「PAtterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(66ページ目) - Weblio英語例文検索

Forming an overcoat layer 20a and a spacer part 20b in one body (an overcoat part 20) eliminates the need for newly patterning the spacer part 20b after having formed the overcoat layer 20a, and forming the overcoat layer 20a and the spacer 20b can be made in a single step.例文帳に追加

オーバーコート層２０ａとスペーサ部２０ｂとを一体的に形成する（オーバーコート部２０）ことにより、オーバーコート層２０ａを形成した後であらためてスペーサ部２０ｂをパターニングする必要が無く、オーバーコート層２０ａとスペーサ２０ｂとを一の工程で形成することができる。 - 特許庁

An exposure light pattern having spatially changeable intensity is formed by illuminating light on an array of a spatial light modulator and patterning the light with SLM, the patterned light is written on the object and the gray-scaled pattern is formed on the object based on the above-mentioned spatially changeable intensity.例文帳に追加

光を空間光変調器のアレイ上に照明し、光をＳＬＭによってパターニングして、空間的可変強度を有する露光光パターンを形成し、パターニングされた光を対象上に書き込み、前記空間的可変光度に基づいて対象上にグレースケール化されたパターンを形成する。 - 特許庁

In particular, the patterning step contains photolithography treatment to selectively expose the organic insulating film by using a photomask MK with average transmittance set lower in light transmitting regions LT1 for the first openings than in light transmitting regions LT2 for the second openings and to remove the exposed parts.例文帳に追加

特に、このパターニング工程は平均光透過率が第１開口用の光透過領域ＬＴ１において第２開口用の光透過領域ＬＴ２よりも低く設定されるフォトマスクＭＫを用いて有機絶縁膜を選択的に露光しこの露光部分を除去するフォトリソグラフィ処理を含む。 - 特許庁

The control unit is configured to move the shutter by a predetermined amount to affect the parts of the patterning device or the substrate masked out from the beam of radiation if projecting the patterned beam of radiation onto the target portion would involve the patterned beam of radiation extending across the periphery of the substrate.例文帳に追加

制御装置は、パターン付与された放射ビームを目標部分に投影することにより当該放射ビームが基板周縁を所定量以上超えて広がる場合、パターニングデバイスの一部もしくは基板の一部を放射ビームからマスクさせるべくシャッタを移動させる。 - 特許庁

The ground wiring 17 is made broader than other wiring members (signal wirings) 18 by patterning and hence allows not only a high current to flow, but also the openings 14 to be large, this facilitating aligning the cover film 21 and more reliably connecting to the shield film 50.例文帳に追加

また、接地配線１７はパターニングにより他の配線部材（信号配線）１８よりも幅広にされているので、大電流を通電できるだけでは無く、開口１４を大径にできるので、カバーフィルム２１の位置合わせが容易な上、シールドフィルム５０とより確実に接続される。 - 特許庁

The metal plate 2, an insulating layer 3, and an electrode 4 are pressure-bonded before both the surfaces of a substrate are subjected to resist patterning, thus manufacturing an electrode pattern and the groove of the periphery of the metal plate 2 simultaneously by etching, and then performing cutting along the groove or punching for dividing into a plurality of pieces.例文帳に追加

また、金属板２と絶縁層３と電極４を圧着後、基板両面のレジストパターニングを行って、エッチングにより電極パターンと同時に金属板２の周縁部の溝を作製し、その後、溝に沿った切削加工又は打ち抜き加工をし複数個に分割する。 - 特許庁

For the surface patterning method of etching the surface of a silicon substrate 1 by using a hard mask 3A, the hard mask 3A is provided with an uneven pattern 3b of depth t1 shallower than the film thickness (t) of the hard mask 3A together with an opening pattern 3a facing the etched part of the silicon substrate 1.例文帳に追加

ハードマスク３Ａを用いてシリコン基板１の表面をエッチング加工する表面パターニング方法であって、ハードマスク３Ａには、シリコン基板１のエッチング部分に臨む開口パターン３ａと共に、このハードマスク３Ａの膜厚ｔよりも浅い深さｔ１の凹凸パターン３ｂが設けられている。 - 特許庁

To provide a substrate for an organic EL element and its manufacturing method capable of patterning a light-emitting layer, or the like, without damaging hole transport properties, or the like, in the case of a layer for formation of a lyophilic region or a liquid-repellent region having such properties.例文帳に追加

本発明は、親液性領域および撥液性領域を形成するための層が正孔輸送性等を有する場合にその正孔輸送性等を損なうことなく、発光層等をパターニングすることが可能な有機ＥＬ素子用基板およびその製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To present a substrate for easily fabricating a fine element such as a semiconductor element, an integrated circuit, and a device for an image display at a low cost without patterning by photolithography for the fabrication of the fine element, a fabrication method for the substrate, and a thin-film forming method using the substrate.例文帳に追加

微細素子の製作に際してフォトリソグラフィによるパターニングを施すことなく、低コストで簡易に半導体素子、集積回路、画像ディスプレー用デバイス等の微細素子を作製するための基板、該基板の作製方法、及び該基板を用いる薄膜形成方法を提示すること。 - 特許庁

A first insulating layer with thickness more than 5000 Å is provided in a supporting body and executed with a patterning except the supporting body, further the second insulating layer is provided therein, an electrode layer and a piezoelectric layer are sequentially laminated and a cantilever is formed by eliminating the supporting body except a supporting body part.例文帳に追加

支持体上に厚さが５０００Å以上の第１の絶縁層を設け、該絶縁層を支持体部を残してパターニングし、さらに第２の絶縁層を設け、電極層と圧電体層を順次積層し、支持体部以外の支持体を除去してカンチレバーを形成する。 - 特許庁

A metal film 76 on a gate made of Au is formed at the opening of the mask 78 by the lift-off method, a WSi film 71a is subjected to patterning with the metal film 76 on the gate as a mask, and a gate electrode 71 made of WSi is formed right above the p-type region 90.例文帳に追加

マスク７８の開口部に、リフトオフ法によりＡｕからなるゲート上金属膜７６を形成し、ゲート上金属膜７６をマスクとしてＷＳｉ膜７１ａをパターニングして、ｐ型領域９０の直上にＷＳｉからなるゲート電極７１を形成する。 - 特許庁

A compression and patterning section 120 compresses image data of a document Pa rasterized at a scanner section 110 in a predetermined reproducible code type and code-patterns the compressed image in a predetermined code recording type to generate a compressed code pattern of a print image.例文帳に追加

圧縮及びパターン化処理部１２０は、スキャナ部１１０でラスタ化された帳票Ｐａのイメージデータを再現性を有する所定のコード形式で圧縮し、更に圧縮されたイメージのコードを所定のコード記録形式でコードパターン化して、印刷イメージの圧縮化コードパターンを生成する。 - 特許庁

This process of using two exposures with diffusion light achieves the material use efficiency, costs, responses to various substrate sizes and high-definition electrode patterning that is not successful in the ink jet method, for instance, in manufacturing TFTs, which the traditional manufacturing method cannot achieve.例文帳に追加

拡散光を用いた２回露光プロセスによって、例えばＴＦＴ作成において従来の方法では解決できない材料使用効率、コスト、多様な基板サイズに対応という課題かつ、インクジェット方式では解決できない高精細パターニングを解決するものである。 - 特許庁

To provide a carbon nanotube and a method of manufacturing the same by which a carbon nanotube forming region and a non-forming region are formed on the same substrate without patterning a non-catalytic metal or the like on the substrate and the ratio of the carbon nanotube forming region occupying in the total area of the substrate is controlled.例文帳に追加

非触媒金属等を基板上にパターニングせずに、同一基板上にカーボンナノチューブ生成領域と非生成領域とを形成でき、基板の総面積に占めるカーボンナノチューブ生成領域の割合を調整することができるカーボンナノチューブ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In manufacturing the EL color filter that constitutes the EL display unit, an extraction electrode layer pattern 2 that is respectively connected to the upper electrode or the lower electrode and a shading layer pattern (black matrix) 3 that fills between the coloring layer patterns are formed simultaneously by carrying out patterning of the conductive layer 10.例文帳に追加

ＥＬ表示装置を構成するＥＬ用カラーフィルタを製造するにあたり、導電層１０をパターンニングして、下部電極又は上部電極にそれぞれ接続される取出電極層パターン２と、着色層パターン間を埋める遮光層パターン（ブラックマトリクス）３とを同時に形成する。 - 特許庁

Striped transparent electrode groups 3 and striped reflective metallic layers consisting of the laminated layers of Cr films 4 and Al films 5 are deposited on a glass substrate 2 and further, the striped reflective metallic layers are subjected to patterning of the regions between the pixels and the light transparent parts, by which these regions are removed.例文帳に追加

ガラス基板２上にストライプ状透明電極群３およびＣｒ膜４とＡｌ膜５との積層からなるストライプ状光反射性金属層を被着し、さらにストライプ状光反射性金属層に対し画素間および光透過部をパターニングして取り除く。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a light shielding dispersion liquid, for forming a photosensitive resin composition for a black resist capable of preventing an adhesiveness to a substrate from getting worse caused by defective patterning and a sealability or the like from being deteriorated, when forming a light shielding film, and capable of obtaining a uniform shielding degree.例文帳に追加

遮光膜を形成した際、パターニング不良による基板との密着性の低下やシール性劣化等を引き起こすことがなく、また、均一な遮光度が得られるブラックレジスト用感光性樹脂組成物を形成することができるような、遮光性分散液の製造方法を提供する。 - 特許庁

At this time, after all steps for the thin film transistor array and the color filter are completed, a gate pad and a data pad to be formed at respective one ends of the gate wiring and the data wiring are exposed so that the gate pad or the data pad is not exposed to the chemicals for patterning the color filter.例文帳に追加

この時、前記ゲート配線及びデータ配線の一端に形成するゲートパッドまたはデータパッドが前記カラーフィルターをパターニングする薬液によって露出しないように、薄膜トランジスタアレイ及びカラーフィルター工程をすべて完了した後、最後の工程で前記ゲートパッド及びデータパッドを露出する。 - 特許庁

This manufacturing method of the wiring board comprises the steps of forming a wiring pattern 20 by patterning a conductive layer 12 formed on the surface of a base board 10, and forming holes 30 in the base board 10 by etching the portions exposed from the wiring pattern 20 on the surface of the base board 10.例文帳に追加

配線基板の製造方法は、ベース基板１０の表面に形成された導電層１２をパターニングして配線パターン２０を形成すること、及び、ベース基板１０の表面における配線パターン２０からの露出部をエッチングしてベース基板１０に穴３０を形成することを含む。 - 特許庁

A conductive film 112 as a pixel electrode is formed (Fig. (C)) and subjected to patterning operation using the same photomask to form a pixel electrode 119, source wiring 117, a drain electrode 118, a source region 115, a drain region 116 and an amorphous semiconductor film 114 for channel formation (Fig. (D)).例文帳に追加

画素電極となる導電膜１１２を形成し（図（Ｃ））、同一のフォトマスクにてパターニングすることにより、画素電極１１９、ソース配線１１７及びドレイン電極１１８、ソース領域１１５及びドレイン領域１１６、チャネルが形成される非晶質半導体膜１１４を形成する（図（Ｄ））。 - 特許庁

Accordingly, a thin resist film can be formed at the time of patterning the upper electrode, an increase (with gradual sloping) in the tapering angle of the upper electrode among the capacitance elements can be controlled by the control of a CD shift, and thereby an improvement in machining accuracy and fine processing can also be attained.例文帳に追加

これにより上部電極をパターニングする際のレジスト膜厚を薄膜化でき、ＣＤシフトの抑制により、容量素子間の上部電極のテーパー角度が大きく（傾斜が緩やかに）なることを抑制し、加工精度の向上や微細加工を実現することができる。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition the radiation beam, a support constructed to support a patterning device configured to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, a substrate table constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持する支持部と、基板を保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、を備える。 - 特許庁

To provide a color filter substrate which is free of a problem of pattern precision in patterning or a problem of color unevenness or color absence on a surface when not only a colored layer formed of ink using dye, but also a colored layer of ink using, especially, pigment is formed.例文帳に追加

染料を用いたインクからなる着色層のみならず、特に顔料を用いたインクにより着色層を形成しても、パターニング時にパターン精度に問題が発生しない、あるいは着色層の面内の色ムラや色抜けの問題が生じないカラーフィルタ基板を提供すること。 - 特許庁

In manufacturing semiconductor device where upper metallic wiring and a lower conductive layer are coupled witch each other by a via, plasmaless ozone ashing is performed to prevent charges from being accumulated on the surface of a metallic plug where the above via is buried after patterning the above upper metallic wiring.例文帳に追加

上部金属配線と下部導電層とをビアに連結する半導体装置の製造方法において、前記上部金属配線をパターニングした後、前記ビアを埋め込んでいる金属プラグの表面に電荷が蓄積されることを防止するために無プラズマ（plasmaless）オゾンアッシングを実施する。 - 特許庁

The method includes a step of preparing a photomask blank having a light shielding film 15 on a transparent substrate 14, a step of forming a first resist pattern by drawing and developing a resist film formed on the light shielding film, and a step of performing first patterning by etching the light shielding film with the first resist pattern as a mask.例文帳に追加

透明基板１４上に遮光膜１５を有するフォトマスクブランクを準備する工程と、遮光膜上に形成したレジスト膜を描画、現像して第１レジストパターンを形成する工程と、第１レジストパターンをマスクとして遮光膜をエッチングして第１のパターニングを行う。 - 特許庁

The method of manufacturing a photoelectric conversion device further includes a step for forming a removal part 8 by removing a portion of the membrane 3a and then patterning the membrane 3a, and a step for forming a light absorption layer 3 equipped with the removal part 8 by calcining the membrane 3a thus patterned.例文帳に追加

さらに、この光電変換装置の製造方法では、皮膜３ａの一部を除去して除去部８を形成し、皮膜３ａをパターニングする工程と、パターニングした皮膜３ａを焼成して、除去部８を備えた光吸収層３を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

The gate electrode of an insulation gate electric field effect transistor, constituting a peripheral circuit in a logical operation circuit area by patterning the first conductive layer in the logical operation circuit area, is formed while a dummy gate electrode is formed above the element separating area in the logical operation circuit area.例文帳に追加

ロジック回路領域内の第１導電層をパターニングしてロジック回路領域内に周辺回路を構成する絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲート電極を形成するとともに、ロジック回路領域内の素子分離領域の上方にダミーゲート電極を形成する。 - 特許庁

By irradiating ultraviolet rays on a region of the wetted variable film 30 overlapped with the pixel electrodes 21, patterning is carried out on lyophilic regions 22a and liquid-repellent regions 22b and liquid containing an organic compound is coated on the lyophilic region 22a to form an electroluminescent layer 23.例文帳に追加

濡れ性可変膜３０のうち画素電極２１に重なった領域に紫外線を照射することにより、親液性領域２２ａと撥液性領域２２ｂにパターニングし、親液性領域２２ａに有機化合物含有液を塗布して、エレクトロルミネセンス層２３を形成する。 - 特許庁

To provide a method for patterning carbon nanotube able to pattern it with an optional size which is from submicron to a few mm for a large area or a curved face, furthermore being unnecessary for troublesome etching or a negative plate, superior in wear resistance with noncontacting type and being advantageous for industrial mass production.例文帳に追加

大面積や曲面などに対してもサブミクロから数ミリまでの任意の大きさのパターニングが可能であり、しかも面倒なエッチング処理や原版を必要とせず、非接触方式で耐摩耗性に優れ、大量生産に適した工業的に有利なカーボンナノチューブのパターニング方法を提供する - 特許庁

After an ONO film is sandwiched to deposit two polysilicon films, patterning is performed, a memory gate electrode 8 comprising a floating gate electrode 5, an inter-electrode insulation film 6 and a control gate electrode 7 is formed on a tunnel insulation film 4, and a selection gate electrode part 18 is formed sideward thereof.例文帳に追加

ＯＮＯ膜を挟んで２つのポリシリコン膜を堆積した後、パターニングして、トンネル絶縁膜４の上に、フローティングゲート電極５，電極間絶縁膜６及びコントロールゲート電極７からなるメモリゲート電極８を形成するとともに、その側方にセレクトゲート電極部１８を形成する。 - 特許庁

A system and method for patterning a master disk or "stamper" to be used for nanoimprinting magnetic recording disks uses an air-bearing slider 30 that supports an aperture structure 50 within the optical near-field of a resist layer 11 on a rotating master disk substrate 10.例文帳に追加

磁気記録ディスクをナノインプリントするために用いられるマスタ・ディスクすなわちスタンパをパターン化するためのシステム及び方法において、回転するマスタ・ディスク基板１０上のレジスト層１１の光近接領域内に開口構造５０を支持する空気軸受けスライダー３０が用いられる。 - 特許庁

In the patterning method of a substrate for the display element having a gas barrier layer formed of at least one organic region and at least one inorganic region, wet etching is carried out, and for the etching, etching liquid of weak acid or weak base is used.例文帳に追加

少なくとも１つの有機領域と、少なくとも１つの無機領域とからなるガスバリア層を有する表示素子用基板のパターニング方法であって、ウェットエッチングを行い、かつ、該エッチングに、弱酸または弱塩基のエッチング液を用いることを特徴とする表示素子用基板のパターニング方法。 - 特許庁

When a plurality of coating patterns are plotted on the surface of the substrate 2 by the relative movement of a nozzle 3 and the substrate 2, data of the height of a nozzle position in the preceding coating are once stored in a memory and are read in the start of the next coating patterning to set the initial height of of the nozzle position with the control of a servo motor.例文帳に追加

ノズル３と基板２との相対移動により、基板２面に複数個の塗布パターンを描くとき、前回の塗布時におけるノズル位置高さデータを一旦メモリに記憶し、次の塗布パターン開始時に、それのデータを読み出し、サーボモータを制御してノズル初期高さ位置設定を行う。 - 特許庁

A groove with its planar shape of an inclined face and an angle of gradient even from the central part to the longitudinal end is obtained by heat-treating and patterning at the time of forming a resist pattern after curling up the longitudinal tip of the inclined plane of a part corresponding to the groove in a semicircle.例文帳に追加

レジストパターン形成時に、この溝に相当する部分の斜面の長手方向の先端を半円形状に丸めておき、加熱処理をしてパターニングすることで、斜面の平面形状および傾斜角度が中央部から長手方向の端部まで均一である溝を得る。 - 特許庁

To enable reliable wiring patterning by eliminating or reducing linear thermal expansion coefficient between a transfer mold and a substrate, and thus by eliminating a problem of expansion difference between the transfer mold and the substrate when they are heated up to a predetermined temperature in an embossing process.例文帳に追加

転写金型と基板との間の線熱膨張係数の差をなくするか或いは減少して、エンボス加工の際に転写金型と基板とを所定温度まで加熱しても両者間の膨張差による問題を解消し、信頼性のある配線パターニングを可能にする。 - 特許庁

After the recessed pattern having surface density equivalent to that of the recessed pattern in the display region 102 is formed in the frame part 104, when columnar spacers 25 and 50 are formed, patterning is performed so that the recessed pattern of a transparent insulating layer formed in the frame part 104 is filled up with the columnar spacer 50.例文帳に追加

また、額縁部１０４に表示領域１０２と同等の面積密度の凹パターンを形成した後に、柱状スペーサ２５、５０を形成する際に、その柱状スペーサ５０で額縁部１０４に形成された透明絶縁膜層の凹パターンを埋めるようにパターンニングする。 - 特許庁

To provide a dielectric filter, that eliminates the need for signal input output lead terminal and where a manufacture cost of formation of a conductor film in the outside and inside of a dielectric block and its patterning can be suppressed, and to provide a duplexer and manufacture of a communication unit using them.例文帳に追加

信号入出力用のリード端子を不要とし、また、誘電体ブロック内外の導体膜の形成およびそのパターンニングに関する製造コストを抑えられるようにした誘電体フィルタ、デュプレクサおよびそれらを用いた通信機器の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed wiring board, wherein, in a board for multiple patterning of a printed wiring board, an alignment mark prepared on each printed wiring board is recognized by using a recognition camera to adjust a processing position in units of printed wiring boards.例文帳に追加

プリント配線板の製造方法は、プリント配線板の多数個取り用の基板で、各プリント配線板にそれぞれに設けられたアライメントマークを認識用カメラで認識して各プリント配線板単位で加工位置の調整をそれぞれ行うプリント配線板の製造方法。 - 特許庁

To provide a mask for patterning with which a preliminarily determined pattern such as a grating or circular pattern can be formed in a single film forming process using a single mask under conventional various mask use environments such as high temperature, low temperature, vacuum and gas atmospheres, and to provide a film forming device using the mask.例文帳に追加

従来の高温・低温・真空・ガス雰囲気中などの様々なマスク使用環境下で、格子状や環状などの所定のパターンの形成を、単独のマスクを用いて１回の成膜で行うことができるパターン形成用マスク、及び該マスクを用いた成膜装置の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic electroluminescent panel capable of forming a film patterning in such a way that a passivation layer covers an organic electroluminescece layer avoiding an electrode connection part on an organic electroluminescent substrate without degradation of original performance of the passivation layer, and to provide a mask used for the same.例文帳に追加

パッシベーション層本来の性能を低下させることなく、有機エレクトロルミネッセンス基板上の電極接続部にのみパッシベーション層が被覆しないようにパターニング成膜することのできる有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法とそれに用いるマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a substrate adaptable to a fine patterning, a mask blank and a transfer mask at a high yield, by detecting an internal defect (an optically non-uniform part) of a substrate for a mask blank at low maintenance cost and at a low inspection cost using an inspection device manufactured at low cost.例文帳に追加

低コストで製造可能な検査装置を用いて、低メンテナンスコスト及び低検査コストで、マスクブランク用基板の内部欠陥（光学的不均一部分)を検出して、微細なパターニングに適応した基板、マスクブランク及び転写用マスクを高い歩留まりで製造する方法を提供する。 - 特許庁

In the patterning retardation film, a plurality of retardation areas for the right eye and a plurality of retardation areas for the left eye are alternately formed, and at least one of the retardation area for the right eye and the retardation area for the left eye is an optically functional layer having twist structure.例文帳に追加

複数の右眼用位相差領域と複数の左眼用位相差領域が交互に形成され、前記右眼用位相差領域と前記左眼用位相差領域の少なくとも一方が、ツイスト構造を有する光学機能層であることを特徴とするパターニング位相差フィルム。 - 特許庁

To provide a conductive film and a manufacturing method thereof capable of significantly improving insulation property, having high permeability and low-resistance, improving endurance and flexibility and allowing easy patterning, as well as a touch panel having an improved writing endurance and flexibility and a solar cell having improved conversion efficiency.例文帳に追加

絶縁性が著しく改善でき、高透過性、低抵抗であり、耐久性及び可撓性が向上し、簡易にパターニングが可能な導電膜及び導電膜の製造方法、並びに筆圧耐久性及び可撓性が向上したタッチパネル、及び変換効率が向上した太陽電池の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which dispenses with a patterning process of a lanthanum oxide film, relating to the semiconductor device in which a high-K gate insulating film is constituted by laminating a high-K dielectric film and a lanthanum oxide film, in an n-channel MOS transistor.例文帳に追加

ｎチャネルＭＯＳトランジスタにおいてｈｉｇｈ−Ｋゲート絶縁膜をｈｉｇｈ−Ｋ誘電体膜と酸化ランタン膜の積層により構成した半導体装置において、酸化ランタン膜のパターニングプロセスを不要とする半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive composition capable of having both transparency and conductivity even after patterning by developing, a transparent conductive film excellent in solvent resistance, water resistance, alkali resistance or the like, using the composition, a display element using the transparent conductive film, and an accumulated type solar cell.例文帳に追加

現像によるパターニング後でも透明性及び導電性が両立可能な導電性組成物、並びに該組成物を用いた耐溶剤性、耐水性、耐アルカリ性等に優れた透明導電膜、該透明導電膜を用いた表示素子、及び集積型太陽電池の提供。 - 特許庁