「PAtterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(68ページ目) - Weblio英語例文検索

A method for manufacturing circuit board includes: a substrate formation process S1 for burning green sheet to form a ceramic substrate; a catalyst patterning process S2 for drawing and forming a catalyst pattern from a liquid body containing plating catalyst; and a plating process S3 for plating the catalyst pattern.例文帳に追加

グリーンシートを焼成してセラミック基板を形成する基板形成工程Ｓ１と、めっき触媒を含有する液状体で触媒パターンを描画形成する触媒パターニング工程Ｓ２と、前記触媒パターンにめっきを施すめっき工程Ｓ３と、を有する回路基板の製造法。 - 特許庁

To provide a plant monitor control system having a guidance system for preparing a guidance database related with operations for realizing guidance by patterning, storing and learning the history of operations by human being, and for improving efficiency by shortening the operations.例文帳に追加

人間による操作の履歴をパターン化して蓄積、学習していくことにより、操作に関するガイダンスデータベースを作成し、ガイドを行い、かつ、操作の短縮をも可能にして、効率を向上させることが可能なガイダンスシステムを有するプラント監視制御システムを提供すること。 - 特許庁

The method for preparing the oxide thin film transistor having a substrate, a gate electrode, a gate insulating film, a source electrode, a drain electrode, and a semiconductor thin film includes a step for patterning the gate insulating film or the semiconductor thin film through the helicon plasma dry etching process.例文帳に追加

基板とゲート電極とゲート絶縁膜とソース及びドレイン電極と半導体薄膜とを含む酸化物薄膜トランジスタの製造方法において、ゲート絶縁膜又は半導体薄膜は、特定エッチングガスを使用するヘリコンプラズマ乾式工程を通じてパターン化されるステップを含んでいる。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an optics compartment that contains the patterned surface of a patterning device and an optical element, and a substrate compartment connected to the optics compartment by a connection that is arranged to pass a patterned beam of radiation from the optical element to a substrate.例文帳に追加

このリソグラフィ装置は、パターン形成装置のパターン形成された表面と光学素子とを収容する光学区画と、パターン形成された放射ビームを光学素子から基板に通過させるように構成された、接続部によって光学区画に連結された基板区画とを含む。 - 特許庁

To obtain a structure of a vibrator whose electrode intersection area can be made large while an increase in occupation area is suppressed and to obtain a structure of a vibrator whose electrode intersection area can be made large without sacrificing patterning precision nor simplicity of a manufacturing process.例文帳に追加

占有面積の増大を抑制しつつ電極交差面積を大きくすることができる振動子の構造を実現し、また、パターニング精度や製造工程の簡易性を犠牲にすることなく電極交差面積を大きくすることができる振動子の構造を実現する。 - 特許庁

(2) The resist is patternwise exposed with an allowance for the resolution limit of the resolving power of wavelength of exposing light and this resist or a mask material formed from the resist is treated by isotropic etching to carry out patterning finer than the resolution limit.例文帳に追加

レジストについて露光波長の解像力の解像限界より余裕をもったパターン露光を行い、その後該レジスト又はレジストにより形成されたマスク材料を等方性エッチングを用いて処理することにより、前記露光波長の解像力の解像限界よりも微細なパターニングを行う。 - 特許庁

To avoid the problem that a shadowing effect or a patterning accuracy is deteriorated by lowering the height of a capacitive element on a substrate in a technique for forming the element particularly in which a pair of electrodes are formed of a polycrystal semiconductor.例文帳に追加

容量素子で、特にその一対の電極がいずれも多結晶半導体で形成される容量素子の形成技術において、容量素子の基板に対する高さを低くすることにより、シャドウイング効果やパターニングの精度の劣化を招来するという問題点を回避することにある。 - 特許庁

A dual-drop mode for a printer uses at least two full-length waveforms and switches between the waveforms according to one or more patterning methodologies to print a page-length document having a dual-drop size print pattern across the printed portion of the page.例文帳に追加

プリンタのデュアル・ドロップ・モードは、少なくとも２つの全長波形を用い、１つ又はそれ以上のパターン形成方法により、これらの波形の間で切り替えて、ページの印刷された部分にわたり２つの液滴サイズの印刷パターン有する、１ページ長の文書を印刷する。 - 特許庁

The method of this invention for manufacturing a display device, in which at least a first electrode film (11), a light emitting film (13) and a second electrode film (14) are formed on a substrate (10), and has a feature of patterning at least any of the films by means of laser etching.例文帳に追加

本発明の表示装置の製造方法は、基板上(10)に少なくとも第１の電極膜(11)、発光膜(13)及び第２の電極膜(14)を形成してなる表示装置の製造方法において、少なくともいずれかの膜をレーザエッチングによってパターニングすることを特徴とする。 - 特許庁

In this production method of the integrated circuit, the step parts in the integrated circuit are reduced by providing a step for sticking a first conductive material layer 14 on a first inductive material layer 12 and a step for forming a first conductive pattern 15 by patterning the first conductive material layer 14.例文帳に追加

第一の導電材料層１４を第一の誘電材料層１２の上に付着するステップと、第一の導電材料層１４をパターン化して第一の導電性パターン１５を形成するステップとを備える、集積回路中の段部を少なくする、集積回路の製造方法である。 - 特許庁

The resin composition is prepared by compounding a thermosetting resin with additives such as a filler, a patterning material, an internal mold release agent, a curing agent, etc., and is poured into a casting mold to be molded and hardened, giving an artificial marble molding.例文帳に追加

熱硬化性樹脂に充填剤、柄材、内部離型剤、硬化剤などの添加物を配合して得られる樹脂組成物で、これを注型用金型に注入して成形硬化させることにより人造大理石成形品を製造するのに用いる人造大理石製造用の樹脂組成物である。 - 特許庁

In the method of manufacturing a thin film transistor, a thin film having a three-layer (first metal layer 38/ITO layer 40/second metal layer 42) structure is used simultaneously as a source electrode, a drain electrode and a pixel electrode to thereby omit the via forming step and the patterning for forming the pixel electrodes.例文帳に追加

薄膜トランジスターの製造方法において、３層（第１金属層３８/ＩＴＯ層４０/第２金属層４２）構造の薄膜を、ソース電極とドレイン電極、および画素電極として同時に使用することにより、ビアホール形成工程と、画素電極形成のためのパターンニングを省略する。 - 特許庁

In other words, when a defect occurs in the wiring 20 due to stress such as patterning in a wafer process, the defect causes resistance for increasing the value of the resistance of the wiring 20, and the defect in the wiring 20 is easily and highly sensitively detected.例文帳に追加

すなわち、ウェハ工程においてパターニング等によるストレスによって欠陥検査用配線２０内に欠陥が発生すると、その欠陥が抵抗となって、欠陥検査用配線２０の抵抗値が増大するため、欠陥検査用配線２０内の欠陥を容易に、かつ、高感度に検出することができる。 - 特許庁

By forming pad layers and raising the height of an intrinsic base layer relative to the source and drain of preexisting CMOS devices and by forming an extrinsic base through selective epitaxy, the effect of surface variations is minimized during a lithographic patterning of the extrinsic base.例文帳に追加

パッド層を形成して、先在するＣＭＯＳデバイスのソースおよびドレインに対して真性ベース層の高さを隆起させることにより、かつ選択的エピタキシを介して外因性ベースを形成することにより、表面の凹凸の影響は、外因性ベースのリソグラフィによるパターン形成時に最小になる。 - 特許庁

The external base layer is formed with two layers: a first external base layer 7 made of polycrystal silicon germanium and a second external base layer 8 whose etching rate differs from that of the first layer, the shape of the external base layer is subject to patterning and thereafter the second external base layer 8 is selectively removed by etching.例文帳に追加

外部ベース層を、多結晶シリコンゲルマニウムからなる第１の外部ベース層７と、第１の層とはエッチングレートの異なる第２の外部ベース層８の２層から形成し、外部ベース部分の形状をパターニング後、第２の外部ベース層８をエッチングにより選択的に除去する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a flexible wiring circuit board of which patterning accuracy is never lowered and which hardly causes pattern defects even if a pattern pitch becomes very small, and which allows the reduction in size of manufacturing facilities relatively easily and can make the lead time relatively short.例文帳に追加

フレキシブル配線回路基板のパターンピッチが非常に小さくなった場合であっても、パターニング精度が低下せず、パターン不良も生じにくく、製造設備の小型化も比較的容易であり、リードタイムを比較的短くすることができる、フレキシブル配線回路基板の製造方法を提供する - 特許庁

The method includes growing a nitride semiconductor layer on a GaN substrate having a non-polar or semi-polar crystal plane, the upper surface of which has a predetermined angle of intersection with respect to the c plane, patterning the nitride semiconductor layer, and forming light emitting cells separated from one another.例文帳に追加

この方法は、上部表面がｃ面に対して一定の交差角をなす非極性または半極性の結晶面を有するＧａＮ基板上に窒化物半導体層を成長させ、前記窒化物半導体層をパターニングし、互いに分離された発光セルを形成することを含む。 - 特許庁

To provide a donor film allowing the patterning of an organic LED layer by a transfer method by preventing a problem that a transfer layer is transferred to a substrate even in a part not irradiated with laser or a part without radiating heat thereof, in a transfer process.例文帳に追加

転写工程において、レーザーを照射していない部分または熱を放射していない部分でも、転写層が基板に転写されてしまうといった問題を防止し、転写法による有機ＬＥＤ層のパターン化が可能となるドナーフィルムを提供することを課題とする。 - 特許庁

The coating method consists of a solid coating process for thinly coating one surface with a paint having a transparent feeling, a patterning process for forcibly spraying a high viscosity paint not diluted with a thinner from a spray gun to apply irregular patterns wherein fine lines and spots are mixed and a finish process for applying a clear paint to bake the same.例文帳に追加

透明感のある塗料を一面に薄く塗るベタ塗り工程と、シンナーで希釈しない高粘度の塗料をスプレーガンから強制的に吹き付けて、細かな線と点が混ざった不規則な模様をのせる模様付け工程と、クリアを塗って焼き付ける仕上げ工程とから成る。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element having an organic layer and a pattern-like insulating layer formed between electrodes, wherein patterning of the insulating layer is easy, and there is no risk of exerting a bad influence on the organic layer when forming the insulating layer.例文帳に追加

電極の間に有機物層とパターン状絶縁層とが形成されている有機ＥＬ素子の製造方法において、絶縁層のパターニングが容易であり、絶縁層を形成する際に有機物層に対する悪影響を与える虞がない有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, the first metal layer 23 has a patterning of a prescribed shape which is composed of a circuit pattern 231 connected electrically to the light emitting device 4 and functioning as an electric circuit and a heat radiating pattern 232 functioning for radiating heat generated by the light emitting device 4.例文帳に追加

そして、第１の金属層２３は、所定形状にパターニングされ、発光装置４と電気的に接続された電気回路として機能する回路パターン２３１と、発光装置４で発生した熱を放熱するための機能を有する放熱用パターン２３２とで構成されている。 - 特許庁

Patterning is made according to the assumable combination of the current position of each car with its destination where the relation between the operation of the car and the common stopping floor is taken into consideration, and a plurality of operating patterns for operating the cars safely at the common stopping floor are set previously.例文帳に追加

各乗りかごの運行と共通停止階との関連において各乗りかごの現在位置および行き先階の想定し得る組合わせによりパターン分けして、各々の乗りかごを共通停止階で安全に運行させるための複数の運行パターンをあらかじめ設定する。 - 特許庁

Therefore, since several kinds of interference type filter layers are respectively arranged on the different layer through the interlayer film, the interlayer film being foundation functions as an etching stopper or an etching buffer in the case of patterning the filter layers, and dry etching can be performed to realize the scale-down of the color filter.例文帳に追加

したがって、複数種類の干渉型フィルタ層が層間膜を介してそれぞれ別々の層に配置されているため、各フィルタ層をパターニングする際に、下地の層間膜画エッチングストッパ若しくはエッチングバッファとして機能し、ドライエッチングが可能となりカラーフィルタの微細化が可能となる。 - 特許庁

In the spectroscopic module 1, a light absorption layer 6 having a light passage hole 6a for making light L2 advancing to a spectroscopic part 3 pass therethrough, and a light passage hole 6b for making light L2 advancing to a light detection part 4a of a light detection element 4 pass therethrough is formed integrally therewith by patterning.例文帳に追加

分光モジュール１では、分光部３に進行する光Ｌ１が通過する光通過孔６ａ、及び光検出素子４の光検出部４ａに進行する光Ｌ２が通過する光通過孔６ｂを有する光吸収層６がパターニングによって一体成形される。 - 特許庁

A plane waveguide type optical circuit where an under-clad layer 21, a core layer 20 obtained by patterning an optical waveguide layer 15, and an over-clad layer 22 covering over the core layer 20 or the like are formed on an Si substrate 10 is prepared as an optical circuit being an object where a diffraction grating is to be formed (figure 1 (a) to (c)).例文帳に追加

Ｓｉ基板１０上に、アンダークラッド層２１、光導波層１５をパターニングしたコア層２０、及びコア層２０等を覆うオーバークラッド層２２を形成した平面導波路型光回路を、回折格子を形成する対象となる光回路として準備する（図１（ａ）〜（ｃ））。 - 特許庁

In the method for patterning, a photo-curable resin 24 is applied on a face of the member 10 to be etched with the hollow 13 on which the dry etching is applied, and a mold 50 having a pattern corresponding to a mask 24a with taper-shaped side face to be formed on the member to be etched is pressed on the photo-curable resin.例文帳に追加

空洞１３を有する被エッチング部材１０のドライエッチングを施す面に光硬化性樹脂２４を付与し、被エッチング部材上に形成すべきテーパー形状の側面を有するマスク２４ａに対応したパターンを有するモールド５０を光硬化性樹脂に押し付ける。 - 特許庁

The apparatus further includes: a polarization changing element 10, such as a quarter-wave plate, that is adjustable; and a polarization analyzer 12, such as a linear polarizer, wherein the polarization changing element and the polarization analyzer are arranged in the radiation beam path at a position at which a patterning device is held by the support.例文帳に追加

この装置は、４分の１波長板などの調整可能な偏光変化素子１０と、直線偏光子などの偏光アナライザ１２とをさらに含み、偏光変化素子及び偏光アナライザはパターン形成機器が支持体によって保持される位置のビーム経路内に整列配置される。 - 特許庁

In the patterning method, a photosensitive heat-resistant resin precursor is applied on a substrate, dried, patternwise exposed, developed, subjected to heat treatment 1 at 50-200°C for a short time within 5 hr after the development and further subjected to heat treatment 2 at 250-450°C.例文帳に追加

感光性耐熱樹脂前駆体を基板上に塗布、乾燥、パターン上に露光、現像した後、現像終了から５時間以内に５０℃〜２００℃で短時間熱処理１を実施した後、さらに２５０℃〜４５０℃で熱処理２を実施することを特徴とする感光性耐熱樹脂前駆体のパターン加工方法。 - 特許庁

To provide a paste type alginate impression material for dentistry, usable for patterning of tooth and the like, wherein mixing state of two pastes is easily visually confirmed and color of the impression material is not adhered on plaster model surfaces.例文帳に追加

本発明は、歯牙その他の型取りに使用されるペーストタイプの歯科用アルジネート印象材において、２つのペーストの混和状態を目視で容易に確認することができ、かつ石膏模型表面に印象材の色が付着しない歯科用アルジネート印象材を提供することを目的とする。 - 特許庁

To obtain a fading substrate capable of producing inexpensively and stably, by a simple method, a patterning controlled in the nice difference of various functions such as permeability, reflectivity, a hue or the like to a part of the colored metal oxide film formed on the surface of a transparent substrate.例文帳に追加

透明基板表面に形成された着色金属酸化物被膜の一部に、透過率、反射率、色調等の各種機能の微妙な差をコントロールしたパターニングを、簡単な方法で安価に且つ安定して製造が可能な退色基板およびその製造方法に関する。 - 特許庁

On sending the cloth P from upstream to downstream, and on stopping the cloth P once, the base stage 2 is pushed up with the lifting up and down device 4 and the cloth P on the base stage 2 is pushed to the rotary bodies 5 (the frictional bodies 5a) to make the surface of the cloth P bear with the frictional bodies 5a for patterning.例文帳に追加

布Ｐを上流から下流に送り、布Ｐが一旦停止したときに、昇降機４により基台２を押し上げて基台２上の布Ｐを、回転する回転体５（摩擦体５ａ）に押し付け、摩擦体５ａにより布Ｐの表面を禿げさせて模様付を行う。 - 特許庁

This process of using two exposures with diffusion light achieves the material use efficiency, costs, responses to various substrate sizes and high-definition electrode patterning that is not successful in the ink jet method, for instance, in manufacturing wiring electrodes, which the traditional manufacturing method cannot achieve.例文帳に追加

拡散光を用いた２回露光プロセスによって、例えばタッチパネルの配線電極作成において従来の方法では解決できない材料使用効率、コスト、多様な基板サイズに対応という課題かつ、インクジェット方式では解決できない高精細電極パターニングを解決するものである。 - 特許庁

The resin composition for an artificial marble is obtained by compounding additives such as a filler, an inner releasing agent, a hardening agent, a patterning material c which expresses an artificial marble pattern, or the like into a thermosetting resin, wherein it is characterized in that micro balloons a and thermal-expansible microcapsules b are added and compounded in combination into the resin composition.例文帳に追加

熱硬化性樹脂に充填剤、内部離型剤、硬化剤、人造大理石柄を表現する柄材ｃ等の添加物を配合して得られる人造大理石用樹脂組成物において、マイクロバルーンａと熱膨張性マイクロカプセルｂとを併用して添加配合したことを特徴とする。 - 特許庁

In a method for manufacturing the cement type inorganic material wherein a wet sheet material made from a cement kneaded substance is press-molded, when the patterning of the wet sheet material is press-molded, a pattern forming part is vacuum-sucked and the atmosphere (A) around the wet sheet material is made under a high pressure condition.例文帳に追加

セメント混練物からの湿潤シート材をプレス成形するセメント系無機質材の製造方法において、プレス成形による湿潤シート材の模様付けに際し、模様形成部を減圧吸引するとともに、湿潤シート材の周囲の雰囲気（Ａ）を高気圧状態とする。 - 特許庁

The plasma display is manufactured by the manufacturing method of the plasma display panel in which on a barrier rib material coating film installed on a glass substrate, a glass containing material to form a step forming layer is formed at a position of the vertical barrier rib in a stripe shape, and patterning of the lattice-shaped barrier rib is carried out afterwards.例文帳に追加

ガラス基板上に設けられた隔壁材料塗膜上に、段差形成層となるガラス含有材料を縦隔壁位置にストライプ状に形成し、その後格子状の隔壁をパターニングすることを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法により製造する。 - 特許庁

In this method of correcting a defect part of a barrier rib of a substrate (back plate) for the plasma display panel provided with the barrier rib formed by patterning a barrier rib forming material and baking the same at a predetermined temperature, a barrier rib mending material is packed in the defect part of the barrier, and re-baked again.例文帳に追加

障壁形成用材料をパターンニングし、所定の温度で焼成して障壁を形成したプラズマディスプレイパネル用の基板（背面板）の障壁の欠損箇所を修正する方法であって、障壁の欠損箇所を障壁補修材料で充填し、再度焼成する。 - 特許庁

A master disc 15 is obtained by patterning a soft magnetic Co film 11 on the surface of a resin substrate 10 to form a discrete isolated magnetic film 11a in a specified region, elevating the temperature of the resin substrate 10, clamping a die 12 from above the isolated magnetic film 11a and then releasing the die 12.例文帳に追加

マスターディスク１５は、樹脂基板１０の表面に成膜したCo軟磁性膜１１をパターニングして所定領域に離散的な孤立磁性膜１１ａを形成し、樹脂基板１０を昇温し、孤立磁性膜１１ａの上から金型１２で型押した後、金型１２を離型して得られる。 - 特許庁

To provide a chip type organic positive temperature coefficient thermistor element having a structure which does not require any step of patterning metallic foil, forming resist films, and so on, and to which a chip type organic positive temperature coefficient thermistor element manufacturing method by which the waste of materials can be reduced and yield can be improved can be applied.例文帳に追加

金属箔のパターニングやめっきレジスト膜の形成などの工程が不必要であり、材料の無駄が少なく歩留まりがよいチップ型有機正特性サーミスタ素子の製造方法を適用できる構造を有するチップ型有機正特性サーミスタ素子を提供する。 - 特許庁

After forming a lower electrode (step S1), temperature is raised up to a predetermined value in a mixture gas atmosphere of an inert gas and O_2 gas (step S2); thereafter a ferroelectric film is formed (step S3); and an upper electrode is formed and patterning and the like are executed (step S4, S5) to form the ferroelectric capacitor.例文帳に追加

下部電極形成後（ステップＳ１）、不活性ガスとＯ_2ガスの混合ガス雰囲気中で所定温度まで昇温し（ステップＳ２）、その後、強誘電体膜を形成し（ステップＳ３）、上部電極形成およびパターニング等を行って（ステップＳ４，Ｓ５）、強誘電体キャパシタを形成する。 - 特許庁

When a solid sample 1 having a rough on its surface is subjected to a lithography processing, the incident light 2 is inclined within the range of 10° to 60° relative to the normal direction of a substrate surface of the solid sample 1 for exposure, in an exposure process in which a resist is applied for patterning.例文帳に追加

表面に凹凸のある立体サンプル１にリソグラフィー加工を行う際に、レジストを塗布してパターニングを行う露光工程において、入射光２を立体サンプル１の基板面の法線方向に対して、１０°以上６０°以下の範囲で傾斜させて露光する。 - 特許庁

This warp knitting machine also includes pattern guide elements 30 for guiding patterning yarns constituting patterns of the knitted fabric and a driving unit 34 functioning to arrange the pattern guide elements 30 at predetermined pitches correspondingly to the part of the ground guide bar 26 and making the pattern guide elements 30 movable to any positions within the width of the ground guide bar 26.例文帳に追加

編地の柄を構成する柄糸を導糸する柄ガイドエレメント３０と、柄ガイドエレメント３０を所定ピッチで地ガイドバー２６の一部分に対応して配置し、柄ガイドエレメント３０を地ガイドバー２６に対してその幅内の任意の位置に移動可能にする駆動装置３４を設ける。 - 特許庁

A hard mask for etching the interlayer dielectric is formed by patterning the uppermost metal layer 5 of a multilevel interconnection insulated by the interlayer dielectric 3, and the interlayer dielectric 3 is etched using the mask to form the empty groove 4 which is located in the periphery of the semiconductor substrate 1 to makes its surface exposed.例文帳に追加

層間絶縁膜３により絶縁された多層配線の最上層の金属層５をパターニングして層間絶縁膜エッチング用ハードマスクを形成し、このマスクを用いて、層間絶縁膜３をエッチングして半導体基板１の周辺部分に基板表面が露出する空堀４を形成する。 - 特許庁

To provide a developer for photosensitive polyimides, with which polyimide patterning for interlayer insulating films for multi-layered circuit boards and for α-ray shield layers, buffer coat layers and others for semiconductor memory devices is attained within a shorter period of time than with conventional developers and with which high resolution of developed patterns is ensured.例文帳に追加

本発明は、多層配線板用の層間絶縁膜や半導体メモリー素子用のα線遮蔽膜、バッファーコート膜などのポリイミドパターン加工を従来と比較し短時間にて行え、現像パターンの解像度が高い感光性ポリイミド用現像液を提供する。 - 特許庁

A different refractive index film is layered by (a) depositing an energy-sensitive insulating film on a substrate, (b) depositing a film having a 1st refractive index which is patterned by irradiation with patterning energy, and (c) depositing a film having a 2nd refractive index on the film having the 1st refractive index.例文帳に追加

（ａ）基板上にエネルギー感受性の絶縁膜を形成し；（ｂ）パターン化エネルギーの照射により、パターン化された第１の屈折率を有する膜を形成し；（ｃ）該第１の屈折率を有する膜上に、第２の屈折率を有する膜を形成することにより、異なる屈折率膜を積層する。 - 特許庁

In the patterning process of the gate, a polycrystalline silicon film 16a which constitutes the floating gate 6 is left in the element formation area 12, and besides in condition that the element isolation film 14 is exposed, the etching is stopped once, and a groove is made in the surface of the element isolating and insulating film 14.例文帳に追加

ゲート部のパターニング工程では、浮遊ゲート６を構成する多結晶シリコン膜１６ａが素子形成領域１２に残され、且つ素子分離絶縁膜１４が露出した状態で一旦エッチングを止めて、素子分離絶縁膜１４の表面に溝２３を加工する。 - 特許庁