「PAtterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(70ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, when etching is started by using oxygen plasma etching in the vertical direction, the thin film 38 of a silicon oxide by oxygen plasma is formed on the surface of the patterned resist layer 37, and the cutting of a groove 47 and patterning in the resin layers 35, 36 is performed by using the silicon oxide layer 38 as a mask.例文帳に追加

その後、垂直方向に酸素プラズマエッチングを用いてエッチングを開始すると、パターニングされたレジスト層３７は表面に酸素プラズマにより酸化シリコンの薄膜３８を作り、この酸化シリコン層３８をマスクとして、樹脂層３５および３６に溝４７を掘り、パターニングする。 - 特許庁

A mask material layer 44 is formed on a substrate 31 composed of a silicon substrate 42 and a monocrystalline silicon device layer 43 interposing an internal layer 41 of silicon dioxide therebetween (Fig. A), and a mask 45 having the same pattern of the flat shape of a target optical device is formed by patterning the mask material layer 44.例文帳に追加

二酸化シリコンの中間層４１を挟むシリコン基板４２及び単結晶シリコンのデバイス層４３からなる基板３１にマスク材層４４を形成し（図１０Ａ）、これをパターニングし、目的とする光デバイスの平面形状と同一パターンのマスク４５を形成する。 - 特許庁

The functions of a protective layer and the alignment layer can be simultaneously performed by patterning the pixel electrode on a source and a drain electrodes and then immediately vapor-depositing polyimide resin on the entire surface of the pattern from a stage for forming a substrate to a stage for forming the alignment layer in the manufacturing process of the liquid crystal display device.例文帳に追加

本発明によると、液晶表示装置の製造過程の中、基板から配向膜まで形成する段階でソース及びドレイン電極上に画素電極をパターンニングしてすぐポリイミド樹脂を全面蒸着することで保護層及び配向膜の機能を同時に遂行できるようになる。 - 特許庁

By the above, since oxidation/reduction reaction and dendrite formation reaction are generated only in the recess formed by surface patterning of the anode current collector, volumetric expansion and contraction of a battery cell due to the change of the thickness of the lithium anode is restrained, and cycle stability and life property are improved.例文帳に追加

これにより、負極集電体の表面パターニングによって形成されたリセス内だけで、リチウムの酸化／還元及びデンドライト形成反応が起こるので、リチウム負極の厚さの変化による電池セルの体積膨脹及び収縮が抑制され、サイクル安定性及び寿命特性が向上する。 - 特許庁

In a patterning method by immersion lithography, a protective coating film is formed on a photoresist layer formed on a wafer, from a resist overcoat material, developing is performed after exposing the layer structure to light in water, wherein a water-insoluble, alkali-soluble material is used as the resist overcoat material.例文帳に追加

ウエハーに形成したフォトレジスト層上にレジスト上層膜材料による保護膜を形成し、水中で露光を行った後、現像を行う液浸リソグラフィーによるパターン形成方法において、上記レジスト上層膜材料として非水溶性でアルカリ可溶性の材料を用いる。 - 特許庁

Subsequently, a partial cover plating layer 20 is formed in the opening 30a of the first resist 30 and after removing the first resist 30, the partial cover plating layer 20 is covered entirely and a second resist 32 for patterning the through hole plating layer 16 is formed.例文帳に追加

続いて、第１レジスト３０の開口部３０ａに部分カバーめっき層２０を形成し、第１レジスト３０を除去した後に、部分カバーめっき層２０の全体を被覆すると共に、スルーホールめっき層１６をパターン化するためのパターンを備えた第２レジスト３２をそれぞれ形成する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the probe needle having the beam and a contact disposed at the tip of the beam, an Si wafer 20 is prepared, a seed layer 21 is formed on the Si wafer 20, and a groove having a desired shape of the beam is formed on the layer by patterning a photo resist 23.例文帳に追加

梁と、梁の先端部に設けられるコンタクタとを有するプローブ針の製造方法は、Ｓｉウエハ２０を準備し、Ｓｉウエハ２０の上に、シード層２１を形成し、その上にフォトレジスト２３をパターニングすることにより、梁の所望の形状を有する溝を形成する。 - 特許庁

To provide a multiple patterning wiring board capable of preventing a mother board from accidentally cracking and reducing probability of burrs occurring on a wiring board when splitting, and to provide a package for storing electronic component with high accuracy of external dimensions and reliability, and an electronic device.例文帳に追加

母基板が不用意に割れたりするのを防止するとともに、分割した際に配線基板にバリが発生する可能性を低減した多数個取り配線基板を提供し、外形寸法の精度や信頼性の高い電子部品収納用パッケージおよび電子装置を提供すること。 - 特許庁

A belt-like admixture 31 is passed in turn through pattern forming portions 15-17 comprising calender rolls 11-14 to thereby be formed into a sheet 32 having even thickness; which then it is transferred to a form-patterned roll 20 in order to simultaneously form space patterns 34 for punching operation by space pattern forming projections 25 along with patterning operation.例文帳に追加

ベルト状の混和物３１を、カレンダーロール１１〜１４からなる絞り成形部１５〜１７に順に通して、厚みを均一化したシート３２に成形し、型入れ紋付けロール２０に移して、紋付けとともに、予備紋形成型２５により穿孔するための予備紋３４を同時に形成する。 - 特許庁

A light shielding resist layer 2 is applied to the surface of glass board material 1 by a spin coating, and is irradiated with patterning light through a predetermined photomask to be exposed, then a photosensitive area of the light shielding resist layer 2 is dissolved by a solvent, developed and baked, thereby forming the light shielding resist layer 2 having a predetermined pattern.例文帳に追加

ガラス基材１の表面に遮光レジスト層２をスピンコートによって塗布し、所定のフォトマスクによってパターン光を照射して感光させ、遮光レジスト層２の感光領域を溶剤で溶解して現像し、ベーキングして所定のパターンを有する遮光レジスト層２を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an EL element, in which a problem such as swelling out or eluting out of a buffer layer is not generated even when manufacturing the EL element which has both the organic EL layer, by which patterning is carried out by the photo lithography method, and the buffer layer.例文帳に追加

本発明は、フォトリソグラフィー法によりパターニングされる有機ＥＬ層とバッファー層とを共に有するＥＬ素子を製造する場合でも、バッファー層が膨潤もしくは溶出するといった問題が生じることのないＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device suppressing process increase such as patterning, reducing an inter-wiring capacity, superior in adhesion and mechanical strength with a dispersion barrier film covering a wiring material and superior in manufacture of an insulating film, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加

パターニングなどの工程増を抑制し、配線間容量を低減させるとともに、配線材料を被覆する拡散バリア膜との密着性や機械的強度にも優れ、絶縁膜の加工性にも優れた半導体装置の製造方法および半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a lid material by which patterning of parts needing adherence and parts not needing the adherence can be freely carried out without causing the complication of operation and which exhibits stable adhesiveness and easy peelability to a bottom material, a method for manufacturing the lid material, and a method for easily peeling the lid material.例文帳に追加

粘着性の必要な部分と不要な部分とのパターニングを作業の煩雑化等を招くことなく自在に行うことができ、しかも、底材に対して安定した接着性と易剥離性とを示す蓋材、該蓋材の製造方法、及び該蓋材の易剥離方法を提供する。 - 特許庁

When a "coarse" region LD is generated during wiring patterning, as shown in Fig. (a), the shape of a variable shape-wiring region 136a, 130b is deformed such that they fit to one another, and the space between the both cell regions A and B is reduced, as shown in Fig. (b).例文帳に追加

図１０(a)に示すように配線パターン中、密度が「疎」である領域ＬＤが生じると、同図(b)に示すように、相互に嵌めあうように形状可変−配線領域１３６ａ，１３０ｂの形状が変形され、両セル領域Ａ，Ｂ間の間隔が短縮される。 - 特許庁

Before forming a patterned lower electrode and a first wiring layer, that is, in a state where a first conductive film is formed on the entire surface, an insulation film for capacitance formation and a second conductive film are successively deposited, then patterning is performed and an upper electrode and a capacitive insulation film are formed.例文帳に追加

パターニングされた下部電極及び第１の配線層を形成する前に、つまり第１の導電膜が全面に形成されている状態で、容量形成用絶縁膜及び第２の導電膜を順次堆積した後、パターニングして上部電極及び容量絶縁膜を形成する。 - 特許庁

It is therefore capable of preventing the wire that should be left from being etched by the film thickness reduction of the resist 21, and preventing a focus deviation during patterning of the third wiring layer 7 by an exposure machine, thereby preventing the occurrence of linewidth variations of the third wiring layer 7.例文帳に追加

したがって、レジスト２１の膜減りによって残すべき配線がエッチングされることを防止できると共に、露光機による第３配線層７のパターニング時のフォーカスずれを抑制でき、第３配線層７の線幅にバラツキが生じることを防止することが可能となる。 - 特許庁

The steps for forming the diffusion layer includes a step for preparing a roller around which a master film is wound, a step for applying a coating liquid to the base film, a step for forming the diffusion pattern by patterning the coating liquid applied to the base film by the roller, and a step for curing the diffusion pattern.例文帳に追加

拡散層を形成する段階は、マスターフィルムが巻かれたローラーを準備する段階、ベースフィルムにコーティング液を塗布する段階、ベースフィルムに塗布されたコーティング液をローラーでパターニングして拡散パターンを形成する段階、及び拡散パターンを硬化させる段階を含む。 - 特許庁

To enable many kinds of cells to be cultured in the same layer, to enable the patterning at a line width of a capillary vessel, to enable a structure to be controlled two-dimensionally (in the membrane direction) and three-dimensionally (in the thickness direction) by nano-scale, and to enable only the cells to be separated evenly from a base material.例文帳に追加

本発明の目的は、多種類の細胞を、同一層内で培養を可能にし、毛細血管の線幅でパターニングでき、かつ二次元的（膜面方向）にも三次元的（膜厚方向）にも構造がナノスケールで制御でき、基材から細胞のみを均等に剥離することにある。 - 特許庁

After forming successively a silicon oxide film, a polysilicon film, an ON film, and a polysilicon film on the respective polysilicon layers 61-63, a control gate electrode 4, a capacity insulation film 17, a floating gate electrode 50, and a tunnel oxide film are formed by patterning them so that they extend over the respective polysilicon layers 61-63.例文帳に追加

各ポリシリコン層６１−６３の上にシリコン酸化膜，ポリシリコン膜，ＯＮ膜，ポリシリコン膜を順次形成した後、パターニングして、制御ゲート電極４，容量絶縁膜１７，浮遊ゲート電極５０，トンネル酸化膜を、各ポリシリコン層６１−６３に跨って形成する。 - 特許庁

A method for manufacturing a solid state imaging element comprises the steps of sequentially forming a first polysilicon film 152A and a first silicon oxide film 154A on a silicon substrate 100A via a transfer gate insulating film 150, then dry etching or the like via a photomask 160, and patterning the film 154A and the film 152A together.例文帳に追加

シリコン基板１００Ａ上に転送ゲート絶縁膜１５０を介して第１ポリシリコン膜１５２Ａ、第１シリコン酸化膜１５４Ａを順次成膜した後、フォトマスク１６０を介してドライエッチング等を行い、第１シリコン酸化膜１５４Ａと第１ポリシリコン膜１５２Ａとを併せてパターニングする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of retaining suitability to patterning excellent in both sensitivity and resolution even when the amount of a photosensitive agent blended is reduced so as to obtain a light- colored polyimide resin film after imidation and to provide a circuit board with an insulating film obtained from the photosensitive resin composition.例文帳に追加

イミド化後に淡色のポリイミド樹脂の皮膜を得るために、感光剤の配合量を低減しても、感度、解像度ともに優れたパターンニング性を保持することのできる、感光性樹脂組成物、および、その感光性樹脂組成物から得られる絶縁層を有する、回路基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of conducting patterning for forming a connection hole and an wiring groove by one lithography step by suppressing the complexity of a manufacturing step and using no mask which requires difficult manufacturing and a long manufacturing time.例文帳に追加

製造工程が複雑になるのを抑制するとともに、製造が困難で製造に時間がかかるマスクを用いることなく、１回のリソグラフィ工程により接続孔および配線溝を形成するためのパターニングを行うことが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coloring composition for a color filter which is free from the occurrence of wrinkles and has an excellent patterning characteristic with high lightness and high contrast, in display devices such as a liquid crystal display device and an organic EL display, and a color filter using the coloring composition.例文帳に追加

液晶表示装置および有機ＥＬディスプレイなどの表示装置において、シワの発生がなく、パターニング特性に優れた高明度、高コントラストなカラーフィルタ用着色組成物の提供、及びこの着色組成物を用いたカラーフィルタを提供することを目的とする。 - 特許庁

The liquid resin for the base material and one kind or plural kinds of patterning liquid resins are respectively injected in a static mixer from different injection ports and allowed to meet with each other by the mixer element of the mixer to form a confluent mixture which is, in turn, injected in the mold and cured to obtain patterned artificial marble.例文帳に追加

基材用の液状樹脂と一又は複数種の模様付け用の液状樹脂をそれぞれ異なる注入口より静的ミキサー内に注入し、該ミキサーのミキサーエレメントで合流させた合流体を成形型に注入して硬化させることにより模様付人工大理石を得る。 - 特許庁

To obtain a general-purpose semiconductor integrated circuit device by modifying the signal arrangement freely with a re-routing pattern produced through the patterning of a lead frame.例文帳に追加

アウターリード部の信号配列を変更するには、ＩＣチップの電極パッドの信号配列を変更するか、金属細線が交差するようなワイヤボンディングを選択することになり、ＩＣチップの再設計、製造するためのフォトマスク類の再作製およびそれらにかかる期間および費用の問題が生じる等の問題が生じる。 - 特許庁

A conductive type impurity concentration same to a well area is concentrated in each channel forming area in the vicinity of a boundary, respectively in the well area and a source area, and the well area and a drain area, by patterning favorably the area not introduced with the impurity, so as to induce a reverse short channel effect.例文帳に追加

上記不純物導入されない領域をうまくパターニングすることによって、ウェル領域とソース領域、及び、ウェル領域とドレイン領域それぞれの、境界近傍のチャネル形成領域における、ウェル領域と同じ導電型の不純物濃度を濃くし、逆短チャネル効果を誘起させることができる。 - 特許庁

A solder resist layer 42 is formed on the pad 31a and the distribution layer 31b to form a solder resist pattern 42a through patterning process and plating is effected on the pad 31a and the ball lands 31c to obtain a substrate 100 for semiconductor device having ball lands 51 and pad 52, on which a plating film is formed.例文帳に追加

パッド３１ａ及び配線層３１ｂ面にソルダーレジスト層４２を形成し、パターニング処理してソルダーレジストパターン４２ａを形成し、パッド３１ａ及びボールランド３１ｃ上にめっきを行い、めっき被膜が形成されたボールランド５１及びパッド５２を有する半導体装置用基板１００を得る。 - 特許庁

To provide a multiple-patterning ceramic wiring board that stably and firmly sucks a ceramic mother board to a suction table for fixing without shaking when fixing the ceramic mother board onto the suction table for mounting an electronic component, and can accurately and easily mount the electronic component in each wiring substrate region.例文帳に追加

電子部品を搭載するための吸引テーブル上に固定した際に、セラミック母基板がぐらつくことがなく吸引テーブルに安定して強固に吸引固定され、各配線基板領域に電子部品を正確かつ容易に搭載することが可能な多数個取りセラミック配線基板を提供すること。 - 特許庁

The word line pattern is formed by patterning a floating gate pattern 57a covering the first active region 53a, a first gate interlayer insulating film 64a formed on the whole surface of a cell array region having the floating gate pattern and a second conducting film 69 formed on the first gate interlayer insulating film 64a.例文帳に追加

ワードラインパターンは第１活性領域５３ａを覆う浮遊ゲートパターン５７ａ、浮遊ゲートパターンを有するセルアレイ領域の全面に形成された第１ゲート層間絶縁膜６４ａ及び第１ゲート層間絶縁膜６４ａの上に形成された第２導電膜６９をパターニングして形成する。 - 特許庁

The oxide film, containing Nb, is used for the hysteresis film, and the metal nitride film is used for the upper and lower electrodes; and thus, patterning of the upper electrode can be specifically executed at a high selective rate for the hysteresis film, and the MIM device and an electronic apparatus by using the MIM device can be manufactured readily.例文帳に追加

ヒステリシス膜にＮｂを含む酸化膜を使い、上下の電極に金属窒化物膜を使うことにより、特に上部電極のパターニングを、ヒステリシス膜に対して高い選択比で実行することが可能となり、ＭＩＭ素子、およびかかるＭＩＭ素子を使った電子装置の製造を、容易に実行することが可能となる。 - 特許庁

In addition, a manufacturing method of a display device includes a process to use the adhesive layer 4 as a color filter layer by applying patterning by carrying out exposure and development after transferring the phosphor layer 3 and the adhesive layer 4 to the inner surface of a display panel by using the thermally-sensitive transfer film F.例文帳に追加

また、この感熱性転写フィルムＦを用いて表示パネルの内面へ蛍光体層３および接着剤層４を転写した後、露光、現像を行ってパターニングを施すことにより接着剤層４をカラーフィルタ層として用いるようにする工程を含む表示装置の製造方法でもある。 - 特許庁

To provide a multiple patterning wiring substrate the matrix substrate of which is formed by a sintered body of a non-metallic inorganic material and which is cut with excellent workability while suppressing the occurrence of troubles such as chipping by means of the dicing machining of the matrix substrate at the boundary of a wiring substrate region.例文帳に追加

非金属無機材料の焼結体で母基板が形成された多数個取り配線基板であって、配線基板領域の境界において母基板をダイシング加工により、チッピング等の不具合の発生を抑制しながら、作業性を良好として切断することが可能な多数個取り配線基板を提供する。 - 特許庁

A conductor layer 21 on an insulating substrate 11 is subjected to patterning treatment to form a wiring layer 21a, and a negative type resist is coated, dried and patternwise exposed to form a patternwise exposed first negative type photosensitive layer 41a, on which a patternwise exposed second negative type photosensitive layer 51a is also formed.例文帳に追加

まず、絶縁基材１１上の導体層２１をパターンニング処理して配線層２１ａを形成し、ネガ型のレジストを塗布、乾燥、パターン露光してパターン露光された第一ネガ型感光層４１ａを、さらに、パターン露光された第一ネガ型感光層４１ａ上にパターン露光された第二ネガ型感光層５１ａを形成する。 - 特許庁

An organic EL light source is designed to include a linear transparent electrode that is subjected to patterning with a line width thinner than the thickness of a light guide plate, a metal electrode that is thicker than the line width of the linear transparent electrode and permits a mirror reflection, and an organic EL material provided between the linear transparent electrode and the metal electrode.例文帳に追加

有機ＥＬ光源を、導光板の厚みより細い線幅でパターニングされた線状透明電極と、線状透明電極の線幅より太く鏡面反射可能な金属電極と、線状透明電極と金属電極との間に設けられた有機ＥＬ材料を備えることとした。 - 特許庁

After a silicon nitride film 27 and a titanium nitride film 28 are deposited in the order on the semiconductor substrate 1, by patterning the titanium nitride film 28, a capacitor MIM is formed wherein the wiring 25 is set as a lower electrode, the silicon nitride film 27 is made a capacity insulating film and the titanium nitride film 28 is set as an upper electrode.例文帳に追加

次いで、半導体基板１上に窒化シリコン膜２７および窒化チタン膜２８を順次堆積した後、窒化チタン膜２８をパターニングすることによって、配線２５を下部電極とし、窒化シリコン膜２７を容量絶縁膜とし、窒化チタン膜２８を上部電極とするキャパシタＭＩＭを形成する。 - 特許庁

In dry etching employing a resist pattern 13 for patterning a silicon nitride film 12 and a silicon oxide film 11, a defect introduced into a silicon substrate 10 at the time of growth to cause a conical pattern defect is removed by digging down the surface of an isolation trench forming region on a silicon substrate at the time of overetching.例文帳に追加

シリコン窒化膜１２及びシリコン酸化膜１１をパターン化するためのレジストパターン１３を用いたドライエッチングにおいて、オーバーエッチング時にシリコン基板１０における分離用溝形成領域の表面部を掘り下げることにより、円錐状パターン欠陥の原因となるシリコン基板１０中の成長時導入欠陥を除去する。 - 特許庁

A surface characteristic of the organic resin film is improved and peeling liquid is prevented from penetrating inside the organic resin film when the resist film formed on the organic resin film is peeled (including after peeling of the resist film) for patterning the organic resin film by previously plasma-processing a surface of the organic resin film.例文帳に追加

有機樹脂膜の表面を予めプラズマ処理することにより、有機樹脂膜の表面特性を改善し、有機樹脂膜のパターニングのために有機樹脂膜上に形成されたレジスト膜を剥離する際（レジスト膜の剥離後も含む）に剥離液が有機樹脂膜内部に浸透するのを防ぐことを特徴とする。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device includes a process of manufacturing a thickened resist pattern by forming a resist pattern on a base layer and then coating the resist pattern surface with the thickening material to thicken the resist pattern and a process of patterning the base layer by etching the base layer by using the thickened resist pattern.例文帳に追加

下地層上にレジストパターンを形成後、該レジストパターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該レジストパターンを厚肉化し厚肉化レジストパターンを製造する工程と、該厚肉化レジストパターンを用いてエッチングすることにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

A lithography apparatus is equipped with a radiation system for providing projection radiation beam, a supporting structure for supporting a patterning means which functions to pattern the cross section of the projection beam, a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィック装置は、投影放射ビームを提供するための放射システムと、投影ビームの断面をパターン化するべく機能するパターン化手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムとを備えている。 - 特許庁

There are provided a process of forming a film of the piezoelectric precursor on a lower electrode, a process of patterning the piezoelectric precursor film into a predetermined shape, a process of obtaining a piezoelectric film by crystallizing the patterned piezoelectric precursor film, and a process of forming an upper electrode onto the piezoelectric film.例文帳に追加

下部電極上に圧電体前駆体膜を成膜する工程と、前記圧電体前駆体膜を所定の形状にパターニングする工程と、前記パターニングされた圧電体前駆体膜を結晶化させ圧電体膜を得る工程と、前記圧電体膜上に上部電極を形成する工程と、を備える。 - 特許庁

To select a water-soluble resin which can smoothly effect thermal shrinkage of a photoresist pattern by heat treatment and can easily be removed by washing with water after the heat treatment of the resist pattern as a water- soluble resin for forming a coating film for increasing fineness of resist patterning and to efficiently form a fine resist pattern.例文帳に追加

レジスト微細化用塗膜を形成するための水溶性樹脂として、熱処理により、ホトレジストパターンを円滑に熱収縮させることができ、しかもレジストパターンの熱処理後に水洗により容易に除去しうるものを選択して、効率よく微細レジストパターンを形成させることを目的とする。 - 特許庁

This method of forming a carbon nanotube pattern contains patterning process in which a desired pattern is printed on the surface of the substrate with a carbon nanotube dispersion in which the carbon nanotube is dispersed in a dispersant and the dispersant is vaporized to form a pattern layer, and a pattern fixing process in which the pattern layer is fixed on the surface of the substrate.例文帳に追加

カーボンナノチューブが分散媒に分散したカーボンナノチューブ分散液にて基板表面に所望のパターンを印刷し、分散媒を蒸発させてパターン層を形成するパターニング工程と、パターン層を基板表面に固定するパターン固定工程とを含むことを特徴とするカーボンナノチューブパターンの形成方法。 - 特許庁

An inter-electrode insulating film 36 covering the first charge transfer electrode 35 is formed while forming a constricted portion 35b which hollows with the oxygen diffusing functional film 33 in the center from a sidewall side 35a constituted by patterning the first and second conductive layers 32 and 34 by thermally oxidizing the first charge transfer electrode 35.例文帳に追加

第１電荷転送電極３５を熱酸化させることにより、第１および第２導電体層３２，３４のパターニングされた側壁面３５ａから酸素拡散性機能膜３３を中心に窪むくびれ部３５ｂを形成させながら第１電荷転送電極３５を覆う電極間絶縁膜３６を形成する。 - 特許庁

To provide a multifunctional optical laminated film using micro-patterning, with which a viewing angle is compensated by simultaneously realizing condensation and diffusion of light.例文帳に追加

本発明は、液晶表示装置（ＬＣＤ、Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）のバックライトユニットにおける光学積層フィルムに関するものであって、さらに詳しくは光の集光及び拡散を共に具現することによって、視野角を補償し得るようにマイクロパターニングを用いた多機能性光学積層フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a multiple-patterning ceramic wiring board in which a ceramic mother board can be stably and firmly sucked and fixed onto a suction table without shaking while fixing the board onto the suction table for mounting an electronic component, and an electronic component can be accurately and easily mounted in each wiring board region.例文帳に追加

電子部品を搭載するための吸引テーブル上に固定した際に、セラミック母基板がぐらつくことがなく吸引テーブルに安定して強固に吸引固定され、各配線基板領域に電子部品を正確かつ容易に搭載することが可能な多数個取りセラミック配線基板を提供すること。 - 特許庁