさし部分（オーバーハング部）の生成、及びこれに起因する不良の発生を充分に防止することができるものを提供する。 - 特許庁

In the film formation method of the substrate 30, when an SiO_2 film 38 is formed on the substrate 30, the area S_1 of high etching resistance and the area S_2 of low etching resistance are formed so as to be along the uneven patterns of the patterning part 14 of an electrode plate 10.例文帳に追加

本発明に係る基板３０の成膜方法においては、基板３０上にＳｉＯ_２膜３８を成膜すると、そのＳｉＯ_２膜３８には、電極プレート１０のパターニング部１４の凹凸パターンに沿うように、エッチング耐性の高い領域Ｓ_１と低い領域Ｓ_２とが形成される。 - 特許庁

In a method of processing a material to be processed which is formed on a semiconductor substrate 101 or a material to be processed which comprises a plurality of multilayer films using a desired double patterning method, processing for defining the element isolation width can be performed twice when a pattern is formed.例文帳に追加

半導体基板上に形成された被加工材料、若しくは複数の積層膜から構成される被加工材料を所望のダブルパターンニング法を用いて加工する製造方法において、パターンを形成する際、素子分離幅を規定する加工を２回行うことで解決できる - 特許庁

A laser light 5 whose pattern is shaped through a mask 4 is given to a transparent conductive film 3 formed on a resin layer 2 on a substrate 1, and a part emitted by the laser light 5 in the transparent conductive film 3 is removed from the resin layer 2 for patterning.例文帳に追加

基板１上の樹脂層２上に成膜された透明導電膜３に、マスク４を介してパターン成形されたレーザ光５を照射し、この透明導電膜３のこのレーザ光５照射部分をこの樹脂層２上から除去してパターニングするようにしたものである。 - 特許庁

The magnetic recording medium has: a magnetic pattern formed by patterning a ferromagnetic layer; and the non-magnetic layer including a component of the ferromagnetic layer and parting the magnetic pattern, wherein a thickness (a) of the non-magnetic layer and a thickness (b) of the magnetic pattern satisfy a relation of (a)<(b).例文帳に追加

強磁性層をパターン化した磁性パターンと、前記強磁性層の成分を含み前記磁性パターン間を分断する非磁性層とを有し、前記非磁性層の厚さａと前記磁性パターンの厚さｂがａ＜ｂの関係を満たすことを特徴とする磁気記録媒体。 - 特許庁

By this structure, connecting parts of both end light emitting elements to be actually used as light emitting elements to anode electrodes can be formed by patterning without breaking the pattern continuity, so that connecting parts at all light emitting elements to be used can be made uniform in dimensions.例文帳に追加

このような構造にすると、発光素子として実際に使用する両端発光素子のアノード電極への接続部は、パターンの連続性が途切れずにパターニング形成できるようになるため、使用するすべての発光素子での接続部の寸法を均一に揃えることができる。 - 特許庁

To reduce chip cost by reducing the off leak current of a memory cell connected with a bit line even in a large scale memory core and increasing the number of memory cells connected with one word line thereby reducing the total area of the memory core, and to facilitate patterning when the mask of a memory cell array is formed.例文帳に追加

規模の大きいメモリコアにおいてもビット線に接続されるメモリセルのオフリーク電流を低減し、１本のワード線あたりに接続されるメモリセル数を増やしてメモリコア全体での面積削減によるチップコストの削減を実現し、またメモリセルアレイ部のマスク作成時のパターニングを容易にする。 - 特許庁

To measure as to whether or not a disc which is of circular discs used in a device for detecting displacement information of a displaced object such as a position, a displacement value, a displacement direction and the like, satisfies a desired diffraction efficiency, without individually cutting the disc out of a wafer whereon patterning the disc is carried out.例文帳に追加

変位物体の位置、変位量、変位方向等の変位情報を検出する装置に用いる円形のディスクに関し、ウエハにパターンニングされた状態からディスクを個別に切り出すこと無く、ディスクが所望の回折効率を満たしているかどうかを測定すること。 - 特許庁

To provide a multiple patterning wiring board in which connecting pads are jointed strongly to a mother board and are capable of being divided so as to keep a predetermined position relation with respect to the outer rim of the wiring board region, while being capable of connecting the connecting pads normally to an external electric circuit through individual wiring boards.例文帳に追加

接続パッドが母基板に強固に接合されると共に接続パッドが配線基板領域の外縁部に対して所定の位置関係とされて分割でき、個々の配線基板で接続パッドを外部の電気回路に正常に接続できる多数個取り配線基板を提供すること。 - 特許庁

The Pockels cell is used to correct polarization of the radiation beam, and the array of individually controllable reflective elements is used to give a pupil plane distribution to the radiation beam, and a patterning device is used to give a pattern to the radiation beam, and a projection system is used to project the radiation beam having had the pattern given thereto, to the substrate.例文帳に追加

ポッケルスセルを使用して放射ビームの偏光を修正し、個別的に制御可能な素子のアレイを使用して放射ビームに瞳面分布を与え、パターニングデバイスを使用して放射ビームにパターンを付与し、投影系を使用して、パターンが付与された放射ビームを基板に投影する。 - 特許庁

The laser processing device 100 includes two galvanoscanners (14 and 24) which scan two processing regions R1 and R2 (y1 and y2) on a processing stage (4) aligned in a longitudinal carrying direction of a flexible substrate 1 with laser beams, respectively, while concurrently performing patterning; and a control part (19) common to them.例文帳に追加

レーザ加工装置１００は、可撓性基板１の長手搬送方向に並設された加工ステージ（４）上の２つの加工領域Ｒ１，Ｒ２（ｙ１，ｙ２）に対して、それぞれレーザ光を走査し、同時並行してパターニングを行なう２つのガルバノスキャナ（１４，２４）と、それらに共通の制御部（１９）とを備えている。 - 特許庁

To solve such a problem that, when a sublimation material is formed by coating, an organic compound layer cannot be deposited in a consecutive vacuum, so that a manufacturing cost and a tact time is increased, in a method for manufacturing an organic EL display device, the method using a release layer comprising the sublimation material for patterning a luminous layer.例文帳に追加

昇華材料からなる剥離層を用いて発光層をパターニング形成する有機ＥＬ表示装置の製造方法において、昇華材料を塗布により形成すると有機化合物層を一貫した真空下で成膜ができなくなり、製造コストやタクトタイムが長くなってしまう。 - 特許庁

Also, in accordance with the modifying of this patterning mask, an isolation-film removing mask pattern 40a' is so modified and so designed in a first region A' of the isolation-film removing mask as to remove the predetermined region of the isolation film, which is to be formed on the first quasi activated region.例文帳に追加

また、このパターニング用マスクの修正に伴って、絶縁膜除去用マスクの第１領域Ａ’に、第１の疑似の活性化領域上に形成される絶縁膜の所定領域が除去されるように絶縁膜除去用マスクパターン４０ａ’を修正設計する。 - 特許庁

In this high polymer electroluminescent element constituted by laminating at least an electrode, a high polymer light emitting layer, and an opposing electrode on a substrate, an insulation protection layer is provided between the high polymer light emitting layer and the opposing electrode to prevent leak and short circuit of the element caused by defective patterning.例文帳に追加

基板上に少なくとも電極と高分子発光層と対向電極を積層してなる高分子エレクトロルミネッセンス素子において、高分子発光層と対向電極との間に絶縁保護層を設けることでパターニング不良などに起因する素子のリークや短絡を防止する。 - 特許庁

To provide a knitted jacket requiring not so much time for preparation for start of production or change in design, applicable to complicated patterning, highly flexible in design, reducing time and costs required for a cutting process, slightly causing cut loss, and excellent in wearing feeling: and to provide a method for producing the jacket.例文帳に追加

製造開始の準備やデザインの変更にそれほどの時間と労力とを要することがなく、複雑な柄出しが可能でデザイン上の自由度が高く、裁断工程に要する時間とコストを削減することができ、カットロスが少なく、着心地の良いニット上着及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display wherein cost increase generated by patterning can be prevented, disturbance of liquid crystal injection due to presence of a protrusion in a liquid crystal layer can be avoided and reduction of contrast caused by light leakage at the time of black display can be avoided and to provide a manufacturing method of the same.例文帳に追加

パターニングによるコスト高を防止し、液晶層内の突起の存在により、液晶の注入が妨げられるのを回避し、かつ黒表示時に光漏れが発生し、コントラストが低下するのを回避し得る液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Subsequently, the glass substrate 21 is turned over and the back surface 21b is exposed upward, and a second mask 32 is arranged while aligned with the glass substrate 21 so that alignment marks 43 and 44 match the cut 22, before carrying out lithographic patterning on the back surface 21b of the glass substrate 21 according to a second mask pattern 42.例文帳に追加

そして、ガラス基板２１を裏返し、ウラ面２１ｂを上方に露呈させ、アライメントマーク４３，４４が切り欠き２２に合致するように第２マスク３２をガラス基板２１に位置合わせして配置し、ガラス基板２１のウラ面２１ｂに第２マスクパターン４２に応じたリソグラフィパターンをパターニングする。 - 特許庁

Preferably, a plastic substrate 12 having at least one side with a barrier layer 14a or 14b formed thereon is used for the flexible barrier substrate and the protective film is solubilized in the solvent by irradiation of light having a wavelength different from the exposure wavelength of a photosensitive resin used for patterning of the conductive film.例文帳に追加

好ましくは、プラスチック基板１２の少なくとも一方の面にバリア層１４ａ，１４ｂが形成された可撓性バリア基板を用い、保護膜は、導電性膜をパターニングする際に用いる感光性樹脂の感光波長とは異なる波長の光照射によって溶剤に可溶化する。 - 特許庁

A movable electrode 20 is formed on a sacrifice layer 15 formed on a silicon substrate 1, and a wiring laminated part where a first interlayer insulation film 16, a first wiring layer 23, a second interlayer insulation layer 17, and a second wiring layer 24 are laminated in this order while partially patterning.例文帳に追加

シリコン基板１上に形成された犠牲層１５上に可動電極２０を形成し、可動電極２０上に、第一層間絶縁膜１６、第一配線層２３、第二層間絶縁膜１７、第二配線層２４を、この順に一部をパターニングしながら積層させた配線積層部を形成する。 - 特許庁

The antenna element 3 is roughly configured by patterning in total 4 layers of radiation conductors 5 to 8 to both ceiling and bottom faces and an intermediate layer of the dielectric base 4 adopting a multilayer structure, connecting the radiation conductors 5 to 8 in parallel and incorporating a varactor element 9 and a capacitor 10.例文帳に追加

このアンテナ素子３は、多層構造の誘電体基体４の天地両面と中間層に計４層の放射導体５〜８をパターニングして、各放射導体５〜８を並列に接続すると共に、可変容量素子９やキャパシタ１０を組み込んで概略構成されている。 - 特許庁

A method for producing the artificial marble in which the artificial marble is produced by injecting a material for producing the artificial marble obtained by additionally adding the patterning materials 1 into the matrix compound composed by mixing additives such as fillers and hardeners in a thermosetting resin into a casting mold, shaping and hardening it.例文帳に追加

熱硬化性樹脂に充填剤と硬化剤などの添加物を配合したマトリックスコンパウンドに更に柄材１を添加して得た人造大理石成形用材料を注型用金型に注入して成形硬化させて人造大理石を製造する人造大理石の製造方法である。 - 特許庁

Immediately after a resist pattern 2a having light shielding property against exposure light and consisting of an electron beam-sensitive resist film 2 is formed by patterning the electron beam-sensitive resist film 2 applied on the principal face of a mask substrate 1, a pellicle PE is mounted on the principal face of the mask substrate 1.例文帳に追加

マスク基板１の主面上に塗布された電子線感応レジスト膜２をパターニングすることにより、電子線感応レジスト膜２からなり露光光に対して遮光性を有するレジストパターン２ａを形成した直後にマスク基板１の主面にペリクルＰＥを装着する。 - 特許庁

To provide a material and a process for eliminating a complicated and constrained process on patterning a functional film, and for specifying the position of the outer edge in the patterned functional film at a low cost with a simple configuration, and further to provide the organic electroluminescent element of high capability using these material and process at a low cost.例文帳に追加

機能膜をパターンニングする際に、プロセスの複雑化や制約を低減し、パターン形成される機能膜の外縁部の位置を低コストかつ簡便に規定するための材料及びプロセスを提供し、さらにはそれらを用いて低コストで高性能の有機電界発光素子を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist pattern which does not give rise to intermixing at the boundary between an upper layer resist layer and a lower layer resist layer and consequently has a good shape, a method of forming this resist pattern, a patterning method of a thin film by using this resist pattern and a method of manufacturing a thin-film magnetic head.例文帳に追加

上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To overcome the problem of a prior art such that the reaction product of the atom of a metal film and the gas of dry etching is generated for preventing the patterning of the insulating film in a termination process when the insulating film on the metal film is subjected to dry etching by a mask made of a photosensitive resin that is subjected to pattern formation.例文帳に追加

金属膜上の絶縁膜を、パターン形成された感光性樹脂のマスクでのドライエッチングを行うと、終端工程で、上記金属膜の原子と上記ドライエッチングのガスとの反応生成物が生成され、上記絶縁膜のパターン化の支障になる。 - 特許庁

The selective patterning method includes a DC heating evaporation method, an ion beam evaporation method, a reactive ion beam evaporation method, a two-pole sputtering method, a magnetron sputtering method, a reactive sputtering method, a three-pole sputtering method, an ion beam sputtering method, an ion plating method, a hollow cathode beam method, an ion beam injection method and a plasma CVD method and the like.例文帳に追加

選択的パターニング方法は、直流加熱蒸着法、イオンビーム蒸着法、反応性イオンビーム蒸着法、２極スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、反応性スパッタ法、３極スパッタ法、イオンビームスパッタ法、イオンプレーティング法、ホローカソードビーム法、イオンビーム注入法及びプラズマＣＶＤ法などである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film transistor for realizing a heating process for improving the characteristics of a gate insulating film, such as reduction in the boundary surface level and reduction in the fixed charges, while preventing a problem of the alignment deviation in patterning due to expansion and contraction of glass.例文帳に追加

本発明は、ガラスの膨張、収縮がパターニングのアライメントずれの問題を引き起こさずに、界面準位低減、固定電荷低減といったゲート絶縁膜の特性向上を目的とした加熱処理を可能とする薄膜トランジスタの作製方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a multilayer printed wiring substrate where a short circuit etc. resulted on a pattern of a lower layer is eliminated by making a pin-shaped checking probe go through a check land of the multilayer printed wiring substrate, a multilayer printed wiring substrate patterning method, and an inspection apparatus using the check land.例文帳に追加

ピン状のチェック用のプローブが多層プリント配線基板のチェックランドを貫通することで下層のパターンで生ずるショート等を除去する様にした多層プリント配線基板及び多層プリント配線基板のパターニング方法並びにチェックランドを用いた検査装置を得る。 - 特許庁

Also, a method for manufacturing the surface acoustic wave device 1 includes the steps of applying a resist R3 onto the IDT electrode 9 and the connection interconnect 13, and patterning the resist R3 to cover at least a portion connecting the IDT electrode 9 and the connection interconnect 13.例文帳に追加

また、本発明に係る弾性表面波装置１の製造方法は、ＩＤＴ電極９及び接続配線１３上にレジストＲ３を塗布し、ＩＤＴ電極９と接続配線１３との接続部分を少なくとも覆うようにレジストＲ３をパターニングする工程を含む。 - 特許庁

After removing the ion implantation mask pattern, a transfer gate electrode, an NMOS gate electrode, and a PMOS gate electrode are formed on a semiconductor substrate in a pixel region, on that of the NMOS region, and on that of the PMOS region, respectively, by patterning the polysilicon film.例文帳に追加

イオン注入マスクパターンを除去した後にポリシリコン膜をパターニングして画素領域の半導体基板上に転送ゲート電極、ＮＭＯＳ領域の半導体基板上にＮＭＯＳゲート電極及びＰＭＯＳ領域の半導体基板上にＰＭＯＳゲート電極を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a metal electrode, that can substantially remove edge-curls to the extent where no effect of edge-curls remains, in patterning by photolithography such a metal electrode as a bus electrode and a data electrode constituting a display panel, starting with a PDP.例文帳に追加

ＰＤＰを初めとする表示パネルを構成するバス電極及びデータ電極などの金属電極をフォトリソグラフィー法でパターニングする場合にエッジカールの影響がない程度にまで実質的にエッジカールを解消することのできる金属電極の作製方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an active energy ray curable resin composition having superior heat resistance and being capable of patterning with a dilute aqueous alkaline solution, using a normal organic solvent as a solvent, and reducing a development residue in alkali development.例文帳に追加

本発明の課題は、優れた耐熱性を有し、かつ、希アルカリ水溶液でのパターニングが可能で、しかも、溶剤として通常の有機溶剤を使用することもでき、さらに、アルカリ現像時の現像残渣を低減することが可能な活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the thin film transistor mounting substrate includes in order the steps of: forming an amorphous oxide thin film 13 to become the active layer on or above the plastic substrate 10; patterning the amorphous oxide thin film 13; and Joule-heating the amorphous oxide thin film 13.例文帳に追加

プラスチック基板１０の上又はその上方に活性層となるアモルファス酸化物薄膜１３を形成する工程と、そのアモルファス酸化物薄膜１３をパターニングする工程と、そのアモルファス酸化物薄膜１３をジュール加熱する工程とをその順で少なくとも有する。 - 特許庁

The photosensitive adhesive composition 1a has a thermocompression bonding property to an adherend after patterning by exposure and development, is developable with an alkali and has an elastic storage modulus of ≥10 MPa at 110°C after exposure and thermal curing.例文帳に追加

露光及び現像によってパターニングされた後に被着体に対する熱圧着性を有し且つアルカリ現像が可能な感光性接着剤組成物１ａであって、露光後、更に加熱硬化された後の１１０℃における貯蔵弾性率が１０ＭＰａ以上である、感光性接着剤組成物。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition which can form a photosensitive resin layer having excellent developability, resolution and adhesiveness after patterning, a photosensitive dry film which has a photosensitive resin layer comprising the composition, and a light receiving device having a spacer that is obtained by curing the composition.例文帳に追加

現像性、解像性、パターニング後の接着性に優れた感光性樹脂層を形成可能なネガ型感光性樹脂組成物、その組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性ドライフィルム、及びその組成物が硬化したスペーサを備える受光装置を提供する。 - 特許庁

To deal with the exposure for patterning where micro patterns with different pitches coexist closely and to accurately form micro patterns at enough production process margin without using a photo mask such as Levenson-type phase shift mask that has a complicated production process and is high in manufacturing cost.例文帳に追加

ピッチの異なる微細なパターンが近接して混在するパターニングを行うための露光にも対応し、レベンソン型位相シフトマスクの如き製造プロセスが煩雑で製造コストの高いフォトマスクを用いることなく、十分な製造プロセスマージンで微細なパターンを精度良く形成する。 - 特許庁

Furthermore, in the manufacturing method for a semiconductor in a second invention, a gold film is formed on a semiconductor substrate where the surface treatment is performed, and patterning is performed in etchant, whereupon only the gold film is etched, and the surface of the gallium arsenide semiconductor substrate is not etched.例文帳に追加

さらに、第２の発明の半導体装置の製造方法は、上記表面処理を行った半導体基板上に金膜を形成してヨウ素系エッチング液でパターニングを行うと、金膜のみがエッチングされ、露出するガリウム砒素半導体基板表面は、エッチングされない。 - 特許庁